JP6562014B2 - 発光素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態における発光素子の製造方法は、第1の主面10a及び第2の主面10bを有する基板10と、第1の主面10a上に設けられた誘電体多層膜13と、第2の主面10b上に設けられた半導体構造11とを含むウエハ100を準備する工程(A)と、基板10の第1の主面10a側から基板10の内部にレーザ光を集光させて、基板10の内部に改質領域20を形成すると同時に、誘電体多層膜13を除去する工程(B)と、改質領域20を形成した部位においてウエハ100を割断し、複数の発光素子30を得る工程(C)と、を有している。
以下、本発明の実施形態2に係る発光素子の製造方法を説明する。上述した実施形態1では、レーザ光を第1方向L1及び第2方向L2に走査するときに同様の加工条件で行うのに対して、実施形態2では、第1方向L1と第2方向L2とで加工条件を変更して行う点で主に実施形態1と異なっている。
次に、実施例に係る発光素子の製造方法について説明する。
「加工条件」
レーザ光のピーク波長:約1000nm
第1方向L1及び第2方向L2に沿った走査時のレーザ光のピークパワー:約7.9MW
第1方向L1及び第2方向L2に沿った走査時のレーザ光のパルス幅:700fsec
第1方向L1及び第2方向L2に沿った走査時のレーザ光のパルスエネルギー:5.5μJ
第1方向L1及び第2方向L2に沿った走査時のレーザショット間隔:2.0μm
第1方向L1及び第2方向L2に沿ってレーザ光を集光させる位置:第1の主面10a側から50μm
レーザ光のそれぞれの分割予定線に対する走査回数:4回
なお、レーザショット間隔は、複数の改質領域20のうち、隣接する改質領域20を形成するときにレーザ光を集光させる集光位置の間隔を意味する。また、レーザショット間隔は、レーザ光の走査時の送り速度と繰り返し周波数とにより適宜調整できる。
比較例に係る発光素子の製造方法では、レーザ光を照射することによる改質領域の形成及び誘電体多層膜の除去における加工条件を変更したこと以外は実施例と同様とした。具体的な加工条件の変更としては、実施例では第1方向L1及び第2方向L2に沿った走査時のレーザ光のピークパワーを約7.9MWとしたのに対して、比較例ではレーザ光のピークパワーを約5.0MWとした。なお、比較例において、レーザ光のパルス幅を1000fsec、パルスエネルギーを5.0μJとした。
10 基板
10a 基板の第1の主面
10b 基板の第2の主面
11 半導体構造
11n n側半導体層
11a 活性層
11p p側半導体層
12p p電極
12n n電極
13 誘電体多層膜
14 発光素子領域
15 絶縁膜
20 改質領域
20a 第1改質領域
20b 第2改質領域
21 亀裂
22 分割予定線
30 発光素子
Claims (6)
- 第1の主面及び第2の主面を有する基板と、前記第1の主面上に設けられた誘電体多層膜と、前記第2の主面上に設けられた半導体構造とを含むウエハを準備する工程(A)と、
前記基板の第1の主面側から前記基板の内部にレーザ光を集光させて、前記基板の内部に改質領域を形成すると同時に、前記誘電体多層膜を除去する工程(B)と、
前記改質領域を形成した部位において前記ウエハを割断し、複数の発光素子を得る工程(C)と、を有し、
前記基板は、前記第2の主面がc面であるサファイアからなり、
前記工程(B)において、
前記基板のa軸に平行な第1方向にレーザ光を走査することによって前記第1方向に沿って前記改質領域を複数形成する工程(B1)と、
前記基板のm軸に平行な第2方向にレーザ光を走査することによって前記第2方向に沿って前記改質領域を複数形成する工程(B2)と、を有し、
前記工程(B1)において、前記改質領域を前記第1の主面に達するように形成する発光素子の製造方法。 - 前記工程(B2)において、前記改質領域を前記第1の主面に達しないように形成する請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 前記基板の厚み方向において、前記工程(B1)で形成される前記改質領域の位置は、前記工程(B2)で形成される前記改質領域よりも前記第1の主面側である請求項1又は2に記載の発光素子の製造方法。
- 前記工程(B)において、除去される前記誘電体多層膜の幅は、8μm以上10μm以下である請求項1から3のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
- 前記工程(B)において、前記レーザ光のピークパワーは、7.0MW以上15.0MW以下である請求項1から4のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
- 前記誘電体多層膜は、SiO2膜、TiO2膜およびNb2O5膜からなる群から選択された2種以上を含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
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