JP6537838B2 - 撮像素子 - Google Patents
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Description
説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略、及び簡略化がなされている。また、様々な処理を行う機能ブロックとして図面に記載される各要素は、ハードウェア的には、CPU、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現される。したがって、これらの機能ブロックがハードウェアのみ、ソフトウェアのみ、又は、それらの組合せによっていろいろな形で実現できることは当業者には理解されるところであり、いずれかに限定されるものではない。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。
図1に実施の形態1にかかるカメラシステム1のブロック図を示す。図1に示すように、カメラシステム1は、ズームレンズ11、絞り機構12、固定レンズ13、フォーカスレンズ14、センサ15、ズームレンズアクチュエータ16、フォーカスレンズアクチュエータ17、信号処理回路18、システム制御MCU19、モニタ、記憶装置を有する。ここで、モニタ及び記憶装置は、カメラシステム1で撮影した画像を確認及び記憶するものであり、これらをカメラシステム1とは切り離した別のシステム上に設けても良い。
図2に実施の形態1にかかる撮像素子のフロアレイアウトの一部の概略図を示す。図2では、センサ15のフロアレイアウトのうちロウコントローラ20、カラムコントローラ21、画素アレイ22のフロアレイアウトのみを示した。
図3に実施の形態1にかかる撮像素子の画素ユニットの回路図を示す。図3に示す例では、フォトダイオードPD0、PD1を有する画素ユニット23と、フォトダイオードPD2、PD3を有する画素ユニット23と、を示した。なお、2つの画素ユニット23は、出力配線が異なるのみであるため、ここではフォトダイオードPD0、PD1を有する画素ユニット23のみを説明する。
続いて、実施の形態1にかかる画素ユニット23のレイアウトについて説明する。そこで、図4に実施の形態1にかかる画素ユニット23のレイアウトの概略図を示す。なお、図4に示したレイアウト図は、1つの画素ユニットのみを示すものである。また、図4では、電源配線VDD_PXについては図示を省略した。
続いて、画素ユニット23の第1の光電変換素子領域APD0の断面構造について説明する。図5に実施の形態1にかかる撮像素子の第1の光電変換素子領域APD0に含まれるフォトダイオード部分の断面図を示す。図5に示すように、画素ユニット23では、Nサブ層31の上層にPウェル層32が形成され、当該Pウェル層32の表面にフォトダイオードPD0L、PD0Rが形成される。そして、Nサブ層31及びPウェル層32からなる基板層の上層には、配線33〜35が形成される配線層が設けられる。画素ユニット23におけるマイクロレンズは、配線層の上層に形成される。マイクロレンズが形成されるマイクロレンズ層では、カラーフィルタ36の上層にマイクロレンズ37が形成される。そして、図5に示すように、画素ユニット23では、フォトダイオード対を覆うようにマイクロレンズ37が形成される。
ここで、カメラシステム1におけるフォーカスについて説明する。そこで、図6に実施の形態1にかかる撮像素子における位相差オートフォーカスの原理を説明する図を示す。図6では、センサ表面に形成される評価面(例えば、像面)とフォーカスレンズから入射した光の像が合焦する合焦面との位置関係を示した。
続いて、実施の形態1にかかるセンサ15のオートフォーカス処理時の動作について説明する。そこで、図8に実施の形態1にかかる撮像素子のオートフォーカス制御時の動作を示すタイミングチャートを示す。なお、図8の説明においては、各配線を介して伝達される信号に各配線に付した符号を用いて説明を行う。
比較例にかかる画素ユニットについてまず説明を行う。図9に比較例にかかる画素ユニットの回路図を示す。図9では、図3で示した回路図と同様に2つの画素ユニットを示した。
実施の形態2では、実施の形態1にかかるセンサ15の別の形態となるセンサ15aについて説明する。そこで、図14に実施の形態2にかかるセンサ15aのフロアレイアウトの概略図を示す。なお、図14では、センサ15aのフロアレイアウトのうちロウコントローラ40、カラムコントローラ41、画素アレイ42のフロアレイアウトのみを示した。
実施の形態3では、実施の形態1にかかる画素ユニット23の別の形態について説明する。そこで、実施の形態3にかかる画素ユニット53の回路図を図19に示す。図19に示すように、実施の形態3にかかる画素ユニット53は、実施の形態1にかかる画素ユニット23から選択トランジスタTSELA0、TSELB0、TSELA1、TSELB1を削除し、増幅トランジスタのソースを出力配線に直接接続したものである。また、図19に示すように、実施の形態3にかかる画素ユニット53では、リセットトランジスタRSTA0、RSTB0、RSTA1、RSTB1のドレインにドレインリセット配線RST_DRAINが接続される。このドレインリセット配線RST_DRAINには、画素ユニット53を活性化させる期間にイネーブル状態(例えば、ハイレベル)となるドレインリセット信号が伝達される。
実施の形態4では、実施の形態2にかかる画素ユニット43の別の形態について説明する。そこで、実施の形態4にかかる画素ユニット63の回路図を図22に示す。図22に示すように、実施の形態4にかかる画素ユニット63は、実施の形態2にかかる画素ユニット43から選択トランジスタTSEL0、TSEL1、TSEL2を削除し、増幅トランジスタのソースを出力配線に直接接続したものである。また、図22に示すように、実施の形態4にかかる画素ユニット63では、リセットトランジスタRST0、RST1、RST2のドレインにドレインリセット配線RST_DRAINが接続される。このドレインリセット配線RST_DRAINには、画素ユニット63を活性化させる期間にイネーブル状態(例えば、ハイレベル)となるドレインリセット信号が伝達される。
11 ズームレンズ
12 絞り機構
13 固定レンズ
14 フォーカスレンズ
15 センサ
16 ズームレンズアクチュエータ
17 フォーカスレンズアクチュエータ
18 信号処理回路
19 システム制御MCU
20 ロウコントローラ
21 カラムコントローラ
22、42 画素アレイ
23、43、53、63 画素ユニット
31 Nサブ層
32 Pウェル層
33 配線
34 配線
35 配線
36 カラーフィルタ
37 マイクロレンズ
40 ロウコントローラ
41 カラムコントローラ
Claims (8)
- 第1の光電変換素子と、
前記第1の光電変換素子に隣接し、前記第1の光電変換素子と共通に設けられるマイクロレンズを介して入射する光を受光する第2の光電変換素子と、
前記第1の光電変換素子から電荷を読み出す第1の転送トランジスタと、
前記第2の光電変換素子から電荷を読み出す第2の転送トランジスタと、
前記第1の転送トランジスタと前記第2の転送トランジスタとに共通する第1の読み出しタイミング信号を与える第1の読み出しタイミング信号配線と、
前記第1の転送トランジスタを介して読み出された電荷に基づき生成される出力信号を出力する第1の出力配線と、
前記第2の転送トランジスタを介して読み出された電荷に基づき生成される出力信号を出力する第2の出力配線と、
前記第1の転送トランジスタを介して出力される電荷により生じる第1の電圧を増幅して前記第1の出力配線に出力する第1の増幅トランジスタと、
前記第2の転送トランジスタを介して出力される電荷により生じる第2の電圧を増幅して前記第2の出力配線に出力する第2の増幅トランジスタと、
第5の光電変換素子と、
前記第5の光電変換素子に隣接し、前記第5の光電変換素子と共通に設けられるマイクロレンズを介して入射する光を受光する第6の光電変換素子と、
前記第5の光電変換素子から電荷を読み出し、前記第2の増幅トランジスタに読み出した電荷により生じる第5の電圧を出力する第5の転送トランジスタと、
前記第6の光電変換素子から電荷を読み出す第6の転送トランジスタと、
前記第5の転送トランジスタと前記第6の転送トランジスタとに共通し、かつ、前記第1の読み出しタイミング信号とは異なるタイミングでイネーブル状態となる第3の読み出しタイミング信号を与える第3の読み出しタイミング信号配線と、を有し、
前記第5の転送トランジスタを介して出力される電荷により生じる第5の電圧を前記第2の増幅トランジスタにより増幅して前記第2の出力配線に出力する
を有する撮像素子。 - 第3の光電変換素子と、
前記第3の光電変換素子に隣接し、前記第3の光電変換素子と共通に設けられるマイクロレンズを介して入射する光を受光する第4の光電変換素子と、
前記第3の光電変換素子から電荷を読み出し、前記第1の増幅トランジスタに読み出した電荷により生じる第3の電圧を出力する第3の転送トランジスタと、
前記第4の光電変換素子から電荷を読み出し、前記第2の増幅トランジスタに読み出した電荷により生じる第4の電圧を出力する第4の転送トランジスタと、
前記第3の転送トランジスタと前記第4の転送トランジスタとに共通し、かつ、前記第1の読み出しタイミング信号とは異なるタイミングでイネーブル状態となる第2の読み出しタイミング信号を与える第2の読み出しタイミング信号配線と、
を有する請求項1に記載の撮像素子。 - 前記第1の増幅トランジスタと前記第1の出力配線との間に設けられる第1の選択トランジスタと、
前記第2の増幅トランジスタと前記第2の出力配線との間に設けられる第2の選択トランジスタと、
前記第1の選択トランジスタ及び前記第2の選択トランジスタに共通する選択信号を与える選択信号配線と、
を有する請求項1に記載の撮像素子。 - ドレインが前記第1の増幅トランジスタのゲートと電気的に接続され、ソースにリセット電圧が印加される第1のリセットトランジスタと、
ドレインが前記第2の増幅トランジスタのゲートと電気的に接続され、ソースに前記リセット電圧が印加される第2のリセットトランジスタと、
前記第1のリセットトランジスタ及び前記第2のリセットトランジスタに共通するリセット信号を与えるリセット信号配線と、
を有する請求項1に記載の撮像素子。 - 一つのマイクロレンズの下部に第1の左光電変換素子と第1の右光電変換素子とが形成される第1の光電変換素子領域と、
一つのマイクロレンズの下部に第2の左光電変換素子と第2の右光電変換素子とが形成される第2の光電変換素子領域と、
前記第2の光電変換素子領域に面する前記第1の光電変換素子領域の辺に形成され、ゲートに第1の読み出しタイミング信号配線が接続され、前記第1の左光電変換素子に対応して設けられる第1の転送トランジスタと、
前記第2の光電変換素子領域に面する前記第1の光電変換素子領域の辺に形成され、ゲートに前記第1の読み出しタイミング信号配線が接続され、前記第1の右光電変換素子に対応して設けられる第2の転送トランジスタと、
前記第1の光電変換素子領域に面する前記第2の光電変換素子領域の辺に形成され、ゲートに第2の読み出しタイミング信号配線が接続され、前記第2の左光電変換素子に対応して設けられる第3の転送トランジスタと、
前記第1の光電変換素子領域に面する前記第2の光電変換素子領域の辺に形成され、ゲートに前記第2の読み出しタイミング信号配線が接続され、前記第2の右光電変換素子に対応して設けられる第4の転送トランジスタと、
前記第1の転送トランジスタと前記第3の転送トランジスタとを接続する領域に形成される第1のフローティングディフュージョン領域と、
前記第2の転送トランジスタと前記第4の転送トランジスタとを接続する領域に形成される第2のフローティングディフュージョン領域と、
前記第1のフローティングディフュージョン領域に接続される配線がゲートに接続される第1の増幅トランジスタと、
前記第2のフローティングディフュージョン領域に接続される配線がゲートに接続される第2の増幅トランジスタと、
前記第1のフローティングディフュージョン領域に対応して設けられる第1のリセットトランジスタと、
前記第2のフローティングディフュージョン領域に対応して設けられる第2のリセットトランジスタと、
前記第1の光電変換素子領域と隣り合う位置に形成され、一つのマイクロレンズの下部に第3の左光電変換素子と第3の右光電変換素子とが形成される第3の光電変換素子領域と、
前記第2の光電変換素子領域と隣り合う位置に形成され、一つのマイクロレンズの下部に第4の左光電変換素子と第4の右光電変換素子とが形成される第4の光電変換素子領域と、
前記第4の光電変換素子領域に面する前記第3の光電変換素子領域の辺に形成され、前記第3の左光電変換素子に対応して設けられる第5の転送トランジスタと、
前記第3の光電変換素子領域に面する前記第4の光電変換素子領域の辺に形成され、前記第4の左光電変換素子に対応して設けられる第6の転送トランジスタと、を有し、
前記第2のフローティングディフュージョン領域は、前記第2の転送トランジスタ、前記第4の転送トランジスタ、前記第5の転送トランジスタ及び前記第6の転送トランジスタを接続する撮像素子。 - 前記第1の増幅トランジスタ及び前記第2の増幅トランジスタは、前記第1の光電変換素子領域と前記第2の光電変換素子領域との間に形成される請求項5に記載の撮像素子。
- 前記第1のリセットトランジスタ及び前記第2のリセットトランジスタは、前記第1の光電変換素子領域と前記第2の光電変換素子領域との間に形成され、ソースが一の領域に形成される請求項5に記載の撮像素子。
- 前記第1の増幅トランジスタのドレイン側の拡散領域は、第1の選択トランジスタを介して第1の出力配線に接続され、
前記第2の増幅トランジスタのドレイン側の拡散領域は、第2の選択トランジスタを介して第2の出力配線に接続される請求項5に記載の撮像素子。
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