JP6552000B2 - 溶融金属処理機器およびその製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
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Description
(1)セラミックス被覆は金属基材との密着性に劣り、衝撃等によって容易に剥離することから、作業や取り扱いが難しい。
(2)セラミックス被覆に剥離や亀裂が発生すると、その部分から溶湯が侵入して金属基材を溶損し、基材の減肉が進行し、セラミックス被覆のさらなる剥離を助長する。
(3)基材としてチタンを使用する場合、基材と溶融アルミニウムとが反応して、Ti−Al化合物層が成長し、それによってチタン基材の減肉が進行し、さらに、Ti−Al化合物層は脆弱であること、チタン酸化物はAlによって不安定になり分解する傾向があることから、容易に破損する。
(4)ニッケル−リン合金めっき皮膜は、高温雰囲気での耐酸化性に劣り、他方、溶融アルミニウム浴中では、ニッケル−リン合金めっき皮膜のニッケルはアルミニウム溶湯中に容易に溶出し、皮膜に欠損が生じると、その後は、基材の湯溶浸食が起こり、防食性を喪失する。
金属基材と、
上記金属基材の、少なくとも処理しようとする溶融金属と接触する側の表面の少なくとも一部に設けられた保護層とを有し、
上記保護層は、
上記溶融金属の溶融温度での耐酸化性および上記溶融金属に対する耐性を有するセラミックス体と、
上記金属基材と上記セラミックス体との間に設けられた、チタン(Ti)およびニッケル(Ni)を含む中間層と、
を有する溶融金属処理機器である。
(1)セラミックス体と金属基材との接合性に優れていること。
(2)接合温度では、少なくとも一部は溶融していること。
(3)接合応力および熱応力を効果的に軽減できること。
(4)耐湯溶浸食性に優れていること。
金属基材に対し、処理しようとする溶融金属の溶融温度での耐酸化性および上記溶融金属に対する耐性を有するセラミックス体を隙間を空けて保持した状態でこの隙間を埋めるようにチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込んだ後、乾燥させることにより上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成する工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記金属基材と上記セラミックス体との間に上記中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルを含む中間層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法である。
金属基材の片面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる第1中間層形成用粉末層を形成したものに対し、処理しようとする溶融金属の溶融温度での耐酸化性および上記溶融金属に対する耐性を有するセラミックス板の片面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる第2中間層形成用粉末層を形成したものを複数敷き詰め、これらのセラミックス板の間の間隙に、チタンまたはチタン合金からなる目地部材の少なくとも互いに対向する一対の側面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる接合層形成用粉末層を形成したものを埋める工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記金属基材と上記セラミックス板との間に上記第1中間層形成用粉末層および上記第2中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルを含む中間層を形成するとともに、少なくとも上記セラミックス板と上記目地部材との間に上記接合層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルを含む接合層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法である。
[熱電対保護管]
第1の実施の形態においては、溶融金属処理機器が熱電対保護管である場合について説明する。
図3Aに示すように、まず、一端が閉じられた円管状の金属基材100を用意する。金属基材100の形状、長さ、厚さ等は、製造しようとする熱電対保護管に応じて決められる。次に、この金属基材100を円筒状のセラミックス体300の内部に挿入し、この金属基材100の外周面のうち保護層を形成しようとする部位に対応する位置にセラミックス体300が金属基材100に対して同軸に配置するようにする。そして、金属基材100とセラミックス体300とを隙間を介して互いに対向した状態で保持する。
[熱電対保護管]
第2の実施の形態においては、第1の実施の形態と同様に、溶融金属処理機器が熱電対保護管である場合について説明する。
図7Aに示すように、まず、円筒状のセラミックス体300の一端に栓部材600を嵌め込む。
[熱電対保護管]
第3の実施の形態においては、第1の実施の形態と同様に、溶融金属処理機器が熱電対保護管である場合について説明する。
図10Aに示すように、円筒状のセラミックス体300の一端に第1栓部材600aを嵌め込み、続いてこの第1栓部材600a上にセラミックス体300の一端面に跨がるように第2栓部材600bを設ける。
[熱電対保護管]
第4の実施の形態においては、第1の実施の形態と同様に、溶融金属処理機器が熱電対保護管である場合について説明する。
図12Aに示すように、キャップ状栓部材800を用意する。このキャップ状栓部材800は、一体に形成されたものであっても、例えば、管の一端に、中間層形成用粉末層と同様なTi−Ni合金粉末あるいはTi粉末とNi粉末との混合粉末からなる粉末層を挟んで円板を張り合わせたものであってもよい。
[ノロ掻き]
第5の実施の形態においては、溶融金属処理機器がノロ掻きである場合について説明する。
図15Aに示すように、保護層が形成されていない状態の柄910および掻き板920からなるノロ掻きを用意し、このノロ掻きの掻き板920を構成する金属基材100の表面のうち保護層を形成しようとする部位に、Ti−Ni合金粉末あるいはTi粉末とNi粉末との混合粉末、あるいは必要に応じてさらに、W粉末、Mo粉末、Nb粉末、Ta粉末、Cr粉末、Re粉末、Fe粉末、Al2 O3 粉末、SiC粉末等を含むスラリーを塗布し、乾燥させる。こうして、掻き板920の必要な部位の表面に中間層形成用粉末層500aが形成される。また、セラミックス板921の片面にTi−Ni合金粉末あるいはTi粉末とNi粉末との混合粉末、あるいは必要に応じてさらに、W粉末、Mo粉末、Nb粉末、Ta粉末、Cr粉末、Re粉末、Fe粉末、Al2 O3 粉末、SiC粉末等を含むスラリーを塗布し、乾燥させることにより、中間層形成用粉末層500bを形成する。また、目地部材922の表面にTi−Ni合金粉末あるいはTi粉末とNi粉末との混合粉末を含むスラリーを塗布し、乾燥させることにより、接合層形成用粉末層900を形成する。
[熱電対保護管]
第6の実施の形態においては、第1の実施の形態と同様に、溶融金属処理機器が熱電対保護管である場合について説明する。
まず、円筒状の金属基材100を用意する。
(1)蛍光X線装置(日本電子株式会社製エレメントアナライザー)を用いて、皮膜表面の元素分析を行った。なお、本測定では、酸素、窒素、炭素、ホウ素等の軽元素の分析は行っていない。
(2)走査型電子顕微鏡(SEM)とエネルギー分散型元素分析装置(EDAX)を用いて、金属基材100とコーティング皮膜との断面組織を観察し、各元素の濃度分布を測定した。なお、本測定手法では、炭素とホウ素の存在は確認できるが、定量的にそれらの濃度を測定することは困難であった。したがって、ここでは、炭素とホウ素が検出された相を炭化物とホウ化物と表記している。
実施例に使用した金属基材の材料は、鉄(Fe)、ステンレス鋼(SUS304、SUS310)である。比較のため、コーティングなしの金属基材についても浸漬試験を実施した。アルミナ坩堝に溶解したAl−Si系合金(ADC12)浴中に試験片を挿入し、種々の時間経過後に取り出して観察に供した。温度800℃では最長72時間の浸漬試験を行った。
実施例1は第1の実施の形態に対応するものであるが、ここでは、円筒状の金属基材100に相当するものとして、直径10mmの炭素鋼(炭素含有量が0.45重量%) の丸棒を用い、セラミックス体300として内径11mm、外径14mmのアルミナ管を用いた。
(工程1)
アルミナ管を用意した。
(工程2)
丸棒をアルミナ管内に設置した。
(工程3)
丸棒とアルミナ管との間の隙間を埋めるように、エタノール中にTi粉末とNi粉末との混合粉末(Ti粉末とNi粉末との重量比は9:1)を含むスラリーを流し込み、乾燥した。こうして、Ti粉末とNi粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成した。
(工程4)
真空中で二段階の加熱を行った。第1段の加熱は1200℃で1時間、第2段の加熱は1250℃で2時間である。こうして、中間層形成用粉末層により中間層を形成し、この中間層とアルミナ管とにより保護層を形成した。
実施例2は第2の実施の形態に対応するものであるが、ここでは、実施例1と同様に、円筒状の金属基材100に相当するものとして、直径10mmの炭素鋼(炭素含有量が0.45重量%) の丸棒を用い、セラミックス体300として内径11mm、外径14mmのアルミナ管を用い、栓部材600として厚さ0.5mmの円形のTi板を用いた。
(工程1)
アルミナ管の開口端に栓部材600として円形のTi板を嵌め込んだ。
(工程2)
丸棒をアルミナ管内に設置した。
(工程3)
丸棒とアルミナ管との間の隙間を埋めるように、実施例1と同様なTi粉末とNi粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込み、乾燥した。こうして、Ti粉末とNi粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成した。
(工程4)
真空中で二段階の加熱を行った。第1段の加熱は1200℃で1時間、第2段の加熱は1250℃で2時間である。こうして、中間層形成用粉末層により中間層を形成し、この中間層とアルミナ管とにより保護層を形成した。
実施例3は第3の実施の形態に対応するものであるが、ここでは、円筒状の金属基材100に相当するものとして、直径10mmのステンレス鋼(SUS304) の丸棒を用い、セラミックス体300として内径11mm、外径14mmのアルミナ管を用い、第1栓部材600aとして厚さ3mmの円形のW板を用い、第2栓部材600bとして厚さ0.5mmの円形のTi板を用いた。
(工程1)
アルミナ管の開口端に第1栓部材600aとしてW板を嵌め込んだ後、このW板上に第2栓部材600bとしてTi板を載せた。
(工程2)
丸棒をアルミナ管内に設置した。
(工程3)
丸棒とアルミナ管との間の隙間を埋めるように、実施例1と同様なTi粉末とNi粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込み、乾燥した。こうして、Ti粉末とNi粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成した。
(工程4)
真空中で二段階の加熱を行った。第1段の加熱は1200℃で1時間、第2段の加熱は1250℃で2時間である。こうして、中間層形成用粉末層により中間層を形成し、この中間層とアルミナ管とにより保護層を形成した。
実施例4は第4の実施の形態に対応するものであるが、ここでは、円筒状の金属基材100に相当するものとして、直径10mmの炭素鋼(炭素含有量が0.45重量%) の丸棒を用い、セラミックス体300として内径11mm、外径14mmのアルミナ管を用い、キャップ状栓部材800として厚さ0.5mmのTi管と厚さ0.5mmのTi板とを張り合わせたものを用いた。
(工程1)
丸棒の先端にキャップ状栓部材800として、Ti管とTi板とを張り合わせて作製した栓部材を被せた。
(工程2)
丸棒と栓部材との間の隙間および栓部材の一端面に、Ti粉末とNi粉末との混合粉末を含むスラリーを塗布し、乾燥した。こうして、Ti粉末とNi粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成した。
(工程3)
アルミナ管の内部に丸棒を栓部材が当たるまで挿入した。
(工程4)
真空中で二段階の加熱を行った。第1段の加熱は1200℃で1時間、第2段の加熱は1250℃で2時間である。こうして、中間層形成用粉末層により中間層を形成し、この中間層とアルミナ管とにより保護層を形成した。
実施例5は第5の実施の形態に対応するものである。実施例5では、金属基材100として厚さ2mmの軟鋼(炭素含有量が0.1重量%以下) の平板を用い、セラミックス板921として厚さ1mmのアルミナ板を用い、目地部材922として直径1mmのTi線を用いた。
軟鋼平板の片面およびアルミナ板の片面に、Ti粉末とNi粉末との混合粉末(Ti粉末とNi粉末との重量比は9:1)と高融点金属粉末(W粉末およびMo粉末)とAl2 O3 粉末との混合粉末を含むスラリーを塗布し、乾燥した。こうして、軟鋼平板の片面およびアルミナ板の片面にTi粉末とNi粉末との混合粉末と高融点金属粉末(W粉末およびMo粉末)とAl2 O3 粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成した。また、Ti線の表面にTi粉末とNi粉末との混合粉末(Ti粉末とNi粉末との重量比は9:1)を含むスラリーを塗布し、乾燥した。こうして、Ti線の表面にTi粉末とNi粉末との混合粉末からなる接合層形成用粉末層を形成した。
(工程2)
工程1で軟鋼平板の片面に上記のようにして中間層形成用粉末層を形成したものに、同じく片面に中間層形成用粉末層を形成したアルミナ板を複数敷き詰め、アルミナ板とアルミナ板との間の隙間を埋めるように、工程1で接合層形成用粉末層を表面に形成したTi線を設置し、固定した。
(工程3)
真空中で二段階の加熱を行った。第1段の加熱は1200℃で1時間、第2段の加熱は1250℃で2時間である。こうして、中間層形成用粉末層により中間層を形成し、この中間層とアルミナ板とにより保護層を形成した。また、接合層形成用粉末層により接合層を形成した。
金属基材として鉄およびステンレス鋼(SUS304)からなる試験片をAl−Si系合金(ADC12)浴中に挿入し、温度800℃で減肉量を測定した。その結果、800℃、1時間の浸漬で厚さ1mmの板材は全て溶解・消失した。これに対し、金属基材に中間層およびアルミナ管あるいはアルミナ板からなる保護層を設け、あるいはさらにTiからなる栓部材、目地部材等を形成した実施例1〜5のいずれにおいても、セラミック体あるいはセラミック板の減肉は観察されなかった。さらに、栓部材、目地部材等として用いられたTi板、Ti線等は、800℃、70時間の浸漬後において、Al、Siを含有する合金層が0.2mm程度の厚さ形成されたが、内部はTiで組成変化等は観察されなかった。
(1)鉄およびステンレス鋼(SUS304)の減肉量は800℃、1時間の浸漬で約1mmである。
(2)Al2 O3 セラミックスを被覆した鉄およびステンレス鋼(SUS304)では、800℃、70時間の浸漬でもセラミックスの溶損とセラミックスの亀裂とによる金属基材の湯溶浸食による減肉は観察されなかった。
(3)Ti−Ni合金はセラミックスと金属基材との接合に寄与し、Tiは良好な耐湯溶浸食性を有することが確認された。
(4)中間層と第1栓部材および第2栓部材とを用いることにより、セラミックスと金属基材との接合時に発生する接合応力および熱応力を軽減することができることが確認された。
参考実施例1は、第6の実施の形態において、金属基材100上に形成する内層1200、外層1300および酸化物層1400の実施例である。中間層200およびセラミック体300は形成しないので、参考実施例とする(以下同様)。参考実施例1では、含有炭素量が高い (炭素含有量が0.1重量%以上) 金属基材として鋳鋼(SCH−2)からなる金属基材を用いた。
上記の金属基材の表面に、チタンおよびニッケルを含有するスラリー状混合粉末(85重量%Ti+15重量%Ni)を塗布・乾燥した後、減圧雰囲気(油回転ポンプによる排気) で加熱し、内層を形成した。加熱温度および時間は1200℃、1時間である。
工程(1)でTiCの内層を形成した後、工程(2)では、チタン含有スラリーを内層上に塗布し乾燥し、さらにアルミニウム含有スラリーを重ね塗りした後、乾燥して加熱処理を行い、外層を形成した。
工程(2)に引き続き、減圧雰囲気に空気を導入し、1100℃、10時間の条件で酸化処理を行い、外層の表面に酸化物層を形成した。
参考実施例2では、含有炭素量が高い (炭素含有量が0.1重量%以上) 金属基材として炭素鋼(S45C)からなる金属基材を用いた。
実施例1と同様に工程(1)を実行し、内層を形成した。
工程(1)に引き続き、減圧雰囲気(油回転ポンプによる排気) に空気を導入し、1100℃、1時間の条件で酸化を行った。
参考実施例3では、含有炭素量が低い (炭素含有量が0.1重量%未満) 金属基材としてステンレス鋼(SUS310)からなる金属基材を用いた。この金属基材では、この金属基材の炭素を利用して、TiCを形成することができない。
タングステンおよびタングステン炭化物を含有するスラリー状混合粉末(40重量%Co基自溶合金+40重量%W+20重量%WC)を金属基材の表面に塗布・乾燥した後、減圧雰囲気(油回転ポンプによる排気) で、加熱した。加熱温度および時間は1250℃、2時間である。
工程(1)で中間層(内層の一部を構成)を形成した後、タングステン、クロムおよびタングステン炭化物を含有するスラリー状混合粉末(40重量%Co基自溶合金+30重量%W+10重量%Cr+20重量%WC)にチタンを含有させたものを金属基材の表面に塗布・乾燥し、その上にさらにタングステン、クロムおよびタングステン炭化物を含有するスラリー状混合粉末(40重量%Co基自溶合金+30重量%W+10重量%Cr+20重量%WC)にアルミニウムを含有させたものを重ね塗りして乾燥し、減圧雰囲気(油回転ポンプによる排気) で、加熱処理した。加熱温度および時間は1150℃、1時間である。
参考実施例4では、参考実施例3と同様に、ステンレス鋼(SUS310)からなる金属基材を用いた。
参考実施例5では、参考実施例3と同様に、ステンレス鋼(SUS310)からなる金属基材を用いた。
対象金属:鉄、SKD−11、SCH430、SUS304、SUS413、SUS310、チタン、タンタル
普通鋼(SS400)、炭素鋼(S45C)またはステンレス鋼(SUS310)からなる試験片にコーティング皮膜を形成し、溶融Al−Si合金(ADC12)に浸漬し、減肉量を測定した。図44は浸漬試験温度700℃、図45は浸漬試験温度800℃での結果を示す。図44および図45には、金属基材、内層と外層との二層コーティング、さらに、内層と外層と酸化物層との三層構造のコーティングについて、それぞれ測定した結果を示す。
図46AおよびBは、SS400からなる金属基材の表面に内層、外層および酸化物層を形成した試験片の溶融Alへの浸漬試験後の走査型電子顕微鏡写真およびEDAXを用いて測定した各元素の濃度分布(図46Aに示す写真の分析線LG1に沿っての濃度分布)の測定結果を示す。浸漬は大気中、800℃、4時間45分の条件で行った。表19は図46Bに示した各元素の濃度をまとめた分析表である。図46AおよびBならびに表19より、内層のチタン炭化物は連続層として残存しており、酸化物層はチタン酸化物(TiO2 )として存在している。基本的には、浸漬試験前後で、コーティング構造には変化はない。このことから、チタンの酸化により形成されるTiO2 は溶融Alに対して安定であることが実証された。
(1)金属・合金の減肉速度は鋼種に依存せず、ほぼ類似の時間依存性を示し、1mmの肉厚の減少に要する浸漬時間は700℃では2.6時間、800℃では1時間である。
(2)コーティングした金属・合金の減肉速度は、内層と外層と酸化物層との三層構造のコーティングは、鋼種に依存せず、ほぼ類似の時間依存性を示し、700℃では100時間浸漬後も、コーティング層が残存しており、金属基材の湯溶浸食には至っていない。800℃では約22時間後に、コーティング層が溶出分解される。コーティングの効果は、金属基材に比較して、700℃では50倍以上、800℃では10倍以上である。内層と外層から構成される複層コーティング(酸化物層がない場合) では、鋼種に依存せず、ほぼ類似の時間依存性を示し、良好な耐湯溶浸食性を示しているが、局部的に浸食が進行するのが観察される。
(3)チタンを含有する外層は良好な湯溶浸食性を有することが確認された。酸化物層として、チタン酸化物は溶融Al−Si合金に対して安定であり、チタン酸化物はアルミニウムが外層から内層へ拡散侵入するのを効果的に阻止することが明らかとなった。
Claims (11)
- 金属基材により構成された容器と、
上記容器の外周面を覆うように設けられた保護層とを有し、
上記保護層は、
酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなるセラミックス体と、
上記容器と上記セラミックス体との間に設けられた中間層と、
を有し、
上記中間層は、
チタンおよびニッケルからなり、または、タングステン、モリブデン、ニオブ、タンタル、クロム、レニウム、鉄、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群より選ばれた少なくとも一種を総和で30重量%以上80重量%以下含み、残部がチタンおよびニッケルからなり、
上記中間層は上記容器の外周面および底部の表面を覆うように設けられ、上記外周面を覆う上記中間層上に上記中間層を覆うように上記セラミックス体が設けられ、上記底部の表面を覆う上記中間層上に上記セラミックス体の一端を塞ぐようにチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる栓部材が設けられている溶融金属処理機器。 - 金属基材により構成された容器と、
上記容器の外周面を覆うように設けられた保護層とを有し、
上記保護層は、
酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなるセラミックス体と、
上記容器と上記セラミックス体との間に設けられた中間層と、
を有し、
上記中間層は、
チタンおよびニッケルからなり、または、タングステン、モリブデン、ニオブ、タンタル、クロム、レニウム、鉄、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群より選ばれた少なくとも一種を総和で30重量%以上80重量%以下含み、残部がチタンおよびニッケルからなり、
上記中間層は上記容器の外周面および底部の表面を覆うように設けられ、上記外周面を覆う上記中間層上に上記中間層を覆うように上記セラミックス体が設けられ、上記底部の表面を覆う上記中間層上に上記セラミックス体の一端を塞ぐようにタングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウム、レニウム合金、チタンまたはチタン合金からなる第1栓部材が設けられ、さらにこの第1栓部材上に上記セラミックス体の一端に跨がるようにチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる第2栓部材が設けられている溶融金属処理機器。 - 金属基材により構成された容器と、
上記容器の外周面を覆うように設けられた保護層とを有し、
上記保護層は、
酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなるセラミックス体と、
上記容器と上記セラミックス体との間に設けられた中間層と、
を有し、
上記中間層は、
チタンおよびニッケルからなり、または、タングステン、モリブデン、ニオブ、タンタル、クロム、レニウム、鉄、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群より選ばれた少なくとも一種を総和で30重量%以上80重量%以下含み、残部がチタンおよびニッケルからなり、
上記中間層は上記容器の外周面を覆うように設けられ、上記容器の底部の表面およびこの表面に連なる上記外周面の一部を覆うようにチタンおよびニッケルからなる第1接合層が設けられ、上記外周面を覆う上記中間層上に上記中間層を覆うように上記セラミックス体が設けられ、上記第1接合層を介して上記底部にチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなるキャップ状栓部材が被せられ、上記セラミックス体の一端と上記キャップ状栓部材の一端とは上記第1接合層と連なる、チタンおよびニッケルからなる第2接合層を介して接合されている溶融金属処理機器。 - 金属基材と、
上記金属基材の、少なくとも処理しようとする溶融金属と接触する側の表面の少なくとも一部に設けられた保護層とを有し、
上記保護層は、
酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなるセラミックス体と、
上記金属基材と上記セラミックス体との間に設けられた中間層と、
を有し、
上記中間層は、
チタンおよびニッケルからなり、または、タングステン、モリブデン、ニオブ、タンタル、クロム、レニウム、鉄、アルミナおよび炭化ケイ素からなる群より選ばれた少なくとも一種を総和で30重量%以上80重量%以下含み、残部がチタンおよびニッケルからなり、
上記セラミックス体は上記金属基材上に上記中間層を介して敷き詰められた複数のセラミックス板からなり、これらのセラミックス板の間の間隙がチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる目地部材により埋められ、この目地部材とこれらのセラミックス板とはチタンおよびニッケルからなる接合層を介して互いに接合されている溶融金属処理機器。 - 上記中間層に含まれる上記チタンおよびニッケルの少なくとも一部はチタン濃度範囲が50重量%以上95重量%以下のチタン−ニッケル合金として存在する請求項1〜4のいずれか一項記載の溶融金属処理機器。
- 上記溶融金属は溶融アルミニウムまたは溶融亜鉛である請求項1〜5のいずれか一項記載の溶融金属処理機器。
- 酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなり、金属基材により構成された容器を内部に挿入することができる大きさを有する管状の形状を有するセラミックス体の一端を塞ぐようにチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる栓部材を設け、上記容器を上記栓部材が設けられた上記セラミックス体の内部に挿入し、上記容器に対し、上記セラミックス体および上記栓部材を隙間を空けて保持した状態でこの隙間を埋めるようにチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込んだ後、乾燥させることにより上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成する工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記容器と上記セラミックス体および上記栓部材との間に上記中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる中間層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法。 - 酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなり、金属基材により構成された容器を内部に挿入することができる大きさを有する管状の形状を有するセラミックス体の一端を塞ぐようにタングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウム、レニウム合金、チタンまたはチタン合金からなる第1栓部材を設け、さらにこの第1栓部材上に上記セラミックス体の一端に跨がるようにチタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる第2栓部材を設け、上記容器を上記第1栓部材および上記第2栓部材が設けられた上記セラミックス体の内部に挿入し、上記容器に対し、上記セラミックス体、上記第1栓部材および上記第2栓部材を隙間を空けて保持した状態でこの隙間を埋めるようにチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込んだ後、乾燥させることにより上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成する工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記容器と上記セラミックス体および上記第1栓部材との間に上記中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる中間層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法。 - チタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなるキャップ状栓部材を金属基材により構成された容器の底部側の一端に隙間を空けて被せ、この隙間を埋めるようにチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込み、さらに上記キャップ状栓部材の上端面まで当該スラリーが形成されるようにした後、乾燥させることにより上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる接合層形成用粉末層を形成し、上記キャップ状栓部材が上記一端に被せられた上記容器を酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなり、上記容器を内部に挿入することができる大きさを有する管状の形状を有するセラミックス体の内部に上記容器の他端から挿入し、上記セラミックス体の一端を上記接合層形成用粉末層を介して上記キャップ状栓部材と接触させ、上記容器に対し、上記セラミックス体を隙間を空けて保持した状態でこの隙間を埋めるようにチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末を含むスラリーを流し込んだ後、乾燥させることにより上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる中間層形成用粉末層を形成する工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記容器と上記セラミックス体との間に上記中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる中間層を形成するとともに、上記容器と上記キャップ状栓部材との間および上記セラミックス体の上記一端と上記キャップ状栓部材との間に上記接合層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる接合層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法。 - 金属基材の片面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる第1中間層形成用粉末層を形成したものに対し、酸化物系セラミックス、窒化物系セラミックスおよび炭化物系セラミックスからなる群より選ばれた少なくとも一種からなるセラミックス板の片面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる第2中間層形成用粉末層を形成したものを複数敷き詰め、これらのセラミックス板の間の間隙に、チタン、チタン合金、タングステン、タングステン合金、モリブデン、モリブデン合金、ニオブ、ニオブ合金、タンタル、タンタル合金、クロム、クロム合金、レニウムまたはレニウム合金からなる目地部材の少なくとも互いに対向する一対の側面にチタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末からなる接合層形成用粉末層を形成したものを埋める工程と、
上記チタン−ニッケル合金粉末および/またはチタン粉末とニッケル粉末との混合粉末が溶融する温度で加熱することにより、上記金属基材と上記セラミックス板との間に上記第1中間層形成用粉末層および上記第2中間層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる中間層を形成するとともに、少なくとも上記セラミックス板と上記目地部材との間に上記接合層形成用粉末層によりチタンおよびニッケルからなる接合層を形成する工程と、
を有する溶融金属処理機器の製造方法。 - 上記中間層に含まれる上記チタンおよびニッケルの少なくとも一部はチタン濃度範囲が50重量%以上95重量%以下のチタン−ニッケル合金として存在する請求項7〜10のいずれか一項記載の溶融金属処理機器の製造方法。
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