JP6557585B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態によるプラズマ処理方法がより明確となると思われるため、本発明者らによって見い出された、プラズマ処理における解決しようとする課題について詳細に説明する。
2,3 セラミックプレート
4 ウェハ
6 ステージ
7 処理室
8 間隙
9 貫通穴
10 ガス流量制御手段
11 圧力検出手段
12 排気手段
13 インピーダンス整合器
14 高周波電源
15 プラズマ
16 圧力調整手段
20 マグネトロン発振器
21 導波管
22,23 ソレノイドコイル
38 双極型の電極
41 構成部材
45 加熱機構
55 直流電源
60 マスク
61 溝パターン
62 基板
70,71,72,73 コーティング膜
Claims (6)
- タングステンを含有する膜が成膜されたウェハがエッチングされることにより前記タングステンを含有する反応生成物が内壁に付着した処理室にて前記ウェハをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
酸素元素を含有する第1のガスとシリコン元素を含有する第2のガスとの混合ガスを用いて前記処理室の内壁に堆積膜を堆積させる第1の工程と、
前記第1の工程後、前記ウェハをエッチングするとともに前記堆積膜を除去する第2の工程とを有し、
前記混合ガスの流量に対する前記第1のガスの流量の比は、0.5以下であり、
前記堆積膜の膜密度は、1.93g/cm 3 以上であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - チタンを含有する膜が成膜されたウェハがエッチングされることにより前記チタンを含有する反応生成物が内壁に付着した処理室にて前記ウェハをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
酸素元素を含有する第1のガスとシリコン元素を含有する第2のガスとの混合ガスを用いて前記処理室の内壁に堆積膜を堆積させる第1の工程と、
前記第1の工程後、前記ウェハをエッチングするとともに前記堆積膜を除去する第2の工程とを有し、
前記混合ガスの流量に対する前記第1のガスの流量の比は、0.5以下であり、
前記堆積膜の膜密度は、1.94g/cm 3 以上であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - タングステンを含有する膜が成膜されたウェハがエッチングされることにより前記タングステンを含有する反応生成物が内壁に付着した処理室にて前記ウェハをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
酸素元素を含有する第1のガスとシリコン元素を含有する第2のガスとの混合ガスを用いて前記処理室の内壁に堆積膜を堆積させる第1の工程と、
前記第1の工程後、前記ウェハをエッチングするとともに前記堆積膜を除去する第2の工程とを有し、
前記堆積膜は、第1の膜と第2の膜を含み、
前記第1の膜のシリコン元素含有量は、前記第2の膜のシリコン元素含有量より多く、
前記第1の膜の膜密度は、1.93g/cm 3 以上であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - チタンを含有する膜が成膜されたウェハがエッチングされることにより前記チタンを含有する反応生成物が内壁に付着した処理室にて前記ウェハをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
酸素元素を含有する第1のガスとシリコン元素を含有する第2のガスとの混合ガスを用いて前記処理室の内壁に堆積膜を堆積させる第1の工程と、
前記第1の工程後、前記ウェハをエッチングするとともに前記堆積膜を除去する第2の工程とを有し、
前記堆積膜は、第1の膜と第2の膜を含み、
前記第1の膜のシリコン元素含有量は、前記第2の膜のシリコン元素含有量より多く、
前記第1の膜の膜密度は、1.94g/cm 3 以上であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項3または請求項4に記載のプラズマ処理方法において、
前記第1の膜は、前記混合ガスの流量に対する前記第1のガスの流量の比が0.5以下となる前記混合ガスを用いて生成され、
前記第2の膜は、前記混合ガスの流量に対する前記第1のガスの流量の比が0.5より大きい前記混合ガスを用いて生成されることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記第1のガスは、酸素ガスであり、
前記第2のガスは、四塩化シリコンガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
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