JP6532475B2 - 圧縮性熱界面材料 - Google Patents

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Description

[0001]本出願は、2014年2月13日出願の米国仮特許出願61/939,412(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)の35USC§119(e)に基づく利益を主張する。
[0002]本発明は概して熱界面材料、より特には圧縮性熱界面材料に関する。
[0003]熱界面材料は、中央処理装置、ビデオグラフィックアレイ、サーバー、ゲーム機コンソール、スマートホン、LED基板などのような電子コンポーネントから熱を放散させるために広く用いられている。熱界面材料は、通常は、過剰の熱を電子コンポーネントからヒートシンクのようなヒートスプレッダーに伝達するために用いられる。
[0004]熱界面材料としては、サーマルグリース、グリース様の材料、エラストマーテープ、及び相変化材料が挙げられる。伝統的な熱界面材料としては、ギャップパッド及びサーマルパッドのようなコンポーネントが挙げられる。
[0005]代表的な熱界面材料は、次の特許及び出願(これらの開示事項はそれらの全部を参照として本明細書中に包含する)において開示されている:US−6,238,596;US−6,451,422;US−6,605,238;US−6,673,434;US−6,706,219;US−6,797,382;US−6,811,725;US−7,172,711;US−7,244,491;US−7,867,609;US−2007/0051773;US−2008/0044670;US−2009/0111925;US−2010/0129648;及びUS−2011/0308782。
US−6,238,596 US−6,451,422 US−6,605,238 US−6,673,434 US−6,706,219 US−6,797,382 US−6,811,725 US−7,172,711 US−7,244,491 US−7,867,609 US−2007/0051773 US−2008/0044670 US−2009/0111925 US−2010/0129648 US−2011/0308782
[0006]熱界面材料は優れた熱性能及び圧縮率を有することが望ましい。
[0007]本発明は、コンピューターチップのような熱を発生する電子デバイスから、ヒートスプレッダー及びヒートシンクのような熱放散構造体へ熱を伝達するるのに有用な圧縮性熱界面材料を提供する。
[0008]1つの代表的な態様においては、圧縮性熱界面材料が提供される。圧縮性TIMは、ポリマー;熱伝導性フィラー;及び相変化材料を含む。相変化材料は、ASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む。1つのより特定の態様においては、圧縮性熱界面材料は、40psiの圧力下において少なくとも5%の圧縮率を有する。他のより特定の態様においては、圧縮性熱界面材料は50%以下のスプリングバック比を有する。更に他のより特定の態様においては、相変化材料は、ASTM−D1321によって測定して50未満の針入度値を有する第2のワックスを含む。他のより特定の態様においては、相変化材料は、ポリエチレンワックス、エチレン−酢酸ビニルコポリマーワックス、及び酸化ポリエチレンワックスからなる群から選択されるワックスを含む。上記の任意の態様のより特定の態様においては、熱伝導性フィラーはアルミニウムを含む。他のより特定の態様においては、熱伝導性フィラーは、圧縮性熱界面材料の全重量の10重量%〜95重量%を構成する。上記の任意の態様のより特定の態様においては、ポリマーは、エチレン−プロピレンラバー(EPR)、エチレン−プロピレンジエンモノマーラバー(EPDM)、ポリエチレン−ブチレン、及びポリエチレン−ブチレン−スチレン、ポリブタジエン、水素化ポリブタジエンモノオール、水素化ポリプロパジエンモノオール、水素化ポリペンタジエンモノオール、ポリブタジエンジオール、水素化ポリプロパジエンジオール、及び水素化ポリペンタジエンジオールからなる群から選択される。更により特定の態様においては、ポリマーは水素化ポリブタジエンである。上記の任意の態様のより特定の態様においては、圧縮性TIMは、カップリング剤、酸化防止剤、及び架橋剤を更に含む。
[0009]上記の任意の態様のより特定の態様においては、圧縮性TIMはシリコーンゲルを更に含む。
[0010]上記の任意の態様の他のより特定の態様においては、圧縮性TIMは、ポリマー、熱伝導性フィラー、及びASTM−D132によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む中間層;少なくとも1種類の相変化材料及び少なくとも1種類の熱伝導性フィラーを含む第1の表面層;及び、少なくとも1種類の相変化材料及び少なくとも1種類の熱伝導性フィラーを含む第2の表面層;を含む。より特定の態様においては、中間層中における熱伝導性フィラーの重量%含量は、第1及び第2の表面層の少なくとも1つの中における熱伝導性フィラーの重量%含量以下である。他のより特定の態様においては、第1及び第2の表面層のそれぞれの中における熱伝導性フィラーの重量%は、独立して約70重量%〜約99重量%である。
[0011]他の態様においては、圧縮性熱界面材料を形成するための配合物が提供される。この配合物は、溶媒;ポリマー;熱伝導性フィラー;及び、ASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む相変化材料;を含む。より特定の態様においては、この配合物は1,000センチポアズ〜100,000,000センチポアズの粘度を有する。
[0012]他の態様においては、電子コンポーネントが提供される。この電子コンポーネントは、ヒートシンク;電子チップ;並びに、ポリマー、熱伝導性フィラー、及びASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む、ヒートシンクと電子チップの間に配置されている圧縮性熱界面材料;を含む。より特定の態様においては、圧縮性熱界面材料の第1の表面は電子チップの表面と接触しており、圧縮性熱界面材料の第2の表面はヒートシンクと接触している。他のより特定の態様においては、電子コンポーネントはヒートシンクと電子チップの間に配置されているヒートスプレッダーを含み、圧縮性熱界面材料の第1の表面は電子チップの表面と接触しており、圧縮性熱界面材料の第2の表面はヒートスプレッダーと接触している。更に他のより特定の態様においては、電子コンポーネントはヒートシンクと電子チップの間に配置されているヒートスプレッダーを含み、圧縮性熱界面材料の第1の表面はヒートスプレッダーの表面と接触しており、圧縮性熱界面材料の第2の表面はヒートシンクと接触している。
[0013]添付の図面と組み合わせて本発明の幾つかの態様の以下の記載を参照することによって、本発明の上述及び他の特徴並びに有利性、並びにそれらを達成する方法がより明らかになり、本発明それ自体がより良好に理解されるであろう。
[0014]図1Aは、電子チップ、ヒートスプレッダー、ヒートシンク、並びに第1及び第2の熱界面材料を図示する。 [0015]図1Bは、電子チップとヒートシンクの間に配置されている代表的な熱界面材料を図示する。 [0016]図1Cは、ヒートスプレッダーとヒートシンクの間に配置されている代表的な熱界面材料を図示する。 [0017]図1Dは、電子チップとヒートスプレッダーの間に配置されている代表的な熱界面材料を図示する。 [0018]図2Aは、代表的な多層熱界面材料を図示する。 [0019]図2Bは、EMIシールドを含む代表的な熱界面材料を図示する。 [0020]図3は比較例1に関し、種々の圧力における圧縮率を示すグラフである。 [0021]図4Aは比較例2に関し、種々の圧力における圧縮率を示すグラフである。 [0022]図4Bは比較例2に関し、種々の圧力における熱インピーダンスを示すグラフである。 [0023]図5Aは実施例1に関し、種々の圧力における圧縮率を示すグラフである。 [0024]図5Bは実施例1に関し、種々の圧力における熱インピーダンスを示すグラフである。 [0025]図6Aは実施例2に関し、種々の圧力における圧縮率を示すグラフである。 [0026]図6Bは実施例2に関し、種々の圧力における熱インピーダンスを示すグラフである。 [0027]図7Aは実施例3に関し、種々の圧力における圧縮率を示すグラフである。 [0028]図7Bは実施例3に関し、種々の圧力における熱インピーダンスを示すグラフである。 [0029]図8Aは実施例2に関し、材料のスプリングバックを示すグラフである。 [0030]図8BはLaird 360パッドのスプリングバックを示すグラフである。
[0031]幾つかの図面全体にわたって、対応する参照記号は対応するパーツを示す。ここに示す例証は本発明の代表的な態様を示すものであり、かかる例証はいかなるようにも発明の範囲を限定するように解釈すべきではない。
[0032]本発明は、電子コンポーネントから熱を除去するのに有用な熱界面材料に関する。
[0033]図1Aは、電子チップ34、ヒートスプレッダー36、及びヒートシンク32を図示しており、第1の熱界面材料(TIM)10Aがヒートシンク32とヒートスプレッダー36を接続しており、第2の熱界面材料10Bがヒートスプレッダー36と電子チップ34を接続している。熱界面材料10A、10Bの一方又は両方は、下記に記載するような圧縮性熱界面材料であってよい。図1Bは、TIM10の第1の表面が電子チップ34の表面と接触し、TIM10の第2の表面がヒートシンク32の表面と接触するように電子チップ34とヒートシンク32の間に配置されているTIM1.5として示される熱界面層としての代表的な熱界面材料10を示す。図1Cは、TIM10の第1の表面がヒートスプレッダー36の表面と接触し、TIM10の第2の表面がヒートシンク32の表面と接触するようにヒートスプレッダー36とヒートシンク32の間に配置されているTIM2として示される熱界面材料としての代表的な熱界面材料10を示す。図1Dは、TIM10の第1の表面が電子チップ34の表面と接触し、TIM10の第2の表面がヒートスプレッダー36の表面と接触するように電子チップ34とヒートスプレッダー36の間に配置されているTIM1として示される熱界面材料としての代表的な熱界面材料10を示す。
[0034]TIM10は図1において単一の連続層として示しているが、他の態様においては、TIM10に1つより多い層を含ませることができ(図2Aを参照)、この場合には、それぞれの層は同じか又は異なる材料で構成することができる。
[0035]幾つかの代表的な態様においては、TIM10はサーマルシートを更に含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は誘電層を更に含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10はサーマルホイルを更に含む。
[0036]幾つかの代表的な態様においては、熱界面材料10は、スマートホン、タブレットコンピューター、ラップトップコンピューター、デスクトップコンピューター、ゲーム機コンソール、サーバー、電気通信基地局、無線ルーター又は他のコンポーネント、発光ダイオード(LED)、電力モジュール、自動車エレクトロニクスデバイス、又は絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT)において用いられる。
A.圧縮性熱界面材料:
[0037]1つの代表的な態様においては、TIM10は圧縮性熱界面材料である。幾つかの代表的な態様においては、圧縮性TIM10は、1種類以上のポリマー、1種類以上の相変化材料、1種類以上の熱伝導性フィラー、及び場合によっては添加剤を含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は1種類以上の熱伝導性フィラーを含む1種類以上のエラストマーを含む。
a.熱伝導性フィラー:
[0038]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は1種類以上の熱伝導性フィラーを含む。代表的な熱伝導性フィラーとしては、金属、合金、非金属、金属酸化物、及びセラミクス、並びにこれらの組合せが挙げられる。代表的な金属としては、アルミニウム、銅、銀、亜鉛、ニッケル、スズ、インジウム、及び鉛が挙げられるが、これらに限定されない。代表的な非金属としては、炭素、グラファイト、カーボンナノチューブ、炭素繊維、グラフェン、及び窒化ケイ素が挙げられるが、これらに限定されない。代表的な金属酸化物及びセラミクスとしては、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、及び酸化スズが挙げられるが、これらに限定されない。
[0039]TIM10には、TIM10の全重量を基準として、10重量%、20重量%、25重量%、50重量%程度の少ない量、75重量%、80重量%、85重量%、90重量%、95重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の熱伝導性フィラーを含ませることができる。
b.ポリマーマトリクス:
[0040]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、エラストマーのようなポリマーを更に含む。代表的なポリマーとしては、シリコーンエラストマー、シリコーンラバー、エチレンコポリマー、例えばエチレン−プロピレンラバー(EPR)、エチレン−プロピレンジエンモノマーラバー(EPDM)、ポリエチレン−ブチレン、及びポリエチレン−ブチレン−スチレン、ポリアルキルジエン、例えばポリブタジエン、及び水素化ポリマー、例えば水素化ポリアルキルジエンモノオール(水素化ポリブタジエンモノオール、水素化ポリプロパジエンモノオール、及び水素化ポリペンタジエンモノオールなど)、並びに水素化ポリアルキルジエンジオール(水素化ポリブタジエンジオール、水素化ポリプロパジエンジオール、及び水素化ポリペンタジエンジオールなど)が挙げられる。
[0041]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は1種類以上のシリコーンゲルを含む。幾つかの態様においては、TIM10に、中間層12の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%、1.5重量%、2重量%程度の少ない量、5重量%、10重量%、15重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上のシリコーンゲルを含ませることができる。
c.相変化材料:
[0042]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は1種類以上の相変化材料を含む。相変化材料は、その中でTIM10を用いる電子デバイスの一部の運転温度以下の融点又は融点範囲を有する材料である。代表的な相変化材料はワックスである。他の代表的な相変化材料としては、ウッドメタル、フィールドメタルような低融点合金、或いは約20℃〜90℃の間の融点を有する金属又は合金が挙げられる。
[0043]幾つかの態様においては、相変化材料は、20℃、30℃、40℃、45℃、50℃程度の低い温度、60℃、70℃、80℃、90℃、100℃、110℃のような高い温度、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の相変化温度を有する。幾つかのより特定の態様においては、相変化材料は、30℃、40℃、45℃のような低い温度、50℃、60℃、70℃のような高い温度、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の相変化温度を有する。
[0044]ワックスの硬度は、ASTM−D1321(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)にしたがって25℃において測定される針入度値のような針入度値によって特徴付けることができる。
[0045]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、40、50、60程度の低い値、70、80、90、100、又はそれ以上の高い値、或いは上記の値の任意の2つによって規定される任意の範囲内のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、少なくとも50のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、少なくとも60のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、少なくとも70のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。
[0046]70より高いASTM−D1321針入度値を有する代表的なワックスとしては、それぞれHoneywell International Inc.から入手できるAC-1702(ポリエチレンワックス)、AC-430(エチレン−酢酸ビニルコポリマーのワックス)、及びAC-6702(酸化ポリエチレンワックス)が挙げられる。
[0047]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は少なくとも2種類のワックスを含み、第1のワックスは第2のワックスよりも硬質である。幾つかの代表的な態様においては、ワックスの全重量を基準とするより軟質のワックスの重量比は、10%、25%、50%程度の低い値、75%、95%、99%程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内である。
[0048]幾つかの代表的な態様においては、第1のワックスは70未満のASTM−D1321針入度値を有し、第2のワックスは少なくとも70、又はそれより高いASTM−D1321針入度値を有する。幾つかの代表的な態様においては、第1のワックス及び第2のワックスの少なくとも1つは、ポリテトラフルオロエチレンとブレンドしたポリエチレンを含む。代表的なポリテトラフルオロエチレン−ポリエチレンワックス混合物は、Nanjing Tianshi New Material Technologiesから入手できるPEW-0602Fワックスである。
[0049]70未満のASTM−D1321針入度値を有する代表的なワックスとしては、The International Group, Inc.から入手できるTACワックス、及びHangzhou Ruhr Tech.から入手できるRT44HCが挙げられる。
d.添加剤:
[0050]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は1種類以上の添加剤を含む。代表的な添加剤としては、酸化防止剤、架橋剤、及びカップリング剤、例えばチタネートカップリング剤が挙げられる。幾つかの代表的な態様においては、TIM10に、中間層の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の添加剤を含ませることができる。
B.多層熱界面材料:
[0051]幾つかの態様においては、TIMは多層熱界面材料(TIM)10’である。まず図2Aを参照すると、代表的な多層10’が示されている。多層TIM10’は、中間層12、第1の表面層14、及び第2の表面層16を含む。
[0052]幾つかの成分を、中間層12、第1の表面層14、及び/又は第2の表面層16の一部であるものとして下記に例示するが、幾つかの態様においては、それぞれの成分は、中間層12、第1の表面層14、及び第2の表面層16の任意の中に見ることができる。
1.中間層:
[0053]図2Aにおいて示されるように、中間層12は、第1の表面層14と第2の表面層16の間に配置されている。幾つかの態様においては、中間層12は、第1の表面層14及び第2の表面層16と直接接触している。中間層12は図2Aにおいては単一の連続層として示されているが、他の態様においては、中間層12’に1つより多い層を含ませることができ、その場合にはそれぞれの層は同一か又は異なる材料で構成することができる(図2Bを参照)。
[0054]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、上記に記載したTIM10のものと同様の組成を有する。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、TIM10に関して上記に記載したような1種類以上のポリマー、1種類以上の相変化材料、1種類以上の熱伝導性フィラー、及び場合によっては添加剤を含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、1種類以上の熱伝導性フィラーを含む1種類以上のエラストマーを含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は圧縮性材料を含む。幾つかの態様においては、40psiの圧力にかけた際にに、中間層12は、少なくとも5%、少なくとも10%、少なくとも15%、少なくとも20%、少なくとも30%程度の低い値、及び少なくとも40%、少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の圧縮率を有する。幾つかの代表的な態様においては、中間層は、圧力を解放した後にその元の厚さに戻る。他の代表的な態様においては、中間層は、圧力を解放した後にその元の厚さに戻らない。
[0055]次に図2Bを参照すると、幾つかの代表的な態様においては、中間層12’は、ギャップパッド18、相変化材料20、及び電磁波遮蔽シート22を含む。電磁波遮蔽のために用いられる代表的な材料としては、金属シート、金属スクリーン、金属フォーム、及び銅又はニッケルのようなナノ若しくはサブミクロンサイズの金属粒子を含む被覆が挙げられる。幾つかの代表的な態様においては、中間層12はサーマルシートを更に含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は誘電層を更に含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12はサーマルホイルを更に含む。
a.熱伝導性フィラー:
[0056]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は1種類以上の熱伝導性フィラーを含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12中における熱伝導性フィラーの重量%は、第1の表面層14又は第2の表面層16のいずれかの中の熱伝導性フィラーの重量%以下である。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、第1及び第2の表面層の両方の熱伝導率以下の熱伝導率を有する。中間層12には、中間層12の全重量を基準として、10重量%、20重量%、25重量%、50重量%程度の少ない量、75重量%、80重量%、85重量%、90重量%、95重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の熱伝導性フィラーを含ませることができる。
b.ポリマーマトリクス:
[0057]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、エラストマーのようなポリマーを更に含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層は1種類以上のシリコーンゲルを含む。幾つかの態様においては、中間層12に、中間層12の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%、1.5重量%、2重量%程度の少ない量、5重量%、10重量%、15重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上のシリコーンゲルを含ませることができる。
c.相変化材料:
[0058]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は1種類以上の相変化材料を含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、40、50、60程度の低い値、70、80、90、100、又はそれ以上の高い値、或いは上記の値の任意の2つによって規定される任意の範囲内のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上の1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、少なくとも50のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、少なくとも60のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12は、少なくとも70のASTM−D1321針入度値を有する1種類以上のワックスを含む。
d.添加剤:
[0059]幾つかの代表的な態様においては、中間層12は1種類以上の添加剤を含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12に、中間層の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の添加剤を含ませることができる。
2.表面層:
[0060]幾つかの代表的な態様においては、第1の表面層14は第2の表面層16と同じ材料を含む。他の代表的な態様においては、第1の表面層14は第2の表面層16と異なる材料を含む。第1の表面層14及び/又は第2の表面層16として有用な可能性がある代表的な材料は、次の特許及び出願(その開示事項はそれらの全部を参照として本明細書中に包含する)において開示されている:US−6,451,422;US−6,605,238;US−6,673,434;US−7,867,609;US−6,797,382;US−6,908,669;US−7,244,491;US−2007/0051773;US−2011/0308782;及びUS−2011/0038124。
[0061]第1の表面層14及び/又は第2の表面層16をそれから形成することができる代表的な材料としては、Honeywell International Inc.から入手できるPCM、LTM、及び/又はPTMシリーズの材料が挙げられる。1つの代表的なPCM材料は、ポリマー、相変化材料、及び熱伝導性フィラーを含む実質的に非圧縮性の材料であるPCM45Fである。他の代表的なPCM材料は、ポリマー、相変化材料、及び熱伝導性フィラーを含むスクリーン印刷可能型のPCM45FであるPCM45F-SPである。1つの代表的なPTM材料は、ポリマー、相変化材料、及び熱伝導性フィラーを含む実質的に非圧縮性の材料であるPMT3180である。他の代表的な材料は、ポリマー、硬質ワックス及び軟質ワックス、並びに熱伝導性フィラーを含む圧縮性熱界面材料であるTS27である。他の代表的な材料は、Dow Corning, Midland, Michiganから入手できる熱伝導性フィラーを含むサーマルグリースであるTC5026である。
[0062]幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、硬質又は実質的に非圧縮性である。幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、40psiの圧力にかけた際に中間層12のものよりも低い圧縮率を有する。幾つかの態様においては、40psiの圧力にかけた際に、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、0%、1%、2%程度の低い値、3%、5%程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の圧縮率を有する。幾つかの態様においては、40psiの圧力にかけた際に、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、5%以下の圧縮率を有する。他の代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは圧縮性である。幾つかの態様においては、40psiの圧力にかけた際に、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、5%、10%、20%、25%程度の低い値、50%、75%、80%程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の圧縮率を有する。
[0063]幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、30、40、50程度の低い値、60、70、80、又はそれ以上の高い値、或いは上記の値の任意の2つのの間で規定される任意の範囲内のASTM−D2240(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)によるショアA硬度を有する。幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、独立して中間層12の厚さ未満である。幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、0.05mm、0.1mm、0.25mm、0.5mm程度の小さい値、1mm、2mm、5mm程度の大きい値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の厚さを有する。幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、5mm未満の厚さ、1mm未満の厚さ、0.5mm未満の厚さ、0.25mm未満の厚さ、又は0.1mm未満の厚さを有する。
[0064]幾つかの代表的な態様においては、第1及び第2の表面層14、16のそれぞれは、1種類以上の熱伝導性フィラー、ポリマーマトリクス、少なくとも1種類のワックス、及び場合によっては添加剤を含む。
a.熱伝導性フィラー:
[0065]幾つかの態様においては、それぞれの表面層14、16は1種類以上の熱伝導性フィラーを含む。それぞれの表面層14、16には、独立して、それぞれの表面層14、16の全重量を基準として、70重量%、75重量%、80重量%、85重量%程度の少ない量、90重量%、95重量%、99重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の熱伝導性フィラーを含ませることができる。より特定の態様においては、第1の表面層14及び第2の表面層16のそれぞれの中における熱伝導性フィラーの重量%は、独立して、それぞれの表面層14、16の全重量を基準として85重量%〜99重量%である。
b.ポリマーマトリクス:
[0066]幾つかの代表的な態様においては、それぞれの表面層14、16はポリマーを更に含む。幾つかの態様においては、ポリマーはポリエチレン−ブチレンモノオールである。それぞれの表面層14、16には、独立して、それぞれの表面層14、16の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%、5重量%程度の少ない量、8重量%、10重量%、20重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上のポリマーを含ませることができる。
c.相変化材料:
[0067]幾つかの態様においては、それぞれの表面層14、16は、独立して、ワックスのような1種類以上の相変化材料を含む。幾つかの代表的な態様においては、それぞれの表面層14、16には、第1の表面層14又は第2の表面層16の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、2重量%、3重量%、5重量%、10重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の相変化材料を含ませることができる。幾つかの態様においては、それぞれの表面層14、16は、第1の表面層14又は第2の表面層16の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、2重量%、3重量%、5重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の全軟質化剤含量の70以上の針入度値を有する軟質ワックス及びシリコーンゲルを含む。
d.添加剤:
[0068]幾つかの代表的な態様においては、第1の表面層14及び第2の表面層16は、独立して1種類以上の添加剤を含む。幾つかの代表的な態様においては、中間層12に、第1の表面層14又は第2の表面層16の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の添加剤を含ませることができる。
B.圧縮性熱界面材料を形成する方法:
[0069]幾つかの態様においては、TIM10は、1種類以上のポリマー、1種類以上の相変化材料、1種類以上の熱伝導性フィラー、1種類以上の溶媒、及び場合によっては1種類以上の添加剤を含む分配可能な配合物から形成する。分配可能な材料は、通常はペーストベースの材料である。代表的な態様においては、分配可能な材料は、好適な圧力又は力を材料に印加すると、材料の一部が比較的狭い穴(分配ヘッド)を通して容器から押出されるような粘度を有する。幾つかの代表的な態様においては、TIM材料をシリンジに充填し、充填されたTIMを、シリンジのヘッド又は針からヒートスプレッダー、チップ、及び/又はヒートシンクの表面上に押出すことができる。幾つかの態様においては、TIMは所望の圧力下においてカスタマイズされたパターンで表面上に分配する。代表的な分配可能性のパラメーターとしては、プレス力、分配ヘッドの寸法、分配速度、及び平均パターン厚さを挙げることができるが、これらに限定されない。
[0070]代表的な溶媒は、米国特許出願公開2007/0517733(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)に記載されている。好適な溶媒としては、臨界温度のような所望の温度において揮発するか、或いは上述の設計目標又はニーズのいずれかの達成を促進させることができ、それらを相変化材料と相互作用させて上述の目標を達成することができるという点で相変化材料と適合性である純粋な溶媒或いは複数の有機又は無機溶媒の混合物が挙げられる。幾つかの態様においては、溶媒、溶媒混合物、又はこれらの組合せは、相変化材料を溶媒和して、印刷技術によってそれを適用することができるようにする。幾つかの代表的な態様においては、溶媒又は2種類以上の溶媒の混合物は、炭化水素類の溶媒から選択される。炭化水素溶媒は炭素及び水素を含む。炭化水素溶媒の大部分は非極性であるが、極性とみなされる小数の炭化水素溶媒が存在する。
[0071]炭化水素溶媒は、一般に3つのクラス:脂肪族、環式、及び芳香族に分類される。脂肪族炭化水素溶媒には、直鎖の化合物、及び分岐しており、場合によっては架橋している化合物の両方が含まれるが、脂肪族炭化水素溶媒は通常は環式とはみなされない。環式炭化水素溶媒は、脂肪族炭化水素溶媒と類似の特性を有する環構造で配向されている少なくとも3つの炭素原子を含む溶媒である。芳香族炭化水素溶媒は、単一の環、又は共通の結合によって結合している複数の環、及び/又は一緒に縮合している複数の環を有する、一般に3つ以上の不飽和結合を含む溶媒である。幾つかの代表的な態様においては、溶媒又は2種類以上の溶媒の混合物は、ケトン、アルコール、エステル、エーテル、及びアミンのような炭化水素溶媒類の化合物の一部とはみなされない溶媒から選択される。更に他の意図される態様においては、溶媒又は溶媒混合物に、ここで言及する任意の複数の溶媒の組合せを含ませることができる。
[0072]代表的な炭化水素溶媒としては、トルエン、キシレン、p−キシレン、m−キシレン、メシチレン、溶剤ナフサH、溶剤ナフサA、Isopar H並びに他のパラフィン油及びイソパラフィン流体、アルカン、例えばペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、ノナン、オクタン、ドデカン、2−メチルブタン、ヘキサデカン、トリデカン、ペンタデカン、シクロペンタン、2,2,4−トリメチルペンタン、石油エーテル、ハロゲン化炭化水素、例えば塩素化炭化水素、ニトレート化炭化水素、ベンゼン、1,2−ジメチルベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、ミネラルスピリット、灯油、イソブチルベンゼン、メチルナフタレン、エチルトルエン、リグロインが挙げられる。代表的なケトン溶媒としては、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
[0073]1つの代表的な態様においては、溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、パラフィン油、イソパラフィン流体、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びこれらの混合物又は組合せから選択される1種類以上の溶媒が挙げられる。代表的なイソパラフィン流体としては、Exxon Mobile Chemicalから入手できるIsopar H、Isopar L、及びIsopar Mが挙げられる。幾つかの代表的な態様においては、配合物に、配合物の全重量を基準として、0.1重量%、0.5重量%、1重量%程度の少ない量、5重量%、10重量%、20重量%、25重量%程度の多い量、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の量の1種類以上の溶媒を含ませることができる。
[0074]幾つかの代表的な態様においては、配合物は、DIN−53018(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)にしたがって粘度計を用いて室温において試験して、500センチポアズ、1,000センチポアズ、5,000センチポアズ、10,000センチポアズ程度の低い値、150,000センチポアズ、1,000,000センチポアズ、100,000,000センチポアズ程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の粘度を有する。
[0075]幾つかの代表的な態様においては、TIM10を形成する方法が提供される。幾つかの代表的な態様においては、TIM10の形成は、TIM10を加熱処理及び乾燥するなどのプロセスを含む。
[0076]幾つかの代表的な態様においては、TIM10の加熱処理には、25℃、50℃、75℃、80℃程度の低い温度、100℃、125℃、150℃、170℃程度の高い温度、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の温度で加熱処理することが含まれる。幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、0.5分間、1分間、30分間、1時間、2時間程度の短い値、8時間、12時間、24時間、36時間、48時間程度の長い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の時間加熱処理する。
C.熱界面材料の特性:
[0077]1つの代表的な態様においては、TIM10は圧縮性熱界面材料である。圧縮率は、所定の圧力を材料に印加し、材料の厚さの変化を求めることによって測定される。圧縮率は、通常は元の厚さのパーセントとして報告される。
[0078]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、良好な熱特性を維持しながら圧縮可能である。幾つかの代表的な態様においては、圧縮性TIM10を用いることによって、電子コンポーネント及び熱放散コンポーネント、例えば電子部品30又はヒートシンク32(図1A〜1Dを参照)との向上した接触が可能である。幾つかの代表的な態様においては、圧縮性TIM10を用いることによって、電子コンポーネント及び熱放散コンポーネント、例えば電子コンポーネント30又はヒートシンク32(図1A〜1Dを参照)の表面の間のより良好な接触を与えることにより熱接触抵抗の減少が与えられる。幾つかの代表的な態様においては、圧縮性TIM10を用いることによって、電子コンポーネント及び熱放散コンポーネント、例えば電子コンポーネント30又はヒートシンク32(図1A〜1D)の許容度又は平坦度のより大きな変動が可能である。幾つかの代表的な態様においては、圧縮性TIM10を用いることによって、昇温温度によるコンポーネントの歪み又は湾曲の後であっても優れた熱伝達性能が可能である。
[0079]代表的な態様においては、圧縮率は、2つの1.3cm×1.3cmの銅板の間に1.3cm×1.3cmの試料を配置することによって求める。試料の元の厚さは、銅−試料−銅複合体の元の厚さから銅板の厚さを減じることによって求める。銅−試料−銅複合体を所定の圧力に2分間かける。2分後、銅−試料−銅複合体の厚さを再び測定する。試料の圧縮された厚さは、銅−試料−銅複合体の圧縮された厚さから銅板の厚さを減じることによって求める。試料の圧縮率は、(元の試料厚さ−圧縮された試料の厚さ)/元の試料厚さ×100%として算出される。
[0080]幾つかの態様においては、40psiの圧力にかけた際に、TIM10は、少なくとも5%、少なくとも10%、少なくとも15%、少なくとも20%、少なくとも30%程度の低い値、及び少なくとも40%、少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の圧縮率を有する。幾つかの代表的な態様においては、TIMは、圧力を解放した後にその元の厚さに戻る。他の代表的な態様においては、TIMは、圧力を解放した後にその元の厚さに戻らない。
[0081]TIM10がその元の厚さに戻る程度は、スプリングバック比を用いて求めることができる。代表的な態様においては、スプリングバック比は、2psiのような所定の圧力を、10分間のような第1の所定の時間試料に印加することによって求める。第1の所定の時間の後、圧力を解放し、試料を、20分間のような第2の所定の時間静置する。スプリングバック比は、
(第2の時間の後の試料厚さ−第1の時間の後の試料厚さ)/(元の試料厚さ−第1の時間の後の試料厚さ)×100%
によって求められる。
[0082]幾つかの態様においては、低いスプリングバック比が望ましい。幾つかの態様においては、TIM10は、50%未満、40%未満、30%未満、25%未満、20%未満、10%未満、5%未満、又は0、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内のスプリングバック比を有する。
[0083]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、0.05℃・cm/W、0.1℃・cm/W、0.5℃・cm/W、0.75℃・cm/W程度の低い値、1℃・cm/W、1.5℃・cm/W、2℃・cm/W、2.5℃・cm/W程度の高い値、或いは上記の値の任意の2つの間で規定される任意の範囲内の熱インピーダンスを有する。
[0084]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、130℃の温度及び85%の相対湿度において96時間コンディショニングした後に、かかるコンディショニングの前のTIM10の熱インピーダンスよりも20%以下大きく、10%以下大きく、5%以下大きく、或いはそれ以下の熱インピーダンスを有する。
[0085]幾つかの代表的な態様においては、TIM10は、150℃の温度において200時間コンディショニングした後に、かかるコンディショニングの前のTIM10の熱インピーダンスよりも20%以下大きく、10%以下大きく、5%以下大きく、或いはそれ以下の熱インピーダンスを有する。
A.圧縮性熱界面材料:
Figure 0006532475
[0086]Kraton L-1203は、Kurary Co., Ltd.から入手できる水素化ポリブタジエンポリマーである。TACワックスは、The International Group, Inc.から入手できる。AC-1702は、Honeywell International Inc.から入手できるポリエチレンワックスである。PEW-0602Fワックスは、Nanjing Tianshi New Material Technologiesから入手できるポリテトラフルオロエチレン−ポリエチレンワックス混合物である。LICA 38は、Kenrich Petrochemicalから入手できるカップリング剤添加剤である。TTSは、Kenrich Petrochemicalから入手できるカップリング剤添加剤である。Irganox 1076は、BASFから入手できる酸化防止剤添加剤である。Cymel 1156は、CYTECから入手できる架橋剤添加剤である。熱伝導性フィラーは、約0.1ミクロン〜50ミクロンの間の直径を有するアルミニウム粒子であった。
1.比較例1:
[0087]相変化材料(AC 1702)、ポリマー(Kraton L-1203)、添加剤(Irganox 1076、Cymel 1156、及びTTS)、並びに熱伝導性フィラー(アルミニウム粉末)を、表1に記載する量で反応器に加えた。混合物を、均一な分散液が形成されるまで100℃において撹拌した。
[0088]比較例1は、100℃において、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの2つの層の間に被覆した。比較例1の圧縮率を図3に示す。
2.比較例2:
[0089]ポリマー(Kraton L-1203)、添加剤(Irganox 1076及びLICA 38)、並びに熱伝導性フィラー(アルミニウム粉末)を、表1に記載する量で反応器に加えた。混合物を、均一な分散液が形成されるまで150℃において撹拌した。
[0090]比較例2は、80℃において、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの2つの層の間に被覆した。比較例2の圧縮率を図4Aに示す。比較例2の熱インピーダンスを図4Bに示す。
[0091]比較例2の熱伝導率は3.64W/m−Kであると求められた。
[0092]試料をESPECによって供給された環境チャンバー内で130℃の温度及び85%の相対湿度において96時間コンディショニングする高加速ストレス試験(HAST試験)を用いて比較例2を試験した。試料のコンディショニングの前後において、試料の熱インピーダンスを求めた。熱インピーダンスにおける20%未満の増加はHAST試験に合格したことを示し、一方、20%以上の増加は不合格のHAST結果を示した。
[0093]比較例2はまた、試料をESPECによって供給された環境チャンバー内で150℃の温度で200時間コンディショニングする加熱処理試験を用いて試験した。試料のコンディショニングの前後において、試料の熱インピーダンスを求めた。熱インピーダンスにおける20%未満の増加は合格の加熱処理試験結果を示し、一方、20%以上の増加は不合格の加熱処理試験結果を示した。
[0094]比較例2はHAST試験に合格したが、加熱処理試験に不合格であった。
3.実施例1:
[0095]相変化材料(TACワックス、PEW-0602F)、ポリマー(Kraton L-1203)、添加剤(Irganox 1076及びLICA 38)、並びに熱伝導性フィラー(アルミニウム粉末)を、表1に記載する量で反応器に加えた。混合物を、均一な分散液が形成されるまで150℃において撹拌した。
[0096]実施例1は、80℃において、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの2つの層の間に被覆した。実施例1の圧縮率を図5Aに示す。実施例1の熱インピーダンスを図5Bに示す。
[0097]実施例1の熱伝導率は4.41W/m−Kであると求められた。実施例1はHAST試験に合格した。
4.実施例2:
[0098]相変化材料(TACワックス、AC 1702、PEW-0602F)、ポリマー(Kraton L-1203)、添加剤(Irganox 1076、Cymel 1156、LICA 38、及びTTS)、並びに熱伝導性フィラー(アルミニウム粉末)を、表1に記載する量で反応器に加えた。混合物を、均一な分散液が形成されるまで100℃において撹拌した。
[0099]実施例2は、100℃において、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの2つの層の間に被覆した。実施例2の圧縮率を図6Aに示す。実施例2の熱インピーダンスを図6Bに示す。
[00100]実施例2の熱伝導率は2.94W/m−Kであると求められた。実施例2はHAST試験及び加熱処理試験に不合格であった。
6.実施例3:
[00101]相変化材料(TACワックス、AC 1702、PEW-0602F)、ポリマー(Kraton L-1203)、添加剤(Irganox 1076、Cymel 1156、LICA 38、及びTTS)、並びに熱伝導性フィラー(アルミニウム粉末)を、表1に記載する量で反応器に加えた。混合物を、均一な分散液が形成されるまで150℃において撹拌した。
[00102]実施例3は、100℃において、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの2つの層の間に被覆した。実施例3の圧縮率を図7Aに示す。実施例3の熱インピーダンスを図7Bに示す。
[00103]実施例3の熱伝導率は2.72W/m−Kであると求められた。実施例2はHAST試験に合格であり、加熱処理試験に不合格であった。
7.スプリングバック試験:
[00104]実施例2の試料、Bergquist Company, Chanhassen, Minnesota,米国から入手できるGP3000S30パテパッドの試料、及びLaird Technologies, Laird PLC, London, England,英国から入手できるTFLEX360ギャップパッドの試料を、それぞれ2psiにおいて圧縮した。10分後、圧縮率を元の厚さのパーセントとして求め、圧を開放した。20分後、スプリングバックを元の高さのパーセントとして求めた。スプリングバック比は、スプリングバック(%)を圧縮率(%)で割ることによって求めた。実施例2に関する試験の結果を図8Aに示し、Lairdパッドに関する結果は図8Bに示し、下表2にまとめた。
Figure 0006532475
B.シリコーンゲル:
[00105]Honeywell International Inc.から入手できるPTM3180の200gの塊状物を、100℃の油温を有するRoss混合物中に約30分間配置した。塊状のPTM3180が完全に溶融した後、Momentiveから供給された3gのTSE3051STシリコーンゲルをミキサーに加えた。PTM3180及びシリコーンゲルを、20rpmにおいて30分間混合した。
[00106]シリコーンゲル材料を含むPTM3180の圧縮率及び熱インピーダンスを、PTM3180のものと比較した。結果を表3に示す。
Figure 0006532475
[00107]ゲルを含む複合体の圧縮率は、PTM3180材料に関するほぼ0%と比べて、40psiにおいて約33%であった。ASTM−D5470にしたがってシリコーンゲル複合体の熱伝導率及び熱インピーダンスを試験し、熱伝導率は3.16W/m−Kであることが分かり、熱インピーダンスは0.089℃・cm/Wであることが分かった。表4に示すように、シリコーンゲル複合体材料はまたHAST試験にも合格した。
Figure 0006532475
C.多層熱界面材料:
1.比較例:
[00108]Laird Technologies, Laird PLC, London, England,英国から入手できる厚さ1mmのTFLEX640ギャップパッド、及びこれもLaird Technologiesから入手できる厚さ1.5mmのTFLEX380ギャップパッドの熱インピーダンスを、ASTM−D5470(その開示事項はその全部を参照として本明細書中に包含する)にしたがってLongwin 9091IRからの熱インピーダンステスターを用いて70℃において求めた。
[00109]それぞれのパッドの熱インピーダンスを表5に与える。
2.PCM45F表面層:
[00110]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるPCM45Fの25×25mmの片を、TFLEX640パッドの上面及び底面のそれぞれに適用した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00111]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX380を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるPCM45Fの25×25mmの片を、TFLEX380パッドの上面及び底面のそれぞれに適用した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00112]それぞれの複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
3.PCM45F-SP表面層:
[00113]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるPCM45F-SPを、TFLEX640パッドの上面及び底面のそれぞれの上に印刷し、次に溶媒を乾燥させるために80℃において30分間加熱処理した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00114]複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
4.サーマルグリース表面層:
[00115]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Dow Corning, Midland, MIから入手できるサーマルグリースTC5026を、TFLEX640パッドの上面及び底面のそれぞれの上に印刷した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00116]複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
5.ゲル表面層を有するPTM3180:
[00117]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるゲルを有するPTM3180の25×25mmの片を、TFLEX640パッドの上面及び底面のそれぞれに適用した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00118]複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
6.PCM45F及びPTM3180表面層:
[00119]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるPCM45Fの25×25mmの片を、TFLEX640パッドの1つの面に適用した。Honeywell International Inc., Morristown, NJから入手できるPTM3180の25×25mmの片を、TFLEX640パッドの反対側の面に適用した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00120]複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
7.TS27表面層:
[00121]TIMの中間層のマトリクスとしてギャップパッドTFLEX640を選択し、25×25mmの寸法に切断した。ポリマー、硬質ワックス及び軟質ワックス、並びに熱伝導性フィラーを含む圧縮性熱界面材料であるTS27の25×25mmの片を、TFLEX640パッドの上面及び底面のそれぞれに適用した。ASTM−D5470にしたがって、熱インピーダンステスターを用いて、多層TIMの熱インピーダンスを求めた。
[00122]複合体TIMの熱インピーダンスを表5に与える。
Figure 0006532475
[00123]本発明を代表的な設計を有するものとして記載したが、本発明は本発明の精神及び範囲内で更に修正することができる。したがって、本出願は、その一般原理を用いる発明の任意のバリエーション、使用、又は適応をカバーすると意図される。更に、本出願は、本発明が属する技術における公知又は慣習的な手順に包含され、特許請求の範囲の限界内に包含される本発明からのかかる逸脱をカバーすると意図される。
本発明の具体的態様は以下のとおりである。
[1]
少なくとも1種類のポリマー;
少なくとも1種類の熱伝導性フィラー;及び
ASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む少なくとも1種類の相変化材料;
を含む圧縮性熱界面材料。
[2]
圧縮性熱界面材料が、40psiの印加接触圧力下で少なくとも5%の圧縮率を有する、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[3]
圧縮性熱界面材料が50%以下のスプリングバック比を有する、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[4]
少なくとも1種類の相変化材料が、ASTM−D1321によって測定して50未満の針入度値を有する第2のワックスを含む、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[5]
少なくとも1種類の相変化材料が、ポリエチレンワックス、エチレン−酢酸ビニルコポリマーワックス、及び酸化ポリエチレンワックスからなる群から選択されるワックスを含む、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[6]
少なくとも1種類の熱伝導性フィラーが、金属、合金、非金属、金属酸化物、セラミックス、及びこれらの組合せからなる群から選択されるフィラーを含む、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[7]
少なくとも1種類のカップリング剤、少なくとも1種類の酸化防止剤、及び少なくとも1種類の架橋剤を更に含む、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[8]
少なくとも1種類のポリマー、少なくとも1種類の熱伝導性フィラー、及びASTM−D132によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む中間層;
少なくとも1種類の相変化材料及び少なくとも1種類の熱伝導性フィラーを含み、中間層の第1の表面に接触している第1の表面層;並びに
少なくとも1種類の相変化材料及び少なくとも1種類の熱伝導性フィラーを含み、中間層の第2の表面に接触している第2の表面層;
を更に含む、[1]に記載の圧縮性熱界面材料。
[9]
少なくとも1種類の溶媒;
少なくとも1種類のポリマー;
少なくとも1種類の熱伝導性フィラー;及び
ASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有するワックスを含む少なくとも1種類の相変化材料;
を含む、圧縮性熱界面材料を形成するための配合物。
[10]
ヒートシンク;
電子チップ;
少なくとも1種類のポリマー、少なくとも1種類の熱伝導性フィラー、及びASTM−D1321によって測定して少なくとも50の針入度値を有する少なくとも1種類のワックスを含む、ヒートシンクと電子チップの間に配置されている圧縮性熱界面材料;
を含む電子コンポーネント。

Claims (3)

  1. 少なくとも1種類のポリマー;
    少なくとも1種類の熱伝導性フィラー;並びに
    25℃においてASTM−D1321によって測定して70未満の針入度値を有する第1のワックス、及び25℃においてASTM−D1321によって測定して少なくとも70の針入度値を有する第2のワックスを含む少なくとも1種類の相変化材料;
    を含む圧縮性熱界面材料。
  2. 少なくとも1種類の溶媒;
    少なくとも1種類のポリマー;
    少なくとも1種類の熱伝導性フィラー;並びに
    25℃においてASTM−D1321によって測定して70未満の針入度値を有する第1のワックス、及び25℃においてASTM−D1321によって測定して少なくとも70の針入度値を有する第2のワックスを含む少なくとも1種類の相変化材料;
    を含む、圧縮性熱界面材料を形成するための配合物。
  3. ヒートシンク;
    電子チップ;
    少なくとも1種類のポリマー、少なくとも1種類の熱伝導性フィラー、並びに25℃においてASTM−D1321によって測定して70未満の針入度値を有する第1のワックス、及び25℃においてASTM−D1321によって測定して少なくとも70の針入度値を有する第2のワックスを含む、ヒートシンクと電子チップの間に配置されている圧縮性熱界面材料;
    を含む電子コンポーネント。
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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3207324U (ja) 2013-11-05 2016-11-10 グラフテック インターナショナル ホールディングス インコーポレーテッドGrafTech International Holdings Inc. グラファイト物品
KR20160094385A (ko) 2013-12-05 2016-08-09 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 조절된 pH를 갖는 주석(II) 메탄술포네이트 용액
CN105980512A (zh) 2014-02-13 2016-09-28 霍尼韦尔国际公司 可压缩热界面材料
MX2016016984A (es) 2014-07-07 2017-05-03 Honeywell Int Inc Material de interconexion termica con depurador ionico.
CN112080258A (zh) 2014-12-05 2020-12-15 霍尼韦尔国际公司 具有低热阻的高性能热界面材料
US10312177B2 (en) 2015-11-17 2019-06-04 Honeywell International Inc. Thermal interface materials including a coloring agent
CN105441034A (zh) * 2015-12-03 2016-03-30 深圳德邦界面材料有限公司 一种橡胶改性的相变导热界面材料及制备方法
CN109072051B (zh) * 2016-03-08 2023-12-26 霍尼韦尔国际公司 相变材料
JP6647139B2 (ja) * 2016-05-23 2020-02-14 三菱電機株式会社 放熱シートおよび半導体装置
US10182514B2 (en) 2016-06-27 2019-01-15 International Business Machines Corporation Thermal interface material structures
US10501671B2 (en) 2016-07-26 2019-12-10 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material
PT3839005T (pt) * 2016-10-12 2023-09-07 Honeywell Int Inc Materiais de interface térmica incluindo agente corante
CN110313056B (zh) 2017-01-17 2024-02-20 莱尔德技术股份有限公司 可压缩发泡热界面材料及其制备方法和使用方法
GB2578987B (en) * 2017-09-01 2023-02-08 Rogers Corp Fusible phase-change powders for thermal management, methods of manufacture thereof, and articles containing the powders
US11041103B2 (en) * 2017-09-08 2021-06-22 Honeywell International Inc. Silicone-free thermal gel
US10428256B2 (en) 2017-10-23 2019-10-01 Honeywell International Inc. Releasable thermal gel
EP3740968B1 (en) * 2018-01-18 2024-07-03 ABB Schweiz AG Power electronics module and a method of producing a power electronics module
EP3522212A1 (en) * 2018-01-31 2019-08-07 ABB Schweiz AG Power electronics module and a method of producing a power electronics module
US11072706B2 (en) * 2018-02-15 2021-07-27 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material
CN110323152B (zh) * 2018-03-30 2022-04-05 台湾积体电路制造股份有限公司 热评测系统及热评测方法
US10923412B2 (en) 2018-08-10 2021-02-16 Cerebras Systems Inc. Apparatuses and methods for implementing a sliding thermal interface between substrates with varying coefficients of thermal expansion
EP3885135B1 (en) * 2018-11-20 2024-01-10 Sekisui Polymatech Co., Ltd. Thermal conductive sheet and method for manufacturing same
US11373921B2 (en) 2019-04-23 2022-06-28 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing
US11037860B2 (en) 2019-06-27 2021-06-15 International Business Machines Corporation Multi layer thermal interface material
KR102408088B1 (ko) 2019-12-18 2022-06-13 한국세라믹기술원 고방열 산화알루미늄-엘라스토머 복합소재 및 이의 제조 방법
KR102408087B1 (ko) 2019-12-23 2022-06-13 한국세라믹기술원 고방열 질화알루미늄-엘라스토머 복합소재 및 이의 제조 방법
US20230030910A1 (en) * 2020-01-08 2023-02-02 Rogers Corporation High thermal conductivity phase change composite
US11774190B2 (en) 2020-04-14 2023-10-03 International Business Machines Corporation Pierced thermal interface constructions
WO2022079915A1 (ja) * 2020-10-16 2022-04-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 シート状物保持用構造体、シート状物保持体及び放熱装置の製造方法
JP2024500690A (ja) 2020-12-24 2024-01-10 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 熱界面材料
CN114571817A (zh) * 2022-03-04 2022-06-03 华中科技大学 兼具热管理与电磁屏蔽功能的复合膜材料及其制备方法
US20240156079A1 (en) * 2022-11-15 2024-05-16 Mineral Earth Sciences Llc Systems and methods for cooling sensor packages

Family Cites Families (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8510392D0 (en) * 1985-04-24 1985-05-30 British Petroleum Co Plc Production of thermoplastic elastomer composition
US4832781A (en) 1988-01-07 1989-05-23 Varian Associates, Inc. Methods and apparatus for thermal transfer with a semiconductor wafer in vacuum
US6197859B1 (en) 1993-06-14 2001-03-06 The Bergquist Company Thermally conductive interface pads for electronic devices
US6054198A (en) * 1996-04-29 2000-04-25 Parker-Hannifin Corporation Conformal thermal interface material for electronic components
US5950066A (en) 1996-06-14 1999-09-07 The Bergquist Company Semisolid thermal interface with low flow resistance
US5738936A (en) 1996-06-27 1998-04-14 W. L. Gore & Associates, Inc. Thermally conductive polytetrafluoroethylene article
US6180708B1 (en) * 1996-06-28 2001-01-30 W. R. Grace & Co.-Conn. Thermoplastic adsorbent compositions containing wax and insulating glass units containing such compositions
US5930115A (en) 1996-08-26 1999-07-27 Compaq Computer Corp. Apparatus, method and system for thermal management of a semiconductor device
DE69921695T2 (de) * 1998-12-15 2005-08-11 Parker-Hannifin Corp., Cleveland Verfahren zum anbringen eines thermischen phasenveränderlichen verbindungsmaterials
US6238596B1 (en) 1999-03-09 2001-05-29 Johnson Matthey Electronics, Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US6165612A (en) 1999-05-14 2000-12-26 The Bergquist Company Thermally conductive interface layers
US6706219B2 (en) 1999-09-17 2004-03-16 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof
US6605238B2 (en) 1999-09-17 2003-08-12 Honeywell International Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US6496373B1 (en) 1999-11-04 2002-12-17 Amerasia International Technology, Inc. Compressible thermally-conductive interface
US6797382B2 (en) 1999-12-01 2004-09-28 Honeywell International Inc. Thermal interface materials
US6451422B1 (en) 1999-12-01 2002-09-17 Johnson Matthey, Inc. Thermal interface materials
US6673434B2 (en) 1999-12-01 2004-01-06 Honeywell International, Inc. Thermal interface materials
DE19959262A1 (de) 1999-12-09 2001-06-21 Altoflex S A Leitfähiges pastöses Material und dessen Verwendung
US7369411B2 (en) 2000-02-25 2008-05-06 Thermagon, Inc. Thermal interface assembly and method for forming a thermal interface between a microelectronic component package and heat sink
US6372997B1 (en) 2000-02-25 2002-04-16 Thermagon, Inc. Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink
US7078109B2 (en) 2000-02-25 2006-07-18 Thermagon Inc. Heat spreading thermal interface structure
US6940721B2 (en) 2000-02-25 2005-09-06 Richard F. Hill Thermal interface structure for placement between a microelectronic component package and heat sink
US6339120B1 (en) 2000-04-05 2002-01-15 The Bergquist Company Method of preparing thermally conductive compounds by liquid metal bridged particle clusters
US6984685B2 (en) 2000-04-05 2006-01-10 The Bergquist Company Thermal interface pad utilizing low melting metal with retention matrix
US6797758B2 (en) 2000-04-05 2004-09-28 The Bergquist Company Morphing fillers and thermal interface materials
US6616999B1 (en) 2000-05-17 2003-09-09 Raymond G. Freuler Preapplicable phase change thermal interface pad
AU2001264968A1 (en) 2000-05-31 2001-12-11 Honeywell International, Inc. Filling device
US6506332B2 (en) 2000-05-31 2003-01-14 Honeywell International Inc. Filling method
GB0014622D0 (en) 2000-06-16 2000-08-09 D C Heat Limited Clothing or footwear with heating element
US7608324B2 (en) 2001-05-30 2009-10-27 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof
JP4237505B2 (ja) 2001-05-30 2009-03-11 ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド インターフェース材料、ならびにその製造方法および使用方法
US6818301B2 (en) 2001-06-01 2004-11-16 Psiloquest Inc. Thermal management with filled polymeric polishing pads and applications therefor
US7038009B2 (en) 2001-08-31 2006-05-02 Cool Shield, Inc. Thermally conductive elastomeric pad and method of manufacturing same
US6620515B2 (en) 2001-12-14 2003-09-16 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials
US7682690B2 (en) 2002-02-06 2010-03-23 Parker-Hannifin Corporation Thermal management materials having a phase change dispersion
US6946190B2 (en) 2002-02-06 2005-09-20 Parker-Hannifin Corporation Thermal management materials
US6926955B2 (en) 2002-02-08 2005-08-09 Intel Corporation Phase change material containing fusible particles as thermally conductive filler
US7208191B2 (en) 2002-04-23 2007-04-24 Freedman Philip D Structure with heat dissipating device and method
US6657297B1 (en) 2002-08-15 2003-12-02 The Bergquist Company Flexible surface layer film for delivery of highly filled or low cross-linked thermally conductive interface pads
US7775685B2 (en) 2003-05-27 2010-08-17 Cree, Inc. Power surface mount light emitting die package
JP4030399B2 (ja) * 2002-09-25 2008-01-09 電気化学工業株式会社 自己粘着性相変化型放熱部材
AU2003284309A1 (en) 2002-10-21 2004-05-13 Laird Technologies, Inc. Thermally conductive emi shield
US7326042B2 (en) 2002-12-24 2008-02-05 Bostik Findley, Inc. Apparatus for packaging hot melt adhesives using a mold and carrier
US7013965B2 (en) 2003-04-29 2006-03-21 General Electric Company Organic matrices containing nanomaterials to enhance bulk thermal conductivity
JP4337433B2 (ja) 2003-07-08 2009-09-30 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイパネルのエージング方法およびエージング装置
US7253523B2 (en) 2003-07-29 2007-08-07 Intel Corporation Reworkable thermal interface material
US20050072334A1 (en) * 2003-10-07 2005-04-07 Saint-Gobain Performance Plastics, Inc. Thermal interface material
US7119143B2 (en) 2004-03-04 2006-10-10 Laird Technologies, Inc. Silicone pads for electronics thermal management
EP1734079B1 (en) 2004-04-01 2016-01-20 Kaneka Corporation Single-component curable composition
JP5225582B2 (ja) 2004-05-07 2013-07-03 株式会社カネカ 接着性の改善された硬化性組成物
JP4480457B2 (ja) 2004-05-17 2010-06-16 株式会社カネカ 硬化性組成物
US20060060980A1 (en) 2004-09-22 2006-03-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Ic package having ground ic chip and method of manufacturing same
US7850870B2 (en) 2004-10-28 2010-12-14 Dow Corning Corporation Conductive curable compositions
US7328547B2 (en) 2004-10-29 2008-02-12 Bostik, Inc. Process for packaging plastic materials like hot melt adhesives
CN101056945B (zh) 2004-11-10 2011-04-13 株式会社钟化 固化性组合物
US20070116626A1 (en) 2005-05-11 2007-05-24 Molecular Nanosystems, Inc. Methods for forming carbon nanotube thermal pads
US20060264566A1 (en) 2005-05-19 2006-11-23 Wacker Chemical Corporation HCR room temperature curable rubber composition
JP4972640B2 (ja) 2005-05-26 2012-07-11 ナノコンプ テクノロジーズ インコーポレイテッド 電子部品の熱管理のためのシステムおよび方法
US20070051773A1 (en) 2005-09-02 2007-03-08 Ruchert Brian D Thermal interface materials, methods of preparation thereof and their applications
JP2007131798A (ja) 2005-11-14 2007-05-31 Kaneka Corp 硬化性組成物
US7262369B1 (en) 2006-03-09 2007-08-28 Laird Technologies, Inc. Combined board level EMI shielding and thermal management
US20070179232A1 (en) 2006-01-30 2007-08-02 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Thermal Interface Material
US7440281B2 (en) 2006-02-01 2008-10-21 Apple Inc. Thermal interface apparatus
US7463496B2 (en) 2006-03-09 2008-12-09 Laird Technologies, Inc. Low-profile board level EMI shielding and thermal management apparatus and spring clips for use therewith
US20070219312A1 (en) 2006-03-17 2007-09-20 Jennifer Lynn David Silicone adhesive composition and method for preparing the same
KR100820902B1 (ko) 2006-11-08 2008-04-11 조인셋 주식회사 다층 열 전도성 패드
US7765811B2 (en) 2007-06-29 2010-08-03 Laird Technologies, Inc. Flexible assemblies with integrated thermoelectric modules suitable for use in extracting power from or dissipating heat from fluid conduits
DE102007037435B4 (de) 2007-08-08 2012-03-22 Sgl Carbon Se Schichtstoff
CN101372614B (zh) 2007-08-24 2011-06-08 清华大学 碳纳米管阵列复合导热片及其制备方法
JP5535915B2 (ja) 2007-09-12 2014-07-02 スモルテック アーベー ナノ構造体による隣接層の接続および接合
US8112884B2 (en) 2007-10-08 2012-02-14 Honeywell International Inc. Method for providing an efficient thermal transfer through a printed circuit board
US20100304152A1 (en) 2007-10-22 2010-12-02 Flexible Ceramics , Inc. Fire resistant flexible ceramic resin blend and composite products formed therefrom
US20090111925A1 (en) 2007-10-31 2009-04-30 Burnham Kikue S Thermal interface materials, methods of production and uses thereof
US8445102B2 (en) 2007-11-05 2013-05-21 Laird Technologies, Inc. Thermal interface material with thin transfer film or metallization
US8076773B2 (en) 2007-12-26 2011-12-13 The Bergquist Company Thermal interface with non-tacky surface
US7732829B2 (en) 2008-02-05 2010-06-08 Hymite A/S Optoelectronic device submount
CN102066488A (zh) 2008-04-21 2011-05-18 霍尼韦尔国际公司 热互连和界面材料、它们的制造方法和用途
US8115303B2 (en) 2008-05-13 2012-02-14 International Business Machines Corporation Semiconductor package structures having liquid coolers integrated with first level chip package modules
US8449679B2 (en) 2008-08-15 2013-05-28 Lam Research Corporation Temperature controlled hot edge ring assembly
US20100129648A1 (en) 2008-11-26 2010-05-27 Jun Xu Electronic packaging and heat sink bonding enhancements, methods of production and uses thereof
CN101768427B (zh) * 2009-01-07 2012-06-20 清华大学 热界面材料及其制备方法
US9353304B2 (en) * 2009-03-02 2016-05-31 Honeywell International Inc. Thermal interface material and method of making and using the same
DE102009001722B4 (de) 2009-03-20 2012-04-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Aufbringen eines Wärmeleitmediums auf eine Wärmeableitfläche
KR101759180B1 (ko) 2009-04-03 2017-07-18 보르벡크 머터리얼스 코포레이션 그라핀 시트 및 흑연을 함유하는 중합체 조성물
US20100256280A1 (en) 2009-04-07 2010-10-07 Laird Technologies, Inc. Methods of forming resin and filler composite systems
WO2010129647A1 (en) 2009-05-05 2010-11-11 Parker Hannifin Corporation Thermally conductive foam product
US8362607B2 (en) 2009-06-03 2013-01-29 Honeywell International Inc. Integrated circuit package including a thermally and electrically conductive package lid
KR100953679B1 (ko) 2009-06-15 2010-04-20 두성산업 주식회사 방열재 및 그 제조 방법
US8081468B2 (en) 2009-06-17 2011-12-20 Laird Technologies, Inc. Memory modules including compliant multilayered thermally-conductive interface assemblies
US20120174956A1 (en) 2009-08-06 2012-07-12 Laird Technologies, Inc. Thermoelectric Modules, Thermoelectric Assemblies, and Related Methods
US8223498B2 (en) 2009-11-11 2012-07-17 Juniper Networks, Inc. Thermal interface members for removable electronic devices
TWI370532B (en) 2009-11-12 2012-08-11 Ind Tech Res Inst Chip package structure and method for fabricating the same
US9260645B2 (en) 2010-02-23 2016-02-16 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials including thermally reversible gels
US7990711B1 (en) 2010-02-24 2011-08-02 International Business Machines Corporation Double-face heat removal of vertically integrated chip-stacks utilizing combined symmetric silicon carrier fluid cavity and micro-channel cold plate
US8009429B1 (en) 2010-03-22 2011-08-30 Honeywell International Inc. Electrical component thermal management
WO2011137360A1 (en) 2010-04-30 2011-11-03 Indium Corporation Thermal interface materials with good reliability
US8917510B2 (en) 2011-01-14 2014-12-23 International Business Machines Corporation Reversibly adhesive thermal interface material
KR101800437B1 (ko) 2011-05-02 2017-11-22 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US20120292005A1 (en) 2011-05-19 2012-11-22 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials and methods for processing the same
US20130127069A1 (en) 2011-11-17 2013-05-23 International Business Machines Corporation Matrices for rapid alignment of graphitic structures for stacked chip cooling applications
WO2013074920A1 (en) 2011-11-17 2013-05-23 Reliabulb, Llc Low thermal impedance interface for an led bulb
CN102585773A (zh) * 2011-12-29 2012-07-18 深圳德邦界面材料有限公司 一种相变化导热界面材料及其制备方法
US8937384B2 (en) 2012-04-25 2015-01-20 Qualcomm Incorporated Thermal management of integrated circuits using phase change material and heat spreaders
US8587945B1 (en) 2012-07-27 2013-11-19 Outlast Technologies Llc Systems structures and materials for electronic device cooling
CN103333447A (zh) 2013-06-26 2013-10-02 苏州天脉导热科技有限公司 一种相变化热界面材料及其制备方法
CN105980512A (zh) 2014-02-13 2016-09-28 霍尼韦尔国际公司 可压缩热界面材料

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