JP6562196B2 - 銅微粒子焼結体と導電性基板の製造方法 - Google Patents
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(B)前記塗布後の銅微粒子のうちの亜酸化銅(Cu2O)分率が7質量%以上となるものとする酸化処理
(C)前記酸化処理後の還元処理
上記製造方法においては、基板上に塗布する銅微粒子の平均粒子径は100nm以上であることが好ましい。
焼成バインダー: 10重量%以下
分散剤:0重量〜10重量%
溶媒:30重量〜90重量%
この組成割合について、処理工程(B)(C)において銅微粒子は焼成時に焼成バインダーの存在レベルを超えていることが好ましいことから、銅微粒子と焼成バインダーとの配合比は
33:1〜10:1(銅微粒子:焼成バインダー 重量比)
の範囲となるようにすることが好ましい。処理工程(B)においては、空気中での加熱や酸素ガスやその不活性ガスとの混合ガス等を用いて加熱することができる。
有機保護剤としてゼラチン(新田ゼラチン製)、原料に酸化銅(II)(日進ケムコ製)、還元剤としてヒドラジン一水和物(関東化学製もしくは純正化学製)を用いて銅粒子を合成した。すなわち、まず、ゼラチンと純水を1:30の割合で十分に溶解させた水溶液に対して、酸化銅を8重量部添加し、アンモニア水を用いてpH11に調整した後、撹拌しながら80℃昇温した後、酸化銅1molに対し2.4mol分のヒドラジン一水和物を添加して2時間反応させた。デカント法により上澄み除去および水洗を行ない得られた銅粒子に対して、5重量部の分散剤、53重量部の焼成用ビヒクル(日新化成製ECビヒクル)、53重量部のαテルピネオールを混合した後、超高圧分散機を用いて約48wt%の銅微粒子のインクを調製した。前記焼成用ビヒクルは溶剤と焼成バインダーであるエチルセルロースで構成されており、溶媒は150℃でほぼ全量揮発し、エチルセルロースの分解開始温度はTGの計測結果から約210℃であることがわかっている(図1)。
<実施例2>
実施例1と同じインクをドクターブレードによりアルミナ基板上に塗工厚40μmで印刷し、窒素中60℃での溶媒の乾燥、150℃空気中で4時間の酸化処理を経て、150℃の3%水素97%窒素混合雰囲気にて8時間の還元処理をして銅粒子の薄膜焼結体を得た。膜厚はSEM断面の観察結果より約5.3μmであった(図10)。
比較例
実施例1と同じインクをドクターブレードによりアルミナ基板上に塗工厚40μmで印刷し、窒素中60℃での溶媒の乾燥、200℃窒素中(純度99.99%)で4時間の加熱処理を経て、200℃の3%水素97%窒素混合雰囲気にて4時間の還元処理を実施した。
<実施例3>
実施例1、実施例2と比較例とから、酸化処理後に亜酸化銅を介して銅粒子間が接触することが、その後の還元処理時の焼結に作用することが確認された。そこで、どの程度まで酸化を進行させれば銅粒子間が接触するのかを検討した。
Claims (5)
- 基板上に樹脂被膜を有する銅微粒子の焼結体を生成させる、導電性の銅微粒子焼結体の製造方法であって、以下の処理工程:
(A)銅微粒子および焼成バインダーを含有し、銅微粒子と焼成バインダーとの配合比(銅微粒子:焼成バインダー)が重量比で33:1〜10:1である導電性インクの基板上への塗布、
(B)前記塗布後の銅微粒子のうちの亜酸化銅(Cu2O)分率が7質量%以上であり、かつ、亜酸化銅(Cu 2 O)の粒子直径が数10nm以下になるものとする酸化処理、および
(C)前記酸化処理後の還元処理
を含み、
前記酸化処理および前記還元処理は、130℃以上かつ焼成バインダーの熱分解開始温度より低い温度での加熱によってなされることを特徴とする導電性の銅微粒子焼結体の製造方法。 - 基板上に塗布する銅微粒子の平均粒子径は100nm以上であることを特徴とする請求項1に記載の銅微粒子焼結体の製造方法。
- 前記酸化処理は、空気中での加熱であることを特徴とする請求項1または2に記載の銅微粒子焼結体の製造方法。
- 銅微粒子の焼結体の周囲に焼成バインダーによる被膜が形成されているとともに、隣接する銅微粒子同士が接触していることを特徴とする銅微粒子焼結体。
- 請求項4の銅微粒子焼結体による配線パターンが形成されていることを特徴とする導電性基板。
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