JP6549840B2 - 大きな作用面積を有する半導体放射線検出器およびその製造方法 - Google Patents
大きな作用面積を有する半導体放射線検出器およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6549840B2 JP6549840B2 JP2014248043A JP2014248043A JP6549840B2 JP 6549840 B2 JP6549840 B2 JP 6549840B2 JP 2014248043 A JP2014248043 A JP 2014248043A JP 2014248043 A JP2014248043 A JP 2014248043A JP 6549840 B2 JP6549840 B2 JP 6549840B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- bonding
- support plate
- adhesive
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 55
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 51
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 61
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 9
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000001755 vocal effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/02002—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/44—Electric circuits
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0203—Containers; Encapsulations, e.g. encapsulation of photodiodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/024—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/44—Electric circuits
- G01J2001/4446—Type of detector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2441—Semiconductor detectors, e.g. diodes
- H01J2237/24415—X-ray
- H01J2237/2442—Energy-dispersive (Si-Li type) spectrometer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
正面側と背面側とを有する検出器チップと、
検出器チップの背面側に電気的に接続される支持プレートと、
熱電冷却器が取り付けられ、かつ、検出器チップに向かって突出するコンタクトピンを有するベースプレートと、
前記ベースプレートの前記熱電冷却器と反対側に設けられる接着プレートと、
前記コンタクトピンと前記接着プレートとの間に設けられる第1のワイヤボンド接続と、
前記接着プレートと前記支持プレートとの間を接続する接合プレートと、
前記支持プレートと前記接着プレートとの間を、前記接合プレートを介して接続する電気的接続
とを備える半導体放射線検出器が提供される。
検出器チップを支持プレートに取り付け、
検出器チップと支持プレートとの間の電気的接続を行い、
ベースプレートと、ベースプレートに取り付けられた熱電冷却器と、ベースプレートから突出するコンタクトピンとを備えるサブアセンブリにおいて、接着プレートとコンタクトピンとの間のワイヤボンド接続を行い、および
前記支持プレートを前記接着プレートに機械的におよび電気的に接続するために、中間接合プレートを使用する
ことを含む。
・導電性の接着剤を用いた、接合プレートの支持プレートへの接着、
・接合プレート上の接触点の支持プレート上の接触点へのはんだ付け、
・導電性の接着剤を用いた、接合プレートの接着プレートへの接着、
・接合プレート上の接触点の接着プレート上の接触点へのはんだ付け。
Claims (14)
- 正面側と背面側とを有する検出器チップと、
前記検出器チップの背面側に設けられ、前記検出器チップとの電気的接続を有する支持プレートと、
熱電冷却器が取り付けられ、かつ、前記検出器チップに向かって突出するコンタクトピンを有するベースプレートと、
前記熱電冷却器の前記ベースプレートと反対側の接着プレートと、
前記コンタクトピンと前記接着プレートとの間の第1のワイヤボンド接続と、
前記接着プレートと前記支持プレートとの間の接合プレートと、
前記支持プレートと前記接着プレートとの間を、前記接合プレートを介して接続する電気的接続
とを備える半導体放射線検出器。 - 前記検出器チップと前記支持プレートとの間の電気的接続が、前記検出器チップの背面側の第2のワイヤボンド接続を含み、前記第2のワイヤボンド接続の少なくとも1つが、前記支持プレート内の開口を通過している請求項1記載の半導体放射線検出器。
- 前記支持プレートの前記検出器チップと反対側に取り付けられた電子部品と、
前記支持プレート、前記接合プレート、および前記接着プレートを含む積層内の、前記電子部品を収容するための空洞
とを備え、前記空洞が、前記接合プレートの形状によって少なくとも部分的に画定される請求項1または2記載の半導体放射線検出器。 - 前記空洞が、前記接合プレートの中を貫通する孔によって少なくとも部分的に画定される請求項3記載の半導体放射線検出器。
- 前記空洞が、前記接合プレートの形状によって少なくとも部分的に画定される請求項3記載の半導体放射線検出器。
- 前記接合プレートを経由する、前記支持プレートと前記接着プレートとの間の電気的接続のうちの少なくとも1つが、前記接合プレートの導電通路を通過する請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体放射線検出器。
- 前記接合プレートを経由する、前記支持プレートと前記接着プレートとの間の電気的接続のうちの少なくとも1つが、前記接合プレートの表面上の導電トラックを経由する請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体放射線検出器。
- 前記接着プレートが、前記熱電冷却器の前記ベースプレートと反対側に取り付けられた、別の、電気的に絶縁性のプレートである請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体放射線検出器。
- 前記接着プレートが、前記熱電冷却器の構造において、前記熱電冷却器の前記ベースプレートと反対の端に設けられたプレートである請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体放射線検出器。
- 前記コンタクトピンの上端部を結ぶ線が、リムを画定し、および
前記検出器チップの正面側の作用領域が、前記リムによって取り囲まれた領域よりも大きい
ことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体放射線検出器。 - 半導体放射線検出器の製造方法であって、前記方法が、
検出器チップを支持プレートに取り付け、
前記検出器チップと前記支持プレートとの間の電気的接続を行い、
ベースプレートと、前記ベースプレートに取り付けられた熱電冷却器と、前記熱電冷却器上に設けられた接着プレートと、前記ベースプレートから突出するコンタクトピンとを有するサブアセンブリにおいて、前記接着プレートと前記コンタクトピンとの間のワイヤボンド接続を行い、および
前記支持プレートを前記接着プレートに機械的におよび電気的に接続するために、接合プレートを使用する
ことを含む方法。 - 前記検出器チップと前記支持プレートとの間の電気的接続を行う工程が、前記検出器チップの背面側の接触点を前記支持プレートの接触点にワイヤボンディングすることを含む請求項11記載の方法。
- 前記支持プレートを前記接着プレートに機械的におよび電気的に接続するために、前記接合プレートを使用する工程が、前記支持プレートの前記検出器チップと反対側に取り付けられる電子部品と、前記支持プレート、前記接合プレート、および前記接着プレートの積層内の空洞との位置合わせを含んでおり、前記空洞は、前記接合プレートの形状によって少なくとも部分的に画定される請求項11または12記載の方法。
- 前記支持プレートを前記接着プレートに機械的におよび電気的に接続するために、前記接合プレートを使用する前記工程が、
・導電性の接着剤を用いて、前記接合プレートを前記支持プレートに接着する工程、
・前記接合プレート上の接触点を前記支持プレート上の接触点にはんだ付けする工程、
・導電性の接着剤を用いて、前記接合プレートを前記接着プレートに接着する工程、
・前記接合プレート上の接触点を前記接着プレート上の接触点にはんだ付けする工程、
のうちの少なくとも1つを含む請求項11〜13のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13397545.8A EP2881995B1 (en) | 2013-12-09 | 2013-12-09 | Semiconductor radiation detector with large active area, and method for its manufacture |
EP13397545.8 | 2013-12-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015114325A JP2015114325A (ja) | 2015-06-22 |
JP6549840B2 true JP6549840B2 (ja) | 2019-07-24 |
Family
ID=49876525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014248043A Active JP6549840B2 (ja) | 2013-12-09 | 2014-12-08 | 大きな作用面積を有する半導体放射線検出器およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9548402B2 (ja) |
EP (1) | EP2881995B1 (ja) |
JP (1) | JP6549840B2 (ja) |
CN (1) | CN104701406B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2881995B1 (en) * | 2013-12-09 | 2020-07-15 | Oxford Instruments Technologies Oy | Semiconductor radiation detector with large active area, and method for its manufacture |
JP6899842B2 (ja) * | 2016-11-17 | 2021-07-07 | 株式会社堀場製作所 | 放射線検出器及び放射線検出装置 |
EP3346296B1 (en) | 2017-01-10 | 2021-10-27 | Oxford Instruments Technologies Oy | A semiconductor radiation detector |
CN110914712B (zh) * | 2017-07-26 | 2024-01-12 | 深圳帧观德芯科技有限公司 | 具有内置去极化装置的辐射检测器 |
US11398573B2 (en) | 2018-10-01 | 2022-07-26 | Moxtek, Inc | Thermoelectric cooler mount |
CN111403504B (zh) * | 2020-03-23 | 2023-06-02 | 长春长光奥闰光电科技有限公司 | 一种大靶面探测器阵列式多级半导体制冷方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0775400B2 (ja) * | 1990-12-28 | 1995-08-09 | 松下電器産業株式会社 | 固体撮像装置のカメラヘッド及びその製造方法 |
FR2729757A1 (fr) * | 1995-01-20 | 1996-07-26 | Sofradir | Dispositif de detection d'ondes electromagnetiques, et notamment de rayonnements infra-rouges |
JP3913481B2 (ja) * | 2001-01-24 | 2007-05-09 | シャープ株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2003258221A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Hamamatsu Photonics Kk | 気密封止パッケージ |
JP4036694B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2008-01-23 | シャープ株式会社 | 積層型半導体装置 |
JP4170135B2 (ja) * | 2003-04-18 | 2008-10-22 | アルプス電気株式会社 | 電子回路ユニット |
US7084010B1 (en) * | 2003-10-17 | 2006-08-01 | Raytheon Company | Integrated package design and method for a radiation sensing device |
US20050286682A1 (en) * | 2004-06-29 | 2005-12-29 | General Electric Company | Detector for radiation imaging systems |
FR2883417B1 (fr) * | 2005-03-16 | 2007-05-11 | Ulis Soc Par Actions Simplifie | Detecteur bolometrique, dispositif de detection infrarouge mettant en oeuvre un tel detecteur et procede de fabrication de ce detecteur |
US7547889B2 (en) * | 2007-03-16 | 2009-06-16 | Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique Sa | Photon detection device |
DE102008028487B3 (de) | 2008-06-13 | 2010-01-07 | Bruker Axs Microanalysis Gmbh | Sensorkopf für einen Röntgendetektor sowie diesen Sensorkopf enthaltender Röntgendetektor |
DE102009007837A1 (de) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Epcos Ag | Sensormodul und Verfahren zum Herstellen von Sensormodulen |
US20100289129A1 (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Satya Chinnusamy | Copper plate bonding for high performance semiconductor packaging |
DE102009026946B4 (de) * | 2009-06-15 | 2012-03-08 | Bruker Nano Gmbh | Störungsarmer Sensorkopf für einen Strahlungsdetektor sowie diesen störungsarmen Sensorkopf enthaltender Strahlungsdetektor |
DE102010044289A1 (de) * | 2010-09-03 | 2012-03-08 | Pndetector Gmbh | Detektormodul zur Strahlungsdetektion |
DE102011012989B4 (de) | 2011-03-03 | 2019-05-02 | Ketek Gmbh | Sensorkopf für einen Röntgendetektor |
JP5600722B2 (ja) * | 2012-11-02 | 2014-10-01 | 株式会社堀場製作所 | 放射線検出器、放射線検出装置、及びx線分析装置 |
EP2881995B1 (en) * | 2013-12-09 | 2020-07-15 | Oxford Instruments Technologies Oy | Semiconductor radiation detector with large active area, and method for its manufacture |
-
2013
- 2013-12-09 EP EP13397545.8A patent/EP2881995B1/en active Active
-
2014
- 2014-12-08 CN CN201410746127.8A patent/CN104701406B/zh active Active
- 2014-12-08 JP JP2014248043A patent/JP6549840B2/ja active Active
- 2014-12-08 US US14/563,105 patent/US9548402B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104701406B (zh) | 2018-02-06 |
EP2881995A1 (en) | 2015-06-10 |
EP2881995B1 (en) | 2020-07-15 |
US20150162455A1 (en) | 2015-06-11 |
CN104701406A (zh) | 2015-06-10 |
US9548402B2 (en) | 2017-01-17 |
JP2015114325A (ja) | 2015-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6549840B2 (ja) | 大きな作用面積を有する半導体放射線検出器およびその製造方法 | |
US9164491B2 (en) | Vapor cell atomic clock physics package | |
TWI472235B (zh) | 矽麥克風封裝體 | |
KR20130031342A (ko) | 적외선 센서 | |
JP2006145501A (ja) | 赤外線検出装置 | |
JP5600722B2 (ja) | 放射線検出器、放射線検出装置、及びx線分析装置 | |
TWI502715B (zh) | 半導體封裝 | |
JP5645245B2 (ja) | 赤外線センサモジュール | |
WO2010114001A1 (ja) | 赤外線アレイセンサ | |
JP4933934B2 (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
EP2806467B1 (en) | Semiconductor detector head and a method for manufacturing the same | |
JP5208871B2 (ja) | 光検出器 | |
JP2013137259A (ja) | 赤外線検出器 | |
JP2010243365A (ja) | 赤外線センサ装置の製造方法 | |
JP7359933B2 (ja) | 真空充填式ウェハレベル筐体により高分解能の熱赤外線センサーアレーを製作する方法 | |
JP6620176B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5102605B2 (ja) | 発光装置およびその製造方法 | |
JP6471959B2 (ja) | 赤外線応用装置 | |
JP2003204033A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20230408713A1 (en) | Semiconductor radiation detector assembly | |
JP2011203221A (ja) | 赤外線センサモジュール | |
JP2014102225A (ja) | 物理量センサおよびその製造方法 | |
JP2010245347A (ja) | 機能性デバイスの製造方法 | |
JP2011069649A (ja) | 赤外センサモジュール及び赤外センサモジュールの製造方法 | |
JP2016200467A (ja) | 複合センサデバイス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170810 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171012 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190604 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190628 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6549840 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |