以下に添付図面を参照して、本発明に係るゴムローラの再生装置の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。
図1は、本実施形態のゴムローラの再生装置を表す平面図、図2は、ゴムローラの再生装置を表す正面図、図3は、ゴムローラの再生装置を表す一部切欠側面図、図4は、ゴムローラの再生装置における押圧用ローラを表す正面図である。
印刷機は、給紙装置と印刷装置と排紙装置とから構成されており、印刷装置は、インキ供給装置としてのインキ供給源、インキ元ローラ、インキライダーローラと、湿し装置としての水着けローラ、水往復ローラ、水ライダーローラ、水練りローラ、インキ受渡しローラ、インキ練りローラ、インキ往復ローラ、インキ着けローラと、版胴と、ブランケット胴などにより構成されている。この場合、インキライダーローラ、インキ練りローラ、インキ着けローラ、水着けローラ、水ライダーローラ、水練りローラは、ゴムローラであって、金属製(または、カーボン製)のローラ本体の外周面に合成ゴム、例えば、ニトリルゴム(NBR)製のゴムが巻付けられて形成されている。
ところで、このゴムローラは、一定期間の使用によりインキと反応し、このインキに含まれる可塑剤抽出成分によりゴム固体内の可塑剤が抽出されることで、ゴム硬度が上昇し、ローラの直径が小さくなる。本実施形態のゴムローラの再生装置は、一定期間の使用によりゴム硬度が上昇し、ローラの直径が小さくなり、表面にグレーズが付着したゴムローラを初期に近い状態に戻すものである。
本実施形態にて、図1から図4に示すように、ゴムローラの再生装置10は、第1支持装置11と、押圧用ローラ12と、第2支持装置13と、ローラ移動装置14と、ローラ回転装置15と、溶剤供給装置16とを備えている。
基板21は、所定の大きさを有し、第1支持装置11、押圧用ローラ12、第2支持装置13、ローラ移動装置14、ローラ回転装置15、溶剤供給装置16などが設置されている。第1支持装置11と第2支持装置13は、この基板21上に並設されている。第1支持装置11は、再生するゴムローラ100を回転自在に支持するものである。一対の支持板22,23は、基板21における長手方向の一端部と他端部に固定されており、上面部に支持するゴムローラ100の軸方向に沿ってレール部24,25が固定されている。そして、支持部26,27は、このレール部24,25に沿って移動自在に支持されている。
支持部26は、下部が支持板22上に載置されると共に下部のガイド部27がレール部24にガイドされており、上部にゴムローラ100の一方の支持軸100aを回転自在に支持する軸受部28が設けられている。支持部29は、下部が支持板23上に載置されると共に下部のガイド部30がレール部25にガイドされており、上部にゴムローラ100の他方の支持軸100bを回転自在に支持する軸受部31が設けられている。各軸受部28,31は、ゴムローラ100の各支持軸100a,100bを着脱自在であり、固定具32,33が設けられている。
第1支持装置11は、支持したゴムローラ100における軸方向の支持位置を調整する支持位置調整装置17が設けられている。また、ゴムローラの再生装置10は、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を軸方向に往復相対移動させる第1揺動装置18が設けられている。
位置決め板34は、一方の支持板22に隣接して基板21上に固定されており、ゴムローラ100の軸方向に所定間隔で複数の位置決め孔35が形成されている。一方、支持部26は、エアシリンダ36が固定されており、ゴムローラ100の軸方向に沿って往復動する駆動ロッド37が位置決め板34側に延出され、先端部に位置決めブラケット38が連結されている。この位置決めブラケット38は、L字形状をなし、水平部が位置決め板34上に載置され、鉛直部に駆動ロッド37が連結されている。また、位置決めブラケット38は、複数の位置決め孔35のいずれかに対応する貫通孔39が形成され、上方から位置決めピン40が挿通され、この位置決めピン40が複数の位置決め孔35のいずれかに嵌合している。
ここで、支持位置調整装置17は、位置決め板34、複数の位置決め孔35、位置決めブラケット38、貫通孔39、位置決めピン40により構成される。また、第1揺動装置18は、エアシリンダ36、駆動ロッド37により構成される。
第2支持装置13は、押圧用ローラ12を回転自在に支持するものであり、第1支持装置11に隣接して並列に配置されており、ゴムローラ100と押圧用ローラ12が隣接して平行をなして配置される。L字形状をなす一対の取付ブラケット41は、水平部が支持板22上に固定され、L字形状をなす一対の取付ブラケット42は、水平部が支持板23上に固定されている。支持部43は、下部が取付ブラケット41に取付軸44により回動自在に支持され、上部に押圧用ローラ12の一方の支持軸12aを回転自在に支持する軸受部45が設けられている。支持部46は、下部が取付ブラケット42に取付軸47により回動自在に支持され、上部に押圧用ローラ12の他方の支持軸12bを回転自在に支持する軸受部48が設けられている。そのため、各支持部43,46は、押圧用ローラ12の軸方向に沿う軸(取付軸44,47)を中心として回動自在に支持される。
本実施形態では、押圧用ローラ12は、鉄製のローラであり、ゴムローラ100を押圧したときに、このゴムローラ100を弾性変形させることができるものであればよい。そのため、押圧用ローラ12は、表面がゴムローラ100の硬度と同等、または、ゴムローラ100の硬度より硬質なローラであることが望ましい。
ローラ移動装置14は、押圧用ローラ12をゴムローラ100側に移動することで、この押圧用ローラ12の表面をゴムローラ100の表面に接触させるものである。支持部43に隣接するエアシリンダ49は、下部が取付軸50により支持板22に回動自在に支持され、上方に延出する駆動ロッド51の先端部が支持部43の連結部52に連結されている。支持部46に隣接するエアシリンダ53は、下部が取付軸54により支持板22に回動自在に支持され、上方に延出する駆動ロッド55の先端部が支持部47の連結部56に連結されている。なお、各軸受部45,48は、自動調心軸受である。各エアシリンダ49,53により駆動ロッド51,55を伸長することで、各支持部43,46を介して押圧用ローラ12をゴムローラ100側に移動することができる。
ローラ回転装置15は、押圧用ローラ12を駆動回転するものである。駆動モータ57は、第2支持装置13における押圧用ローラ12の一端部側に配置され、取付ブラケット58により支持部43に固定されている。駆動モータ57の回転中心と、押圧用ローラ12の軸が一致しており、駆動モータ57は、回転軸59の先端部と押圧用ローラ12の支持軸12aとがカップリング60により連結されている。そのため、駆動モータ57を駆動することで、押圧用ローラ12を回転することができる。また、ローラ移動装置14により押圧用ローラ12がゴムローラ100に接触していると、押圧用ローラ12によりゴムローラ100を連れ回りさせることができる。
また、第2支持装置13は、ゴムローラ100と押圧用ローラ12の対接角度を調整する対接角度調整装置19が設けられている。この対接角度調整装置19は、各支持部43,46と各軸受部45,48との間に設けられた偏心部61,62により構成される。この各偏心部61,62は、回転することで、各支持部43,46に対する押圧用ローラ12の軸を径方向にずらすものであり、それによりゴムローラ100と押圧用ローラ12の対接角度を変更することができる。即ち、押圧用ローラ12は、支持軸12a,12bが支持され、この位置を支点としてゴムローラ100側に移動されることから、押圧用ローラ12がゴムローラ100に押圧されたとき、軸方向の中間部が離間する方向に撓んでしまう。そこで、押圧用ローラ12の角度を変更すると、押圧用ローラ12によりゴムローラ100への押圧力が軸方向で均等となる。
溶剤供給装置16は、ゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤を供給するものである。枠体63は、第1支持装置11の上方に配置されるような下向きのコ字形状をなし、端部が第1支持装置11における外側の基板21に固定されている。枠体63は、第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の上方で、水平をなす支持部63aに複数の溶剤供給部64が設けられている。この各溶剤供給部64は、ゴムローラ100の軸方向に沿って直線状をなして配置されており、溶剤供給ホース65が連結されている。そのため、各溶剤供給部64は、溶剤供給源(図示略)から溶剤供給ホース65を通して供給された溶剤をゴムローラ100の表面に向けて滴下することができる。このとき、溶剤供給部64は、溶剤をゴムローラ100の中心より押圧用ローラ12側に滴下する。
なお、溶剤は、可塑剤が含まれる溶液であって、ゴムローラ100の表面に供給可能となっている。可塑剤は、ゴムローラ100の表面に配置されたゴム層に柔軟性を与える物質である。
また、ゴムローラの再生装置10は、除去プレート(グレーズ除去部材)71と、除去プレート移動装置72が設けられている。除去プレート71は、ゴムローラ100の表面に付着して堆積したグレーズを除去するものであり、除去プレート移動装置72は、除去プレート71をゴムローラ100の表面に接触させるものである。
支持板73,74は、各支持板22,23の間で基板21上に固定されている。昇降板75は、第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の下方、つまり、各支持部26,29の間に水平をなして配置され、支持板73,74にガイド装置76,77により鉛直方向に沿って移動自在に支持されている。一対のエアシリンダ78,79は、支持板73,74上に固定され、駆動ロッド80,81の先端部が昇降板75に連結されている。昇降板75は、上面部に容器82と除去プレート71が装着されている。容器82は、上方が開口された箱型形状をなし、内部の底面部に除去プレート71が固定されている。除去プレート71は、ゴムローラ100の表面に接触する除去面71aが設けられている。そのため、エアシリンダ78,79を駆動して駆動ロッド80,81を伸長することで、昇降板75を上昇して除去プレート71をゴムローラ100に接触させることができる。
なお、除去プレート71をプレート形状としたが、シート形状としてもよい。ゴムロール100の両側で、支持板21,22,23上に繰出ロール83と巻取ロール84が設けられており、繰出ロール83にグレーズ除去シート85の基端部が巻き取られ、除去プレート71の上方を通って先端部が巻取ロール84に巻き取られる。グレーズ除去部材をグレーズ除去シート85とすることで、ゴムローラ100の表面に接触する除去面が汚れた時点で、繰出ロール83によりグレーズ除去シート85の新しい面を繰り出すことにより、当り面をフレッシュにすることができる。
また、ゴムロール100の一方で、支持板21,22,23上にラップ巻取部91と、洗浄シート巻取部92が設けられている。ラップ巻取部91は、ラップフィルムが巻き取られており、洗浄シート巻取部92は、洗浄シートが巻き付けられている。例えば、ゴムロール100の表面に溶剤を塗布した後、ゴムローラの再生処理を実行する。その後、このラップフィルムや洗浄シートを巻き付けて被覆し、所定時間を経過させることで溶剤をゴムローラに浸透促進させる。
なお、上述した実施形態では、ゴムローラ100の下方に除去プレート71を配置したが、この構成に限定されるものではない。図7は、本実施形態のゴムローラの再生装置の変形例を側面図である。
本実施形態のゴムローラの再生装置の変形例は、図7に示すように、除去プレート(グレーズ除去部材)151と、除去プレート移動装置152が設けられている。除去プレート151は、ゴムローラ100の表面に付着して堆積したグレーズを除去するものであり、除去プレート移動装置152は、除去プレート151をゴムローラ100の表面に接触させるものである。
支持ブラケット153は、基板21上に固定されており、揺動板154は、第1支持装置11に支持されたゴムローラ100における押圧用ローラ12と反対側の側方に略鉛直をなして配置され、下部が支持ブラケット153に回動軸155により水平方向に沿って揺動自在に支持されている。エアシリンダ156は、基板21上に固定され、駆動ロッド157の先端部がレバー158を介して回動軸155に連結されている。揺動板154は、ゴムローラ100側の面に除去プレート151が装着されている。容器82は、上方が開口された箱型形状をなし、ゴムローラ100の下方に配置されている。そのため、エアシリンダ156を駆動して駆動ロッド157を伸長することで、レバー158及び回動軸155を介して揺動板154を揺動し、除去プレート151をゴムローラ100に接触させることができる。
以下、本実施形態のゴムローラの再生装置の作用について具体的に説明する。
図1及び図2に示すように、まず、再生するゴムローラ100を第1支持装置11に支持する。支持位置調整装置17にて、位置決めピン40を位置決め孔35と貫通孔39から抜き取り、位置決め板34に対して位置決めブラケット38を自由状態とする。ここで、ゴムローラ100の支持軸100aを軸受部28により支持部26に支持し、支持軸100bを軸受部31により支持部29に支持し、固定具32,33によりそれぞれ抜け止めする。そして、位置決めピン40を貫通孔39から位置決め孔35に嵌合し、位置決め板34に対して位置決めブラケット38を固定する。この場合、ゴムローラ100の全長が押圧用ローラ12の全長内に入る位置に位置決めする。
ゴムローラ100が第1支持装置11に支持されると、図5及び図6に示すように、次に、ローラ移動装置14により押圧用ローラ12をゴムローラ100側に移動し、押圧用ローラ12の表面によりゴムローラ100の表面を押圧する。各エアシリンダ49,53を駆動して駆動ロッド51,55を伸長すると、各支持部43,46が取付軸50,54を支点として図6にて時計回り方向に回動し、押圧用ローラ12がゴムローラ100側に移動し、押圧用ローラ12によりゴムローラ100の表面に押圧力Cが付与される。
ゴムローラ100に対して押圧用ローラ12から押圧力Cが付与されると、続いて、ローラ回転装置15により押圧用ローラ12を駆動回転することで、ゴムローラ100を連れ回りさせる。駆動モータ57を駆動すると、押圧用ローラ12が、図6にて時計回り方向(矢印B)に回転し、対接しているゴムローラ100が、図6にて反時計回り方向(矢印A)に連れ回り回転する。このとき、ゴムローラ100は、押圧用ローラ12により表面の全周にわたって断続的に押圧力Cが付与されることとなる。
ゴムローラ100が押圧用ローラ12により押圧力Cが付与されたままで回転し始めると、続いて、図1及び図2に示すように、第1揺動装置18によりゴムローラ100を軸方向に往復移動することで、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を軸方向に往復相対移動させる。エアシリンダ36を往復駆動すると、位置決め板34に固定された位置決めブラケット38に対して支持部26が往復移動することで、ゴムローラ100が軸方向に往復移動し、押圧用ローラ12と往復相対移動する。
また、同時に、溶剤供給装置16によりゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤Sを供給する、溶剤供給源を駆動すると、溶剤Sが溶剤供給ホース65を通して各溶剤供給部64に供給され、この各溶剤供給部64から溶剤Sがゴムローラ100の中心より押圧用ローラ12側の表面に滴下される。
すると、図5及び図6に示すように、ゴムローラ100が矢印A方向に回転し、押圧用ローラ12が矢印B方向に回転するため、ゴムローラ100と押圧用ローラ12との対接位置に溶剤Sが溜まり、この溶剤Sがゴムローラ100の軸方向に広がることで、ゴムローラ100の軸方向における全ての表面に溶剤Sが塗布されることとなる。また、ゴムローラ100と押圧用ローラ12が対接した状態で回転することで、溶剤Sがゴムローラ100の周方向における全ての表面に塗布されることとなる。なお、ゴムローラ100と押圧用ローラ12とは、同期回転であってもよく、異速(スリップ)回転であってもよい。また、ゴムローラ100が往復移動するため、ゴムローラ100と押圧用ローラ12との対接位置に溜まった溶剤Sがゴムローラ100と押圧用ローラ12の軸方向に広がりやすくなり、ゴムローラ100の軸方向における全ての表面に溶剤Sが塗布されることとなる。
このとき、ゴムローラ100は、溶剤Sが塗布されるだけでなく、押圧力Cが付与されることから、可塑剤がゴムローラ100内に入り込みやすくなる。即ち、ゴムローラ100は、押圧用ローラ12の対接位置だけに押圧力Cが付与されるため、ゴムローラ100の表面に対して押圧力Cが断続的に付与されることとなる。そのため、ゴムローラ100は、押圧用ローラ12による押圧力Cにより収縮し、特に、その押圧力Cが開放されるときに溶剤Sに含まれる可塑剤が表面から内部に入り込んで膨張する。すると、ゴムローラ100は、ゴムの硬度が低下すると共に、外径が大きくなって初期に近い状態に戻る。
その後、図6に示すように、押圧用ローラ12により回転及び揺動するゴムローラ100に押圧力Cを付与した状態で、除去プレート移動装置72が除去プレート71をゴムローラ100の表面に接触させることで、除去プレート71によりゴムローラ100の表面に付着して堆積したグレーズを除去する。エアシリンダ78,79を駆動し、駆動ロッド80,81を伸長すると、昇降板75と共に容器82と除去プレート71が上昇し、除去プレート71の除去面71aが回転しているゴムローラ100の表面に接触する。ゴムローラ100は、表面に溶剤Sが付着した状態で押圧力Cが付与されていることから、表面に付着しているグレーズが剥離されやすくなる。ここで、除去プレート71の除去面71aをゴムローラ100の表面に接触させると、ゴムローラ100の表面に浮き出したグレーズが除去プレート71により除去される。
このゴムローラ再生処理を所定時間にわたって実施することで、ゴムローラ100は、ゴムの硬度が低下すると共に外径が大きくなり、且つ、表面のグレーズが除去され、初期に近い状態に戻る。
また、ここで、本実施形態のゴムローラの再生装置の作動のタイミングについて説明する。図8は、本実施形態のゴムローラの再生装置の作動を表すタイムチャートである。なお、サイクル運転時間とは、ゴムローラの再生装置のあるモード設定における1サイクル運転時間である。
図8に示すように、時間t1にて、ローラ移動装置14の各エアシリンダ49,53を駆動することで、押圧用ローラ12をゴムローラ100側に移動し、この押圧用ローラ12によりゴムローラ100の表面に押圧力Cを付与する。時間t2にて、ローラ回転装置15の駆動モータ57を駆動することで押圧用ローラ12が回転し、対接しているゴムローラ100が連れ回り回転する。
時間t3にて、第1揺動装置18のエアシリンダ36を往復駆動することでゴムローラ100を軸方向に往復移動し、押圧用ローラ12と往復相対移動させる。同時に、溶剤供給装置16によりゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤Sを供給する、このとき、溶剤供給装置16は、溶剤Sを断続的にゴムローラ100の表面に滴下する。すると、溶剤Sがゴムローラ100の軸方向に広がると共に、ゴムローラ100の周方向における全ての表面に塗布される。時間t4にて、除去プレート移動装置72のエアシリンダ78,79を駆動することで、除去プレート71を上昇し、除去面71aを回転しているゴムローラ100の表面に接触させる。
溶剤供給装置16は、溶剤供給部64がゴムローラ100における軸方向の端部に対向して2個、中央部に対応して2個、合計4個の溶剤供給部64がゴムローラ100の軸方向に均等間隔で配置されている。なお、溶剤供給装置16における溶剤供給部64の個数は4個に限定されるものでなく、適宜設定可能である。時間t3にて、全ての溶剤供給部64が同じタイミングで断続的に溶剤Sをゴムローラ100に滴下する。時間t5では、ゴムローラ100の各端部に対応して配置された2個の溶剤供給部64における溶剤の滴下量を減少させる。
その後、時間t6にて、除去プレート移動装置72のエアシリンダ78,79を駆動することで、除去プレート71を下降し、除去面71aを回転しているゴムローラ100の表面から離間させる。そして、時間t7では、ゴムローラ100の中央部に対応して配置された2個の溶剤供給部64における溶剤の滴下量を減少させ、ゴムローラ100の各端部に対応して配置された2個の溶剤供給部64における溶剤の滴下量と同等とする。
その後、時間t8にて、溶剤供給装置16によるゴムローラ100への溶剤Sの供給を停止する、時間t9にて、ゴムローラ100の駆動回転と揺動動作を停止し、時間t910にて、押圧用ローラ2をゴムローラ100から離間させる。
この場合、時間t1から時間t5までが溶剤の塗布・浸透工程であり、時間t5から時間t6までがグレーズの除去工程であり、時間t6時間t10までが溶剤の浸透工程である。溶剤の塗布・浸透工程では、ゴムローラ100を回転・揺動させた状態で、溶剤Sを塗布しながら押圧力を付与し、ゴムローラ100に対して均一に溶剤Sを塗布して浸透促進させる。グレーズの除去工程では、ゴムローラ100の表面から剥離したグレーズを除去プレート71により除去する。溶剤の浸透工程では、グレーズが除去されたゴムローラ100の表面に対して溶剤Sを均一に塗布して浸透させる。
図9は、本実施形態のゴムローラの再生結果を表すグラフである。この図9のグラフは、ゴムローラを再生処理した後のゴム硬度の変化を表すものである。このゴムローラ100は、未使用のゴムローラにおける初期のゴム硬度30であり、一定期間にわたって使用することで、ゴム硬度35まで上昇したものである。そして、この図9にて、一点鎖線で表すものは、ゴムローラに対して押圧力を付与しないゴムローラの再生方法で処理したゴムローラのゴム硬度を表し、実線で表すものは、ゴムローラに対して押圧力を付与する本実施形態のゴムローラの再生方法で処理したゴムローラのゴム硬度を表す。ここで、押圧力を付与しないゴムローラの再生方法とは、ゴムローラ100に対して所定時間にわたって可塑剤を含む溶剤Sを滴下するだけで押圧力を付与しない方法である。但し、溶剤S種類や処理時間などは、本実施形態のゴムローラの再生方法と同様である。また、ゴムローラのゴム硬度は、軸方向の異なる4個所での計測値を平均したものである。なお、このゴム硬度は、日本工業規格JIS K 6253で規定された規格である。
この図9のグラフからわかるように、再生前、ゴム硬度35であったゴムローラに対して、一点鎖線で表す押圧力を付与しないゴムローラの再生方法で処理したゴムローラは、再生直後にゴム硬度30付近まで低下するが、時間の経過と共にゴム硬度が上昇し、15日を経過したとき、ゴム硬度33近傍まで上昇した。一方、再生前、ゴム硬度35であったゴムローラに対して、実線で表す押圧力を付与する本実施形態のゴムローラの再生方法で処理したゴムローラは、再生直後にゴム硬度29付近まで低下し、時間の経過と共にゴム硬度が上昇するが、15日程度を経過したとき、初期のゴム硬度30に近いゴム硬度30.3までの上昇で維持された。このように押圧力を付与する本実施形態のゴムローラの再生方法は、押圧力を付与しないゴムローラの再生方法に対して、ゴムの硬度を低下させる効果が十分に高いことがわかる。
このように本実施形態のゴムローラの再生装置にあっては、ゴムローラ100を回転自在に支持する第1支持装置11と、第1支持装置11に支持されたゴムローラ100に隣接して配置される押圧用ローラ12と、押圧用ローラ12を回転自在に支持する第2支持装置13と、押圧用ローラ12を移動してその表面をゴムローラ100の表面に接触させるローラ移動装置14と、押圧用ローラ12を回転するローラ回転装置15と、ゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤Sを供給する溶剤供給装置16とを設けている。
従って、ローラ移動装置14により第2支持装置13に支持された押圧用ローラ12を第1支持装置11に支持されたゴムローラ100に接触させると共に、ローラ回転装置15により押圧用ローラ12を回転してゴムローラ100を連れ回り回転させ、溶剤供給装置16によりゴムローラ100の表面に溶剤Sを供給する。すると、ゴムローラ100は、押圧用ローラ12によりその表面に押圧力が付与された状態で回転し、表面に溶剤Sが塗布されることとなる。そのため、ゴムローラ100は、この押圧によるゴムローラ100のゴムの収縮時に、溶剤Sに含まれる可塑剤が表面から内部に入り込んで膨張する。すると、ゴムローラ100のゴム硬度が低下すると共に、外径が大きくなって初期に近い状態に戻る。その結果、ゴムローラ100に対する高価な再生処理を行う必要がなく、再生コストの増加を抑制することができ、ゴムの硬度を適正に低下させて再生することができる。
即ち、一定期間にわたって使用したゴムローラ100は、表面が硬化すると共に直径が収縮し、表面にグレーズが付着して堆積してしまう。このゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤Sを単に塗布するだけでは、一時的にゴムの硬度が低下するものの、すぐに元の硬度まで戻ってしまう。そこで、本実施形態のように、ゴムローラ100の表面に可塑剤が含まれる溶剤Sを塗布した状態で押圧力Cを付与すると、ゴムローラ100の収縮時にスポンジ効果により溶液Sが内部に入り込みやすくなり、可塑剤が内部に停留しやすくなる。そのため、ゴムローラ100のゴムの硬度を効果的に低下させて再生することができる。
また、ゴムローラ100は、押圧用ローラ12により表面に対して押圧力が断続的に付与されることで、押圧によるゴムローラ100の表面の収縮と復帰が繰り返され、溶剤Sに含まれる適量の可塑剤を内部に入り込ませることができる。また、押圧用ローラ12とゴムローラ100とを密着させてゴムローラ100の表面に押圧力を付与するため、ゴムローラ100の軸方向に対して均一な押圧力を付与することができ、ゴムローラ100の軸方向の全ての領域にわたってその硬度を均一に低下させることができる。更に、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を回転させてゴムローラ100の全周にわたって押圧力を付与することで、ゴムローラ100の周方向に対して均一な押圧力を付与することができ、ゴムローラ100の周方向の全ての領域にわたってその硬度を均一に低下させることができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を軸方向に往復相対移動させる第1揺動装置18を設けている。従って、第1揺動装置18によりゴムローラ100と押圧用ローラ12を軸方向に往復相対移動させると、溶剤Sがゴムローラ100の軸方向の領域に対して均一に供給されることとなり、ゴムローラ100の軸方向の全ての領域にわたってその硬度を均一に低下させることができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、ローラ移動装置14は、押圧用ローラ12を移動してその表面をゴムローラ100の表面に接触させ、溶剤供給装置16は、ゴムローラ100の表面に溶剤Sを滴下する。従って、ゴムローラ100の表面に適正に押圧力を付与することができると共に、ゴムローラ100の表面に対して溶剤Sを効率的に供給することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、第1支持装置11は、ゴムローラ100における軸方向の支持位置を調整する支持位置調整装置17を設けている。従って、軸方向の長さの異なるゴムローラ100に対して、支持位置調整装置17によりこのゴムローラ100の支持位置を調整することで、長さの異なる複数種類のゴムローラ100に対して再生処理を施すことができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、第2支持装置13は、ゴムローラ100と押圧用ローラ12の対接角度を調整する対接角度調整装置19を設けている。従って、対接角度調整装置19によりゴムローラ100と押圧用ローラ12の対接角度を調整することで、押圧用ローラ12が撓んでも、ゴムローラ100と押圧用ローラ12の表面同士を隙間なく接触させることができ、ゴムローラ100に対して軸方向に均一な押圧力を付与することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、ゴムローラ100の表面に付着したグレーズを除去する除去プレート71と、除去プレート71をゴムローラ100の表面に接触させる除去プレート移動装置72を設けている。従って、回転するゴムローラ100に対して、除去プレート移動装置72により除去プレート71を接触させることで、溶剤Sによりゴムローラ100の表面から剥離されたグレーズを容易に除去することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、除去プレート71を第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の下方に配置している。従って、ゴムローラ100の表面に供給された溶剤Sは、自重によりゴムローラ100の下方に流動するが、除去プレート71がゴムローラ100の下方から表面に接触することで、ゴムローラ100の表面から剥離されたグレーズと共にこの溶剤Sを除去することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、除去プレート151を第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の側方に配置している。従って、除去プレート151がゴムローラ100の側方に配置されることで、構造を簡素化することができると共に、除去プレート151の交換などのメンテナンス性を向上することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の下方にゴムローラ100から落下する溶剤Sを受け止める容器82を配置し、除去プレート71を容器82内に配置している。従って、ゴムローラ100の表面に供給された溶剤Sは、自重によりゴムローラ100の下方に流動し、除去プレート71によりグレーズと共に除去され、容器82に受け止められることとなり、溶剤Sを効率良く回収することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、除去プレート移動装置72は、除去プレート71と容器82を昇降可能としている。従って、除去プレート移動装置72により除去プレート71と容器82を昇降することで、ゴムローラ100に対して除去プレート71と容器82を容易に接近離反することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、第1揺動装置18によりゴムローラを軸方向に往復移動するため、ゴムローラ100と除去プレート71とが軸方向に往復相対移動することとなる。従って、溶剤Sがゴムローラ100の軸方向の領域に対して均一に供給されることとなり、ゴムローラ100の軸方向の全ての領域にわたって溶剤Sによりゴムローラ100の表面から剥離されたグレーズを除去することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、溶剤供給装置16は、ゴムローラ100の表面に溶剤Sを断続的に供給する。従って、溶剤Sがゴムローラ100に対して過剰に供給されることが抑制され、溶剤Sを安定して供給することができる。
本実施形態のゴムローラの再生装置では、溶剤供給装置16は、ゴムローラ100の軸方向に所定間隔を空けて配置される複数の溶剤供給部64を有し、溶剤Sの供給開始から所定時間の経過後、複数の溶剤供給部64のうちの端部に配置される溶剤供給部64からの溶剤Sの供給量を減少させている。従って、供給された溶剤Sがゴムローラ100及び押圧用ローラ12における軸方向端部からの落下を抑制して溶剤Sの供給量を適量に維持することができる。
なお、上述した実施形態では、第1揺動装置18によりゴムローラを軸方向に往復移動することで、ゴムローラ100と除去プレート71とを軸方向に往復相対移動するように構成したが、この構成に限定されるものではない。例えば、ゴムローラ100と除去プレート71を軸方向に往復相対移動させる第2揺動装置として、除去プレート71を軸方向に往復移動させるエアシリンダを設けてもよい。従って、第2揺動装置により除去プレート71を軸方向に往復移動させることで、溶剤Sがゴムローラ100の軸方向の領域に対して均一に供給されることとなり、ゴムローラ100の軸方向の全ての領域にわたって溶剤によりゴムローラ100の表面から剥離されたグレーズを除去することができる。
また、上述した実施形態では、同径のゴムローラ100及び押圧用ローラ12と除去プレート71との組み合わせによりゴムローラの再生装置を構成したが、この構成に限定されるものではない。
図10は、本実施形態のゴムローラの再生装置の第1変形例を表す概略図、図11は、本実施形態のゴムローラの再生装置の第2変形例を表す概略図、図12は、本実施形態のゴムローラの再生装置の第3変形例を表す概略図である。
本実施形態のゴムローラの再生装置の第1変形例は、図10に示すように、ゴムローラ110と押圧用ローラ111と除去プレート112との組み合わせにより構成されている。ここで、ゴムローラ110と押圧用ローラ111とは、外径寸法が相違し、ゴムローラ110の外径が押圧用ローラ111の外径より大きく設定されている。なお、ゴムローラ110の外径を押圧用ローラ111の外径より小さく設定してもよい。
本実施形態のゴムローラの再生装置の第2変形例は、図11に示すように、複数(本変形例では、4個)のゴムローラ120と1個の押圧用ローラ121と複数(本変形例では、4個)の除去プレート122との組み合わせにより構成されている。4個のゴムローラ120は、1個の押圧用ローラ121に対接し、4個のゴムローラ120に各除去プレート122が接触している。この場合、各ゴムローラ120を移動して押圧用ローラ121に接触可能にする。
本実施形態のゴムローラの再生装置の第3変形例は、図12に示すように、ゴムローラ130と押圧用ローラ131との組み合わせにより構成されている。ここで、ゴムローラ130と押圧用ローラ131とは、外径寸法及び軸方向長さが相違し、ゴムローラ130の外径より押圧用ローラ131の外径が小さく設定されると共に、ゴムローラ130の軸方向長さより押圧用ローラ131の軸方向長さが小さく設定されている。この場合、押圧用ローラ131は、ゴムローラ130の軸方向における所定長さ領域の表面だけに押圧力を付与するものであり、押圧用ローラ131の全体を再生するものではく、押圧用ローラ131を部分的に再生するものである。
また、上述した実施形態では、ローラ移動装置14が押圧用ローラ12を移動してその表面をゴムローラ100の表面に接触させるように構成したが、ゴムローラ100を移動してその表面を押圧用ローラ12の表面に接触するように構成してもよい。
また、上述した実施形態では、ローラ回転装置15により押圧用ローラ12を回転してゴムローラ100を連れ回り回転するように構成したが、ゴムローラ100を回転して押圧用ローラ12を連れ回り回転するように構成してもよい。また、ゴムローラ100と押圧用ローラ12をそれぞれ独立した各ローラ回転装置により回転するように構成してもよい。この場合、ゴムローラ100と押圧用ローラ12は、同じ回転速度でもよいし、異なる回転速度でもよい。また、上述した実施形態では、ゴムローラ100と押圧用ローラ12の回転方向を異なる方向とし、対接位置での移動方向を同方向としたが、ゴムローラ100と押圧用ローラ12の回転方向を同方向とし、対接位置での移動方向を異なる方向としてもよい。
また、上述した実施形態では、溶剤供給装置16によりゴムローラ100の表面に溶剤Sを供給するように構成したが、溶剤供給装置16により押圧用ローラ12の表面に溶剤Sを供給するように構成してもよい。また、溶剤供給装置16は、溶剤Sをゴムローラ100の表面に上方から滴下するように構成したが、側方や下方に配置したスプレー装置により供給するように構成してもよい。
また、上述した実施形態では、第1揺動装置18によりゴムローラ100を軸方向に揺動して押圧用ローラ12との間で軸方向に往復相対移動可能に構成したが、第1揺動装置18により押圧用ローラ12を軸方向に揺動してゴムローラ100との間で軸方向に往復相対移動可能に構成してもよい。
また、上述した実施形態では、対接角度調整装置19は、第2支持装置13により支持された押圧用ローラ12の対接角度を調整するように構成したが、対接角度調整装置19は、第1支持装置11により支持されたゴムローラ100の対接角度を調整するように構成してもよい。
また、上述した実施形態では、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を密着させて押圧力Cを付与した後に各ローラ100,12を回転し、溶剤Sをゴムローラ100の表面に滴下したが、この構成に限定されるものではない。例えば、ゴムローラ100または押圧用ローラ12を回転した後に密着させ、溶剤Sをゴムローラ100または押圧用ローラ12の表面に滴下してもよい。更に、溶剤Sをゴムローラ100または押圧用ローラ12の表面に滴下した後、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を密着させて押圧力Cを付与した後に各ローラ100,12を回転してもよい。この順序は、いずれでもよく、最終的に、溶剤Sがゴムローラ100の表面に塗布された状態でゴムローラ100の表面に押圧力Cが付与されればよい。
また、上述した実施形態では、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を密着させて押圧力Cを付与した後に各ローラ100,12を回転し、ゴムローラ100を往復移動すると同時に溶剤Sをゴムローラ100の表面に滴下したが、この構成に限定されるものではない。例えば、ゴムローラ100と押圧用ローラ12を密着させて押圧力Cを付与した後に各ローラ100,12を回転し、溶剤Sをゴムローラ100の表面に滴下してからゴムローラ100を往復移動してもよい。
また、上述した実施形態では、除去プレート71,151を第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の下方や側方に配置したが、この構成に限定されるものではなく、例えば、除去プレート71を第1支持装置11に支持されたゴムローラ100の上方、側方、下方、斜方などに配置してもよい。グレーズ除去部材は、プレートに限定されるものではなく、ゴムローラ100に接触してグレーズを除去できるものであればよく、例えば、ローラやブラシなどでもよい。また、ゴムローラ100の下方に容器82を配置し、除去プレート71をこの容器82内に配置したが、この構成に限定されるものではない。容器82は、ゴムローラ100から落下する溶剤Sを受け止めるものであり、ゴムローラ100の下方に配置することが望ましく、ゴムローラ100の下方や側方に配置される除去プレート71の下方に配置することが最適である。
また、上述した実施形態では、押圧ローラ12を鉄ローラとし、ゴムローラ100に対して押圧するように構成したが、再生したいゴムローラ100同士を押圧するように構成してもよい。