JP6520073B2 - テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械 - Google Patents

Description

本発明は、テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械に関する。

デバイスの製造工程又はデバイスの測定工程において、ワークの位置を決定する位置決め装置が使用される。位置決め装置は、ワークを支持して移動可能なテーブルを有するテーブル装置を備える。例えば、フラットパネルディスプレイの製造工程においては、２枚の基板を貼り合わせる工程が実施される。一方の基板がテーブルに支持される。テーブルに支持された一方の基板に他方の基板が上方から押し付けられることによって、２枚の基板が貼り合せられる。２枚の基板は、相対的に位置決めされた状態で、貼り合わせられる。フラットパネルディスプレイの一種である液晶パネルディスプレイの製造工程において、２枚の基板を貼り合せる技術の一例が特許文献１に開示されている。

特開２００２−１３１７６２号公報

一方の基板に他方の基板が押し付けられ、鉛直方向の荷重がテーブルに作用したとき、そのテーブルの位置決め精度が不足すると、製造されるデバイスの性能が低下する可能性がある。

本発明の態様は、位置決め精度の不足を抑制できるテーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、テーブルと、前記テーブルの下面と対向する上面を有するベース部材と、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが間隙を介して対向するように前記テーブルを支持する支持装置と、を備え、前記支持装置は、所定値以上の鉛直方向の荷重が前記テーブルに作用したとき、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが接触するように、前記鉛直方向に前記テーブルをガイドするテーブルガイド軸受を有する、テーブル装置が提供される。

本発明の第１の態様によれば、テーブルガイド軸受によって、鉛直方向のテーブルの変位が許容される。所定値以上の鉛直方向の荷重がテーブルに作用したとき、テーブルは、テーブルガイド軸受にガイドされて下方に移動し、ベース部材の上面に支持される。テーブルは、テーブルガイド軸受により、下方に真っ直ぐに移動可能である。テーブルが熱変形しても、そのテーブルの熱変形は、テーブルガイド軸受に吸収される。そのため、鉛直方向の荷重がテーブルに作用したときにおいても、テーブルの位置決め精度の不足が抑制される。

本発明の第１の態様において、前記テーブルは、前記テーブルガイド軸受にガイドされるロッド状の第１スライド部材を有し、前記支持装置は、前記テーブルガイド軸受が前記第１スライド部材の周囲に配置されるように前記テーブルガイド軸受を支持する支持部材を有してもよい。

これにより、テーブルは、第１スライド部材を介して、テーブルガイド軸受にガイドされる。

本発明の第１の態様において、前記第１スライド部材は、前記テーブルの上面に複数設けられ、前記テーブルガイド軸受は、複数の前記第１スライド部材それぞれの周囲に配置されるように、複数設けられてもよい。

これにより、テーブルは、複数の第１スライド部材を介して、テーブルガイド軸受にガイドされる。

本発明の第１の態様において、水平面内において前記支持部材を移動可能なアクチュエータを有する移動システムを備えてもよい。

これにより、テーブルは、支持部材と一緒に水平面内を移動可能である。

本発明の第１の態様において、前記支持装置は、前記テーブルの周囲に配置され、前記支持部材が接続される上面を有するフレーム部材と、前記ベース部材の周囲に配置されるステージと、を更に有し、前記移動システムは、前記フレーム部材の下面に接続される第１リニアベアリングと、前記ステージの上面に配置され水平面内の第１軸と平行な方向に前記第１リニアベアリングをガイドする第１ガイド部材と、前記ステージの下面に接続される第２リニアベアリングと、前記第１軸と直交する水平面内の第２軸と平行な方向に前記第２リニアベアリングをガイドする第２ガイド部材と、前記第１軸と平行な方向に前記第１リニアベアリングを移動するための動力を発生する第１アクチュエータと、前記第２軸と平行な方向に前記第２リニアベアリングを移動するための動力を発生する第２アクチュエータと、を有してもよい。

これにより、テーブルは、水平面内において２つの方向に移動可能である。

本発明の第１の態様において、前記移動システムは、複数の前記支持部材のうち第１支持部材に接続される第３ガイド部材と、水平面内の第２軸と平行な方向に前記第３ガイド部材にガイドされる第３リニアベアリングと、複数の前記支持部材のうち第２支持部材に接続される第４ガイド部材と、前記第２軸と直交する水平面内の第１軸と平行な方向に前記第４ガイド部材にガイドされる第４リニアベアリングと、前記第３リニアベアリングを動かして、前記第１軸と平行な方向に前記第１支持部材を移動するための動力を発生する第１アクチュエータと、前記第４リニアベアリングを動かして、前記第２軸と平行な方向に前記第２支持部材を移動するための動力を発生する第２アクチュエータと、を有してもよい。

これにより、テーブルは、水平面内において２つの方向に移動可能である。

本発明の第１の態様において、前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータの一方又は両方が複数設けられ、前記移動システムは、複数の前記第１アクチュエータの作動量、又は複数の前記第２アクチュエータの作動量を変えて、水平面と直交する第３軸と平行な軸を中心とする回転方向に前記テーブルを移動してもよい。

これにより、テーブルは、第１軸と平行な方向、第２軸と平行な方向、及び回転方向の３つの方向に移動可能である。

本発明の第１の態様において、少なくとも前記テーブル及び前記テーブルガイド軸受は、チャンバ装置の内部空間に配置され、前記アクチュエータは、前記チャンバ装置の外部空間に配置されてもよい。

これにより、チャンバ装置の小型化が図られる。アクチュエータは、チャンバ装置の外部空間に配置されるので、アクチュエータから熱が発生しても、その熱がテーブルに及ぼす影響が抑制される。

本発明の第１の態様において、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面との間に配置され、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが間隙を介して対向する状態で、前記ベース部材の上面と平行な水平方向に前記テーブルをガイドするプレーンガイド装置を備えてもよい。

これにより、テーブルは、水平方向に円滑に移動可能である。

本発明の第１の態様において、前記プレーンガイド装置は、ロッド状の第２スライド部材を有し、前記テーブルに支持され、鉛直方向に前記第２スライド部材を移動可能に支持するプレーンガイド軸受を備えてもよい。

これにより、プレーンガイド軸受がベース部材の上面に接触した状態で、テーブルの下面とベース部材の上面とが接触するようにテーブルが下方に移動するとき、プレーンガイド装置は、テーブルに対して上方に相対移動可能である。

本発明の第１の態様において、鉛直方向に前記プレーンガイド装置を移動する駆動素子を備えてもよい。

これにより、プレーンガイド装置に作用する鉛直方向の荷重が調整される。例えば、プレーンガイド装置に過大な荷重が作用することが抑制される。

本発明の第２の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置を備え、前記テーブル装置の前記テーブルに支持されたワークの位置を決定する、位置決め装置が提供される。

本発明の第２の態様によれば、テーブルに支持されたワークの位置決め精度の不足が抑制される。

本発明の第３の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置と、前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置が提供される。

本発明の第３の態様によれば、フラットパネルディスプレイ製造装置は、テーブルによって位置決めされたワークを処理できるので、そのワークから不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。フラットパネルディスプレイ製造装置は、例えば２枚の基板を貼り合せる貼り合せ装置を含み、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。

本発明の第４の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置と、前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、を備える精密機械が提供される。

本発明の第４の態様によれば、精密機械は、テーブルによって位置決めされたワークを処理できるので、そのワークから不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。精密機械は、例えば、精密測定機及び精密加工機の一方又は両方を含む。精密測定機は、テーブルによって位置決めされたワークを測定できるので、そのワークの測定を精密に行うことができる。精密加工機は、テーブルによって位置決めされたワークを加工できるので、そのワークの加工を精密に行うことができる。

本発明の態様によれば、位置決め精度の不足を抑制できるテーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械が提供される。

図１は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図２は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図３は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図４は、第１実施形態に係るテーブル装置の一部を示す図である。 図５は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図６は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図７は、第３実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図８は、第４実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図９は、第４実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図１０は、第５実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図１１は、第５実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図１２は、第５実施形態に係るテーブル装置の一部を示す図である。 図１３は、第６実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図１４は、第６実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図１５は、第６実施形態に係るテーブル装置の一部を示す図である。 図１６は、第６実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図１７は、第６実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図１８は、第７実施形態に係るフラットパネルディスプレイ製造装置の一例を示す図である。 図１９は、第８実施形態に係る精密機械の一例を示す図である。 図２０は、第９実施形態に係る精密機械の一例を示す図である。

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下で説明する各実施形態の構成要素は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。

以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。所定面内の第１軸と平行な方向を、Ｘ軸方向、とする。所定面内において第１軸と直交する第２軸と平行な方向を、Ｙ軸方向、とする。所定面と直交する第３軸と平行な方向を、Ｚ軸方向、とする。Ｘ軸（第１軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＸ方向、とする。Ｙ軸（第２軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＹ方向、とする。Ｚ軸（第３軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＺ方向、とする。所定面は、ＸＹ平面を含む。本実施形態において、所定面と水平面とは平行である。Ｚ軸方向は鉛直方向である。Ｘ軸は、ＹＺ平面と直交する。Ｙ軸は、ＸＺ平面と直交する。Ｚ軸は、ＸＹ平面と直交する。ＸＹ平面は、Ｘ軸及びＹ軸を含む。ＸＺ平面は、Ｘ軸及びＺ軸を含む。ＹＺ平面は、Ｙ軸及びＺ軸を含む。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一例を示す平面図である。図２は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一例を示す側面図である。図３は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一例を示す側断面図である。

図１、図２、及び図３に示すように、テーブル装置１００Ａは、上面１Ａ及び下面１Ｂを有するテーブル１と、テーブル１の下面１Ｂと対向する上面２Ａを有するベース部材２と、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが間隙Ｇを介して対向するようにテーブル１を支持する支持装置３と、を備えている。テーブル１は、ワークＳを支持する。ワークＳは、テーブル１の上面１Ａに支持される。

テーブル装置１００Ａは、ワークＳの位置を決定する位置決め装置として機能する。テーブル装置１００Ａを備える位置決め装置は、テーブル１に支持されたワークＳの位置を決定する。テーブル装置を、位置決め装置、と称してもよい。

支持装置３は、所定値以上の鉛直方向（Ｚ軸方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触するように、鉛直方向にテーブル１をガイドするテーブルガイド軸受４を有する。

テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされるロッド状の第１スライド部材５を有する。第１スライド部材５は、テーブル１の上面１Ａに配置される。第１スライド部材５は、上面１Ａから上方（＋Ｚ方向）に突出するように、テーブル１の上面１Ａに設けられる。

テーブルガイド軸受４は、実質的に円筒状である。テーブルガイド軸受４は、ロッド状の第１スライド部材５の周囲に配置される。

支持装置３は、テーブルガイド軸受４を支持する支持部材６を有する。支持部材６は、テーブルガイド軸受４が第１スライド部材５の周囲に配置されるように、テーブルガイド軸受４を支持する。

図１に示すように、第１スライド部材５は、テーブル１の上面１Ａに複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａの中心を囲むように、複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａに支持されたワークＳの周囲に配置される。テーブルガイド軸受４は、複数の第１スライド部材５のそれぞれの周囲に配置されるように、複数設けられる。支持部材６は、複数のテーブルガイド軸受４のそれぞれを支持するように、複数設けられる。

本実施形態において、第１スライド部材５は、上面１Ａに４つ設けられる。テーブルガイド軸受４は、４つ設けられる。支持部材６は、４つ設けられる。

テーブル装置１００Ａは、水平面内において支持部材６を移動可能なアクチュエータ７を有する移動システム８を備える。支持部材６が移動されることによって、支持部材６と接続されているテーブル１は、支持部材６と一緒に、水平面内において移動する。

本実施形態において、アクチュエータ７は、Ｘ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第１アクチュエータ７Ｘと、Ｙ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第２アクチュエータ７Ｙと、を含む。本実施形態において、アクチュエータ７は、サーボモータを含む。

本実施形態において、支持装置３は、テーブル１の周囲に配置され、支持部材６が接続される上面９Ａを有するフレーム部材９と、ベース部材２の周囲に配置されるステージ１０と、を有する。本実施形態において、ステージ１０の上面１０Ａは、ベース部材２の上面２Ａよりも下方に配置される。なお、上面１０Ａは、上面２Ａと同一平面内（同じ高さ）に配置されてもよいし、上面２Ａよりも上方に配置されてもよい。

フレーム部材９は、開口９Ｋを有する。開口９Ｋの内側に、テーブル１の少なくとも一部が配置される。フレーム部材９とテーブル１とは、離れている。開口９Ｋの内面と、テーブル１の側面とは、間隙を介して対向する。

ステージ１０は、ベース部材２の周囲に配置されるフレーム状の部材である。ステージ１０は、開口１０Ｋを有する。開口１０Ｋの内側に、ベース部材２の少なくとも一部が配置される。ステージ１０とベース部材２とは、離れている。開口１０Ｋの内面と、ベース部材２の側面とは、間隙を介して対向する。

移動システム８は、フレーム部材９の下面９Ｂに接続される第１リニアベアリング１１と、ステージ１０の上面１０Ａに配置され、Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１をガイドする第１ガイド部材１２と、ステージ１０の下面１０Ｂに接続される第２リニアベアリング１３と、ベース部材２に配置され、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３をガイドする第２ガイド部材１４と、を備えている。

第１アクチュエータ７Ｘは、Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１を移動するための動力を発生する。第２アクチュエータ７Ｙは、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３を移動するための動力を発生する。

アクチュエータ７（第１アクチュエータ７Ｘ及び第２アクチュエータ７Ｙ）は、サーボモータを含む。移動システム８は、アクチュエータ７に接続されたボールねじ機構１５を有する。ボールねじ機構１５は、第１アクチュエータ７Ｘに接続された第１ボールねじ機構１５Ｘと、第２アクチュエータ７Ｙに接続された第２ボールねじ機構１５Ｙと、を含む。第１ボールねじ機構１５Ｘは、第１アクチュエータ７Ｘが発生する動力によって回転するボールねじと、そのボールねじの周囲に配置されフレーム部材９の下面９Ｂと接続されるナットと、を含む。第２ボールねじ機構１５Ｙは、第２アクチュエータ７Ｙが発生する動力によって回転するボールねじと、そのボールねじの周囲に配置されステージ１０の下面１０Ｂと接続されるナットと、を含む。アクチュエータ７とボールねじ機構１５とは、カップリング１６を介して接続される。

第１アクチュエータ７Ｘが作動すると、第１ボールねじ機構１５Ｘのボールねじが回転する。これにより、フレーム部材９がＸ軸方向に移動する。第１リニアベアリング１１を有するフレーム部材９は、第１ガイド部材１２によりＸ軸方向にガイドされる。フレーム部材９とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、及び支持部材６を介して接続されている。したがって、フレーム部材９がＸ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、及び支持部材６は、フレーム部材９と一緒に、Ｘ軸方向に移動する。

第２アクチュエータ７Ｙが作動すると、第２ボールねじ機構１５Ｙのボールねじが回転する。これにより、ステージ１０がＹ軸方向に移動する。第２リニアベアリング１３を有するステージ１０は、第２ガイド部材１４によりＹ軸方向にガイドされる。フレーム部材９は、第１ガイド部材１２及び第１リニアベアリング１１を介して、ステージ１０に支持されている。したがって、ステージ１０がＹ軸方向に移動することにより、フレーム部材９は、ステージ１０と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。フレーム部材９とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、及び支持部材６を介して接続されている。したがって、フレーム部材９がＹ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、及び支持部材６は、フレーム部材９と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。

このように、本実施形態においては、第１アクチュエータ７Ｘ及び第２アクチュエータ７Ｙを含む移動システム８によって、テーブル１は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の２つの方向に移動可能である。

図４は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一部を示す図である。図４は、テーブルガイド軸受４及び第１スライド部材５の近傍を拡大した図である。図４に示すように、テーブル１は、上面１Ａに固定された第１スライド部材５を有する。第１スライド部材５は、上面１Ａから上方に突出するように設けられる。第１スライド部材５は、ロッド部５Ｌと、ロッド部５Ｌの上端部及び下端部のそれぞれに配置されたフランジ部５Ｆと、を有する。

テーブルガイド軸受４は、ロッド部５Ｌの周囲に配置される。テーブルガイド軸受４は、ケーシング１７に支持される。支持部材６は、ケーシング１７を介して、テーブルガイド軸受４を支持する。

テーブルガイド軸受４は、玉軸受を含む。テーブルガイド軸受４は、ロッド部５Ｌに接触するように配置される内輪４Ａと、内輪４Ａの周囲に配置される外輪４Ｂと、内輪４Ａと外輪４Ｂとの間に配置される玉４Ｃと、を含む。本実施形態において、内輪４Ａ、外輪４Ｂ、及び玉４Ｃを含む玉軸受は、鉛直方向（ロッド部５Ｌの中心軸と平行な方向）に２つ配置される。

テーブルガイド軸受４は、鉛直方向の第１スライド部材５の移動を許容する。第１スライド部材５は、鉛直方向に移動可能にテーブルガイド軸受４に支持される。本実施形態において、テーブル１は、フレーム部材９及び支持部材６に対して、鉛直方向に移動可能である。換言すれば、フレーム部材９及び支持部材６に対する鉛直方向のテーブル１の変位が許容されている。

テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満の場合、テーブルガイド軸受４を含む支持装置３は、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触しないように、テーブル１を支持する。テーブル１に対する鉛直方向の荷重が零の場合（無荷重の場合）、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは、間隙Ｇを介して対向する。

テーブルガイド軸受４は、間隙Ｇの寸法だけ、鉛直方向に関するテーブル１の移動を許容する。間隙Ｇの寸法とは、テーブル１に対する鉛直方向の荷重が零のとき（無荷重のとき）の下面１Ｂと上面２Ａとの距離である。鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされながら、下方（−Ｚ方向）に移動する。テーブル１が下方に移動することにより、テーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブル１に対する鉛直方向の力が所定値のとき、テーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブルガイド軸受４は、所定値以上の鉛直方向下方の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触するように、鉛直方向にテーブル１をガイドする。テーブル１の下面１Ｂがベース部材２の上面２Ａに接触することにより、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。

間隙Ｇの寸法は、テーブルガイド軸受４に過剰な負荷（過負荷）が作用される前に下面１Ｂと上面２Ａとが接触するように定められている。換言すれば、間隙Ｇの寸法の範囲内でテーブル１が鉛直方向に移動しても、テーブルガイド軸受４に過負荷が作用しないように、間隙Ｇの寸法が定められている。なお、テーブルガイド軸受４に過負荷が作用する状態とは、静定格荷重を超えるような荷重がテーブルガイド軸受４に作用する状態、及び玉４Ｃが内輪４Ａ及び外輪４Ｂのガイド溝から外れてしまうような荷重がテーブルガイド軸受４に作用する状態が例示される。

所定値とは、−Ｚ方向の荷重がテーブル１に作用し、鉛直方向に関するテーブル１の位置をテーブルガイド軸受４が維持できず、テーブル１が−Ｚ方向に移動して、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触し、間隙Ｇの寸法が零になるときの、テーブル１に作用する−Ｚ方向の荷重の値をいう。テーブル１に作用する荷重が零のとき（無荷重のとき）、テーブル１は−Ｚ方向に移動せず、鉛直方向に関するテーブル１の位置は維持され、下面１Ｂと上面２Ａとの間隙Ｇは維持される。テーブル１に−Ｚ方向の荷重が作用すると、−Ｚ方向のテーブル１の移動が開始される。テーブル１に作用する荷重が所定値未満のとき、テーブル１は−Ｚ方向に移動し、間隙Ｇの寸法は徐々に小さくなるものの、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは離れている。テーブル１に作用する荷重が所定値に達すると、−Ｚ方向に移動したテーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触し、間隙Ｇの寸法は零になる。

なお、テーブルガイド軸受４に過負荷が作用される前に下面１Ｂと上面２Ａとが接触可能な間隙Ｇの寸法、及び荷重の所定値は、実験又はシミュレーションに基づいて予め求めることができる。求められたデータに基づいて、使用されるテーブルガイド軸受４に適切な間隙Ｇの寸法、及び荷重の所定値が定められる。

次に、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの動作の一例について説明する。本実施形態においては、テーブル装置１００Ａが、フラットパネルディスプレイの一種である液晶パネルディスプレイの製造工程において使用される例について説明する。テーブル装置１００Ａを用いて、液晶パネルディスプレイの２枚の基板を貼り合せる例について説明する。

ワークＳとして、２枚の基板のうち一方の基板がテーブル１の上面１Ａに支持される。他方の基板が、基板ホルダに保持される。テーブル１に支持された一方の基板に、基板ホルダに保持された他方の基板が上方から押し付けられる。

一方の基板に他方の基板が押し付けられる前においては、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとの間に間隙Ｇが形成されている。一方の基板に他方の基板が押し付けられ、鉛直方向下方の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、下方に移動する。テーブルガイド軸受４は、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触するように、鉛直方向にテーブル１をガイドする。テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされて下方に移動する。荷重が所定値に達すると、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触し、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。

テーブル１は、テーブルガイド軸受４により、下方に真っ直ぐに移動可能である。そのため、鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制される。

また、例えば、テーブル１が熱変形しても、そのテーブル１の熱変形は、テーブルガイド軸受４に吸収される。例えば、テーブル１が水平方向に熱変形しても、その熱変形は、テーブルガイド軸受４に吸収される。そのため、テーブルガイド軸受４は、テーブル１を良好にガイドすることができる。

一方の基板に他方の基板が押し付けられ、一方の基板と他方の基板とが貼り合せられた後、基板ホルダが上昇する。これにより、テーブル１に作用する荷重は減少する。テーブル１に作用する荷重が減少し、テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満になったとき、テーブルガイド軸受４の復元力により、テーブル１は上方に移動する。これにより、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとの間に間隙Ｇが形成される。

以上説明したように、本実施形態によれば、鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４により、下方に真っ直ぐに移動可能である。所定値以上の鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１はベース部材２に支持される。そのため、鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制される。

また、テーブル１が熱変形しても、そのテーブルの熱変形１は、テーブルガイド軸受４に吸収される。例えば、テーブル１が水平方向に熱変形しても、その熱変形は、テーブルガイド軸受４に吸収される。そのため、テーブルガイド軸受４は、テーブル１を良好にガイドすることができる。また、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制される。

また、本実施形態においては、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされるロッド状の第１スライド部材５を有し、支持装置３は、テーブルガイド軸受４が第１スライド部材５の周囲に配置されるようにテーブルガイド軸受４を支持する支持部材６を有する。これにより、テーブル１は、第１スライド部材５を介して、テーブルガイド軸受４に良好にガイドされる。

また、本実施形態においては、第１スライド部材５は、テーブル１の上面１Ａに複数設けられ、テーブルガイド軸受４は、複数の第１スライド部材５それぞれの周囲に配置されるように、複数設けられる。これにより、テーブル１は、複数の第１スライド部材５を介して、テーブルガイド軸受４に良好にガイドされる。

また、本実施形態においては、水平面内において支持部材６を移動可能なアクチュエータ７を有する移動システム８が設けられる。これにより、テーブル１は、支持部材６と一緒に水平面内を移動することができる。

また、本実施形態においては、支持装置３は、テーブル１の周囲に配置され、支持部材６が接続される上面９Ａを有するフレーム部材９と、ベース部材２の周囲に配置されるステージ１０と、を有する。移動システム８は、フレーム部材９の下面９Ｂに接続される第１リニアベアリング１１と、ステージ１０の上面１０Ａに配置されＸ軸方向に第１リニアベアリング１１をガイドする第１ガイド部材１２と、ステージ１０の下面１０Ｂに接続される第２リニアベアリング１３と、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３をガイドする第２ガイド部材１４と、Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１を移動するための動力を発生する第１アクチュエータ７Ｘと、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３を移動するための動力を発生する第２アクチュエータ７Ｙと、を有する。これにより、テーブル１は、水平面内においてＸ軸方向及びＹ軸方向の２つの方向に移動することができる。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図５は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂの一例を示す平面図である。図６は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂの一例を示す側断面図である。

図５及び図６に示すように、テーブル装置１００Ｂは、上面１Ａ及び下面１Ｂを有するテーブル１と、テーブル１の下面１Ｂと対向する上面２Ａを有するベース部材２と、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが間隙Ｇを介して対向するようにテーブル１を支持する支持装置３と、を備えている。テーブル１は、ワークＳを支持する。ワークＳは、テーブル１の上面１Ａに支持される。

支持装置３は、鉛直方向にテーブル１をガイドするテーブルガイド軸受４と、テーブルガイド軸受４を支持する支持部材６と、を有する。テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされるロッド状の第１スライド部材５を有する。

図５に示すように、第１スライド部材５は、テーブル１の上面１Ａに複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａの中心を囲むように、複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａに支持されたワークＳの周囲に配置される。本実施形態において、第１スライド部材５は、上面１Ａに６つ設けられる。テーブルガイド軸受４は、６つ設けられる。支持部材６は、６つ設けられる。

テーブル装置１００Ｂは、水平面内において支持部材６を移動可能なアクチュエータ７を有する移動システム８を備える。支持部材６が移動されることによって、支持部材６と接続されているテーブル１は、支持部材６と一緒に、水平面内において移動する。

アクチュエータ７は、Ｘ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第１アクチュエータ７Ｘと、Ｙ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第２アクチュエータ７Ｙと、を含む。

本実施形態において、移動システム８は、複数の支持部材６のうち第１支持部材６Ｘに接続される第３ガイド部材１８と、Ｙ軸方向に第３ガイド部材１８にガイドされる第３リニアベアリング１９と、複数の支持部材６のうち第２支持部材６Ｙに接続される第４ガイド部材２０と、Ｘ軸方向に第４ガイド部材２０にガイドされる第４リニアベアリング２１と、を備えている。

第１アクチュエータ７Ｘは、第３リニアベアリング１９を動かして、Ｘ軸方向に第１支持部材６Ｘを移動するための動力を発生する。第２アクチュエータ７Ｙは、第４リニアベアリング２１を動かして、Ｙ軸方向に第２支持部材６Ｙを移動するための動力を発生する。

第３リニアベアリング１９は、支持部材２２に支持される。支持部材２２は、第１リニアベアリング１１に固定される。第１アクチュエータ７Ｘは、Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１を移動するための動力を発生する。第１リニアベアリング１１は、Ｘ軸方向に第１ガイド部材１２にガイドされる。Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１が移動することによって、支持部材２２に支持されている第３リニアベアリング１９は、第１リニアベアリング１１と一緒に、Ｘ軸方向に移動する。第３リニアベアリング１９とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第１支持部材６Ｘ）、及び第３ガイド部材１８を介して接続されている。したがって、第３リニアベアリング１９がＸ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第１支持部材６Ｘ）、及び第３ガイド部材１８は、第３リニアベアリング１９と一緒に、Ｘ軸方向に移動する。

第４リニアベアリング２１は、支持部材２３に支持される。支持部材２３は、第２リニアベアリング１３に固定される。第２アクチュエータ７Ｙは、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３を移動するための動力を発生する。第２リニアベアリング１３は、Ｙ軸方向に第２ガイド部材１４にガイドされる。Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３が移動することによって、支持部材２３に支持されている第４リニアベアリング２１は、第２リニアベアリング１３と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。第４リニアベアリング２１とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第２支持部材６Ｙ）、及び第４ガイド部材２０を介して接続されている。したがって、第４リニアベアリング２１がＹ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第２支持部材６Ｙ）、及び第４ガイド部材２０は、第４リニアベアリング２１と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。

図５に示すように、本実施形態において、第１支持部材６Ｘは、テーブル１の上面１Ａの中心に対して、Ｘ軸方向の両側（＋Ｘ側及び−Ｘ側）に配置される。また、第１支持部材６Ｘは、Ｙ軸方向に２つずつ配置される。

図５に示すように、本実施形態において、第２支持部材６Ｙは、テーブル１の上面１Ａの中心に対して、Ｙ軸方向の両側（＋Ｙ側及び−Ｙ側）に配置される。なお、＋Ｙ側の第２支持部材６Ｙは、省略可能である。

テーブル１の上面１Ａの中心に対して＋Ｘ側に配置された第１支持部材６ＸのＹ軸方向の位置と、テーブル１の上面１Ａの中心に対して−Ｘ側に配置された第１支持部材６ＸのＹ軸方向の位置とは、等しい。すなわち、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された第１支持部材６ＸのＹ座標は、等しい。

テーブル１の上面１Ａの中心に対して＋Ｙ側に配置された第２支持部材６ＹのＸ軸方向の位置と、テーブル１の上面１Ａの中心に対して−Ｙ側に配置された第２支持部材６ＹのＸ軸方向に関する位置とは、等しい。すなわち、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された第２支持部材６ＹのＸ座標は、等しい。

テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された第１支持部材６Ｘは、対向する。第１アクチュエータ７Ｘは、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された一対の第１支持部材６Ｘのうち、一方の第１支持部材６Ｘ（本実施形態においては−Ｘ側の第１支持部材６Ｘ）を動かすように配置される。他方の第１支持部材６Ｘ（本実施形態においては＋Ｘ側の第１支持部材６Ｘ）には、第１アクチュエータ７Ｘは接続されない。

テーブル１の上面１Ａの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された第２支持部材６Ｙは、対向する。第２アクチュエータ７Ｙは、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された一対の第２支持部材６Ｙのうち、一方の第２支持部材６Ｙ（本実施形態においては−Ｙ側の第２支持部材６Ｙ）を動かすように配置される。他方の第２支持部材６Ｙ（本実施形態においては＋Ｙ側の第２支持部材６Ｙ）には、第２アクチュエータ７Ｙは接続されない。

第１アクチュエータ７Ｘは、複数配置される。第１アクチュエータ７Ｘは、テーブル１の上面１Ａの中心に対して−Ｘ側の空間において、Ｙ軸方向に２つ配置されている第１支持部材６ＸのそれぞれをＸ軸方向に移動するように、２つ配置される。

移動システム８は、複数（２つ）の第１アクチュエータ７Ｘの作動量を変えて、θＺ方向（回転方向）にテーブル１を移動することができる。

なお、第２支持部材６Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置されてもよい。第２アクチュエータ７Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置される第２支持部材６ＹのそれぞれをＹ軸方向に移動するように、複数配置されてもよい。移動システム８は、複数の第２アクチュエータ７Ｙの作動量を変えて、θＺ方向にテーブル１を移動してもよい。

このように、本実施形態においては、テーブル１は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。

上述の実施形態と同様、テーブル１に対する鉛直方向の荷重が零の場合、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは、間隙Ｇを介して対向する。所定値未満の鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされながら、下方（−Ｚ方向）に移動する。所定値以上の鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、下方に移動したテーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブル１の下面１Ｂがベース部材２の上面２Ａに接触することにより、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。

以上説明したように、本実施形態においても、鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４により、下方に真っ直ぐに移動可能である。また、所定値以上の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、ベース部材２に支持される。また、テーブル１が熱変形しても、そのテーブルの熱変形１は、テーブルガイド軸受４に吸収される。そのため、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制される。

また、本実施形態においては、テーブル１に荷重が作用したとき、第１リニアベアリング１１のピッチング（θＹ方向の回転）、第２リニアベアリング１３のピッチング（θＸ方向の回転）、第３リニアベアリング１９のローリング（θＹ方向の回転）、及び第４リニアベアリング２１のローリング（θＸ方向の回転）の少なくとも一つによっても、間隙Ｇが小さくなる。第１リニアベアリング１１及び第２リニアベアリング１３がテーブル１から離れている場合、第１リニアベアリング１１のピッチング及び第２リニアベアリング１３のピッチングは、ギャップＧを小さくすることに寄与する。また、本実施形態においては、例えば、Ｘ軸方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブルガイド軸受４のラジアル剛性、第３リニアベアリング１９のＸ軸剛性、ボールねじ部の軸方向剛性（ナット部の剛性、サポート軸受部の剛性、サーボモータからの回転系の剛性の並列ばね）により、荷重が支持される。鉛直方向の荷重がテーブル１に作用して、その荷重に基づいてテーブル１をＸ軸方向に動かす力が発生しても、上述の剛性により、Ｘ軸方向のテーブル１の移動が抑制される。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図７は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃの一例を示す平面図である。本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃは、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ｂの変形例である。

図７に示すように、テーブル装置１００Ｃは、テーブル１と、ベース部材２と、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが間隙Ｇを介して対向するようにテーブル１を支持する支持装置３と、を備えている。

支持装置３は、鉛直方向にテーブル１をガイドするテーブルガイド軸受４と、テーブルガイド軸受４を支持する支持部材６と、を有する。テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされるロッド状の第１スライド部材５を有する。

図７に示すように、第１スライド部材５は、テーブル１の上面１Ａに複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａの中心を囲むように、複数設けられる。第１スライド部材５は、上面１Ａに支持されたワークＳの周囲に配置される。本実施形態において、第１スライド部材５は、上面１Ａに３つ設けられる。テーブルガイド軸受４は、３つ設けられる。支持部材６は、３つ設けられる。

テーブル装置１００Ｃは、水平面内において支持部材６を移動可能なアクチュエータ７を有する移動システム８を備える。支持部材６が移動されることによって、支持部材６と接続されているテーブル１は、支持部材６と一緒に、水平面内において移動する。

アクチュエータ７は、Ｘ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第１アクチュエータ７Ｘと、Ｙ軸方向に支持部材６（テーブル１）を移動するための動力を発生する第２アクチュエータ７Ｙと、を含む。

移動システム８は、複数の支持部材６のうち第１支持部材６Ｘに接続される第３ガイド部材１８と、Ｙ軸方向に第３ガイド部材１８にガイドされる第３リニアベアリング１９と、複数の支持部材６のうち第２支持部材６Ｙに接続される第４ガイド部材２０と、Ｘ軸方向に第４ガイド部材２０にガイドされる第４リニアベアリング２１と、を備えている。

第１アクチュエータ７Ｘは、第３リニアベアリング１９を動かして、Ｘ軸方向に第１支持部材６Ｘを移動するための動力を発生する。第２アクチュエータ７Ｙは、第４リニアベアリング２１を動かして、Ｙ軸方向に第２支持部材６Ｙを移動するための動力を発生する。

第３リニアベアリング１９は、支持部材２２に支持される。支持部材２２は、第１リニアベアリング１１に固定される。第１アクチュエータ７Ｘは、Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１を移動するための動力を発生する。第１リニアベアリング１１は、Ｘ軸方向に第１ガイド部材１２にガイドされる。Ｘ軸方向に第１リニアベアリング１１が移動することによって、支持部材２２に支持されている第３リニアベアリング１９は、第１リニアベアリング１１と一緒に、Ｘ軸方向に移動する。第３リニアベアリング１９とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第１支持部材６Ｘ）、及び第３ガイド部材１８を介して接続されている。したがって、第３リニアベアリング１９がＸ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第１支持部材６Ｘ）、及び第３ガイド部材１８は、第３リニアベアリング１９と一緒に、Ｘ軸方向に移動する。

第４リニアベアリング２１は、支持部材２３に支持される。支持部材２３は、第２リニアベアリング１３に固定される。第２アクチュエータ７Ｙは、Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３を移動するための動力を発生する。第２リニアベアリング１３は、Ｙ軸方向に第２ガイド部材１４にガイドされる。Ｙ軸方向に第２リニアベアリング１３が移動することによって、支持部材２３に支持されている第４リニアベアリング２１は、第２リニアベアリング１３と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。第４リニアベアリング２１とテーブル１とは、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第２支持部材６Ｙ）、及び第４ガイド部材２０を介して接続されている。したがって、第４リニアベアリング２１がＹ軸方向に移動することにより、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６（第２支持部材６Ｙ）、及び第４ガイド部材２０は、第４リニアベアリング２１と一緒に、Ｙ軸方向に移動する。

図７に示すように、本実施形態において、第１支持部材６Ｘは、テーブル１の上面１Ａの中心に対して、Ｘ軸方向の両側（＋Ｘ側及び−Ｘ側）に配置される。

図７に示すように、本実施形態において、第２支持部材６Ｙは、テーブル１の上面１Ａの中心に対して、Ｙ軸方向の一側（−Ｙ側）に配置される。

テーブル１の上面１Ａの中心に対して＋Ｘ側に配置された第１支持部材６ＸのＹ軸方向の位置と、テーブル１の上面１Ａの中心に対して−Ｘ側に配置された第１支持部材６ＸのＹ軸方向の位置とは、異なる。すなわち、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された第１支持部材６ＸのＹ座標は、異なる。

テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された第１支持部材６Ｘは、対向せず、ずれて配置される。第１アクチュエータ７Ｘは、テーブル１の上面１Ａの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された一対の第１支持部材６Ｘの両方を動かすように、２つ設けられる。

移動システム８は、複数（２つ）の第１アクチュエータ７Ｘの作動量を変えて、θＺ方向（回転方向）にテーブル１を移動することができる。

なお、第２支持部材６Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置されてもよい。第２アクチュエータ７Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置される第２支持部材６ＹのそれぞれをＹ軸方向に移動するように、複数配置されてもよい。移動システム８は、複数の第２アクチュエータ７Ｙの作動量を変えて、θＺ方向にテーブル１を移動してもよい。

テーブル１は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。

テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満の場合、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは、間隙Ｇを介して対向する。所定値以上の鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされながら、下方（−Ｚ方向）に移動する。テーブル１が下方に移動することにより、テーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブル１の下面１Ｂがベース部材２の上面２Ａに接触することにより、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。

以上説明したように、本実施形態においても、所定値以上の鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４により、下方に真っ直ぐに移動可能である。また、テーブル１が熱変形しても、そのテーブルの熱変形１は、テーブルガイド軸受４に吸収される。そのため、鉛直方向の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制される。

本実施形態においては、第１支持部材６Ｘの数又は第２支持部材６Ｙの数が少なく、テーブル装置１００Ｃの大型化、及び構造の複雑化が抑制されている。例えば、テーブル１の大きさ及び質量がテーブルガイド軸受４に対して小さい場合、テーブル装置１００Ｃの構造は有効である。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図８は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄの一例を示す平面図である。図９は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄの一例を示す側断面図である。

本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄの殆どの部分が、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ｂと同一である。

本実施形態においては、テーブル装置１００Ｄの少なくとも一部がチャンバ装置２４の内部空間に配置される。テーブル装置１００Ｄのうち、少なくともテーブル１及びテーブルガイド軸受４が、チャンバ装置２４の内部空間に配置される。

本実施形態においては、テーブル１、テーブルガイド軸受４、第１スライド部材５、支持部材６、第３ガイド部材１８、第３リニアベアリング１９、第４ガイド部材２０、及び第４リニアベアリング２１などが、チャンバ装置２４の内部空間に配置される。

アクチュエータ７（第１アクチュエータ７Ｘ及び第２アクチュエータ７Ｙ）は、チャンバ装置２４の外部空間に配置される。

チャンバ装置２４は、内部空間の環境を制御する環境制御システムを含む。内部空間の環境は、内部空間のガスの種類、温度、湿度、圧力（真空度を含む）、及びクリーン度の少なくとも一つを含む。

環境制御システムによって、チャンバ装置２４の内部空間は、例えば真空状態に制御される。また、環境制御システムによって、チャンバ装置２４の内部空間は、一定温度に制御され、高いクリーン度に維持される。

チャンバ装置２４は、内部空間と外部空間とを結ぶ開口２４Ｋを有する。開口２４Ｋに、移動システム８の少なくとも一部が配置される。

チャンバ装置２４は、開口２４Ｋに配置されたべローズ２５と、べローズ２５を支持する支持装置２６とを備えている。これにより、内部空間と外部空間とのガスの流通が抑制される。

本実施形態において、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置される。本実施形態において、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに１つずつ配置される。＋Ｙ側の開口２４ＫのＸ座標及び−Ｙ側の開口２４ＫのＸ座標は、同一である。なお、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに２つずつ配置されてもよいし、３つ以上の任意の数ずつ配置されてもよい。

本実施形態において、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。本実施形態において、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに２つずつ配置される。＋Ｘ側の開口２４ＫのＹ座標及び−Ｘ側の開口２４ＫのＹ座標は、同一である。なお、開口２４Ｋは、チャンバ装置２４の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに１つずつ配置されてもよいし、３つ以上の任意の数ずつ配置されてもよい。

べローズ２５は、それら複数の開口２４Ｋのそれぞれに配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内のチャンバ装置２４の中心を通り、Ｘ軸と平行な第１仮想線に対して、チャンバ装置２４は、線対称の構造を有する。ＸＹ平面内のチャンバ装置２４の中心を通り、Ｙ軸と平行な第２仮想線に対して、チャンバ装置２４は、線対称の構造を有する。

以上説明したように、本実施形態によれば、少なくともテーブル１が配置される内部空間を有するチャンバ装置２４が設けられるので、環境が制御されたチャンバ装置２４の内部空間において、テーブル１に支持されたワークＳが処理される。アクチュエータ７は、チャンバ装置２４の外部空間に配置されているので、例えば、アクチュエータ７から熱が発生しても、その熱がテーブル１及びワークＳに及ぼす影響が抑制される。また、アクチュエータ７から異物が発生しても、その異物がテーブル１及びワークＳに及ぼす影響が抑制される。また、テーブル装置１００Ｄの全部がチャンバ装置２４の内部空間に収容されず、少なくともテーブル１及びテーブルガイド軸受４がチャンバ装置２４の内部空間に収容され、アクチュエータ７がチャンバ装置２４の外部空間に配置されることによって、チャンバ装置２４の大型化が抑制される。

また、本実施形態によれば、チャンバ装置２４は、線対称の構造を有する。チャンバ装置２４の内部空間とチャンバ装置２４の外部空間とに圧力差が有る場合、その圧力差に起因して、べローズ２５の面積に比例した力が、べローズ２５の伸縮方向に作用する。開口２４Ｋ及びべローズ２５が、第１仮想線に対して線対称に配置され、第２仮想線に対して線対称に配置されることにより、それらべローズ２５に作用する伸縮方向の力が相殺される。べローズ２５の配置は、第１仮想線に対して、−Ｘ側の駆動部が対称であり、＋Ｘ側の従動部が対称であることが好ましい。なお、＋Ｘ側の駆動部の間隔と、−Ｘ側の従動部の間隔とは、異なっていてもよい。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１０は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｅの一例を示す平面図である。図１１は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｅの一例を示す側断面図である。

本実施形態に係るテーブル装置１００Ｅの殆どの部分が、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ｂと同一である。

図１０及び図１１に示すように、テーブル装置１００Ｅは、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとの間に配置され、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが間隙Ｇを介して対向する状態で、ベース部材２の上面２Ａと平行な水平方向にテーブル１をガイドするプレーンガイド装置３０を備えている。

本実施形態において、プレーンガイド装置３０は、テーブル１に形成された内部空間１Ｈに配置される。図１０に示すように、プレーンガイド装置３０は、複数設けられる。本実施形態においては、プレーンガイド装置３０は、ＸＹ平面内において、３つ配置される。

プレーンガイド装置３０は、複数の玉３１を支持する支持板３２と、支持板３２に接続されたロッド状の第２スライド部材３３と、を有する。玉３１は、支持板３２の下面側に配置される。玉３１は、回転（転動）可能に支持板３２に支持される。プレーンガイド装置３０のうち、玉３１の少なくとも一部が、テーブル１の下面１Ｂから下方に突出するように配置される。

移動システム８の作動により、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａにおいて移動する。間隙Ｇが形成されているとき、プレーンガイド装置３０の玉３１は、ベース部材２の上面２Ａと接触した状態で、転動可能である。これにより、テーブル１は、上面２Ａと平行なＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の少なくとも一つの方向にガイドされる。

第２スライド部材３３は、支持板３２の上面に固定される。第２スライド部材３３は、支持板３２の上面から上方に突出するように設けられる。第２スライド部材３３は、ロッド部３３Ｌと、ロッド部３３Ｌの上端部及び下端部のそれぞれに配置されたフランジ部３３Ｆと、を有する。

本実施形態において、テーブル装置１００Ｅは、テーブル１に支持され、鉛直方向に第２スライド部材３３を移動可能に支持するプレーンガイド軸受３４を備えている。

図１２は、プレーンガイド軸受３４の近傍を示す拡大図である。プレーンガイド軸受３４は、ロッド部３３Ｌの周囲に配置される。プレーンガイド軸受３４は、テーブル１の内部空間１Ｈの内面に支持される。

プレーンガイド軸受３４は、玉軸受を含む。プレーンガイド軸受３４は、ロッド部３３Ｌに接触するように配置される内輪３４Ａと、内輪３４Ａの周囲に配置される外輪３４Ｂと、内輪３４Ａと外輪３４Ｂとの間に配置される玉３４Ｃと、を含む。本実施形態において、内輪３４Ａ、外輪３４Ｂ、及び玉３４Ｃを含む玉軸受は、鉛直方向（ロッド部３３Ｌの中心軸と平行な方向）に２つ配置される。

プレーンガイド軸受３４は、鉛直方向の第２スライド部材３３（プレーンガイド装置３０）の移動を許容する。第２スライド部材３３は、鉛直方向に移動可能にプレーンガイド軸受３４に支持される。本実施形態において、プレーンガイド装置３０は、テーブル１に対して、鉛直方向に移動可能である。換言すれば、テーブル１に対する鉛直方向のプレーンガイド装置３０の変位が許容されている。

テーブル１に対する鉛直方向の荷重が零の場合、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは、間隙Ｇを介して対向する。テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満において、そのテーブル１に鉛直方向の荷重が作用した場合、間隙Ｇの寸法が小さくなるように、テーブル１が下降する。テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満の場合、テーブルガイド軸受４を含む支持装置３は、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触しないように、テーブル１を支持する。

テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満で、間隙Ｇが形成されている状態で、テーブル１に支持されているプレーンガイド装置３０の少なくとも一部は、ベース部材２の上面２Ａに接触する。移動システム８の作動により、テーブル１が水平面内を移動するとき、テーブル１は、プレーンガイド装置３０を介して、ベース部材２の上面２Ａにガイドされる。これにより、テーブル１は、水平方向に円滑に移動することができる。

テーブルガイド軸受４は、間隙Ｇの寸法だけ、鉛直方向に関するテーブル１の移動を許容する。所定値以上の鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされながら、下方（−Ｚ方向）に移動する。テーブル１が下方に移動することにより、テーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブルガイド軸受４は、所定値以上の鉛直方向下方の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触するように、鉛直方向にテーブル１をガイドする。テーブル１の下面１Ｂがベース部材２の上面２Ａに接触することにより、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。

間隙Ｇの寸法は、テーブルガイド軸受４に過剰な負荷（過負荷）が作用される前に下面１Ｂと上面２Ａとが接触するように定められている。間隙Ｇの寸法の範囲内でテーブル１が鉛直方向に移動しても、テーブルガイド軸受４に過負荷が作用しないように、間隙Ｇの寸法が定められている。

本実施形態においては、プレーンガイド軸受３４は、鉛直方向の第２スライド部材３３（プレーンガイド装置３０）の移動を許容する。所定値以上の鉛直方向下方の荷重がテーブル１に作用し、テーブル１が下方に移動するとき、プレーンガイド軸受３４に支持されているプレーンガイド装置３０は、テーブル１に対して相対的に上方に移動可能である。これにより、プレーンガイド装置３０の全部が、テーブル１の内部空間１Ｈに収容される。

本実施形態において、鉛直方向のプレーンガイド軸受３４の剛性は、鉛直方向のプレーンガイド装置３０の剛性よりも小さい。テーブル１が下方に移動すると、プレーンガイド装置３０には、鉛直方向上方の負荷が作用する。間隙Ｇの寸法は、プレーンガイド装置３０に過剰な負荷（過負荷）が作用される前に下面１Ｂと上面２Ａとが接触するように定められている。換言すれば、間隙Ｇの寸法の範囲内でテーブル１が鉛直方向に移動しても、プレーンガイド装置３０に過負荷が作用しないように、間隙Ｇの寸法が定められている。

以上説明したように、本実施形態によれば、プレーンガイド装置３０が設けられているので、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが間隙Ｇを介して対向する状態で、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａと平行な水平方向に円滑に移動することができる。

また、本実施形態によれば、プレーンガイド装置３０は、ロッド状の第２スライド部材３３を有する。第２スライド部材３３は、テーブル１に支持されているプレーンガイド軸受３４によって、鉛直方向に移動可能に支持される。そのため、プレーンガイド軸受３４がベース部材２の上面２Ａに接触した状態で、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとが接触するようにテーブル１が下方に移動するとき、プレーンガイド装置３０はテーブル１に対して上方に相対移動することができる。これにより、プレーンガイド装置３０は、テーブル１の内部空間１Ｈに収容される。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１３は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｆの一例を示す平面図である。図１４は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｆの一例を示す側断面図である。

本実施形態に係るテーブル装置１００Ｆの殆どの部分が、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ｅと同一である。

本実施形態において、テーブル装置１００Ｆは、鉛直方向にプレーンガイド装置３０を移動する駆動素子３５を備えている。

図１５は、プレーンガイド装置３０及び駆動素子３５の近傍を示す拡大図である。プレーンガイド装置３０は、支持板３２に固定されたロッド状の第２スライド部材３３を有する。テーブル１の内部空間１Ｈには、鉛直方向に第２スライド部材３３を移動可能に支持するプレーンガイド軸受３４が設けられている。プレーンガイド軸受３４は、テーブル１の内部空間１Ｈの内面に支持される。

プレーンガイド軸受３４は、玉軸受を含む。プレーンガイド軸受３４は、ロッド部３３Ｌに接触するように配置される内輪３４Ａと、内輪３４Ａの周囲に配置される外輪３４Ｂと、内輪３４Ａと外輪３４Ｂとの間に配置される玉３４Ｃと、を含む。本実施形態において、内輪３４Ａ、外輪３４Ｂ、及び玉３４Ｃを含む玉軸受は、鉛直方向（ロッド部３３Ｌの中心軸と平行な方向）に２つ配置される。

本実施形態においては、上下方向に配置された２つの内輪３４Ａの間にスペーサ部材３７が配置される。内輪３４Ａは、スペーサ部材３７と接触する。上下方向に配置された２つの外輪３４Ｂは、間隙を介して対向する。

駆動素子３５は、例えばピエゾ素子のような圧電素子を含む。駆動素子３５は、プレーンガイド軸受３４の上面と、テーブル１の内部空間１Ｈの内面に固定された固定部材３６との間に配置される。

駆動素子３５は、鉛直方向に関するプレーンガイド装置３０の下端部（本実施形態においては玉３１の下端部）の位置を調整可能である。駆動素子３５が縮むことによって、プレーンガイド装置３０の下端部は上方に移動する。駆動素子３５が伸びることによって、プレーンガイド装置３０の下端部は下方に移動する。

本実施形態において、駆動素子３５は、プレーインガイド軸受３４の上下方向に配置された２つの外輪３４Ｂのうち上側の外輪３４Ｂと固定部材３６との間に配置される。駆動素子３５の作動により、２つの外輪３４Ｂの距離が変化する。これにより、プレーンガイド装置３０の下端部の位置が調整される。

本実施形態によれば、駆動素子３５によって鉛直方向のプレーンガイド装置３０の下端部の位置が調整可能である。そのため、プレーンガイド装置３０に作用する荷重が調整される。例えば、プレーンガイド装置３０に過大な荷重が作用することが抑制される。

テーブル１に対する鉛直方向の荷重が所定値未満の場合、テーブル１の下面１Ｂとベース部材２の上面２Ａとは、間隙Ｇを介して対向する。間隙Ｇが形成されている状態で、テーブル１に支持されているプレーンガイド装置３０の下端部は、ベース部材２の上面２Ａに接触する。駆動素子３５により鉛直方向のプレーンガイド装置３０の下端部の位置が調整されることによって、上面２Ａに接触するプレーンガイド装置３０の下端部に作用する荷重が調整される。

所定値以上の鉛直方向下方（−Ｚ方向）の荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、テーブルガイド軸受４にガイドされながら、下方（−Ｚ方向）に移動する。テーブル１が下方に移動することにより、テーブル１の下面１Ｂは、ベース部材２の上面２Ａに接触する。テーブル１の下面１Ｂがベース部材２の上面２Ａに接触することにより、テーブル１は、ベース部材２の上面２Ａに支持される。テーブル１が下方に移動するとき、プレーンガイド軸受３４を介してテーブル１に支持されているプレーンガイド装置３０の下端部は、ベース部材２の上面２Ａから荷重を受ける。テーブル１が下方に移動するとき、ベース部材２の上面２Ａから受けるプレーンガイド装置３０の下端部の荷重は、増大する。本実施形態においては、テーブル１が下方に移動してプレーンガイド装置３０の下端部に作用する荷重が増大するときにおいて、駆動素子３５は、テーブル１に対してプレーンガイド装置３０の下端部を上方に相対移動する。これにより、プレーンガイド装置３０の下端部に作用する荷重の増大が抑制される。

以上説明したように、本実施形態によれば、鉛直方向にプレーンガイド装置３０を移動可能な駆動素子３５が設けられるので、プレーンガイド装置３０に過大な荷重が作用することが抑制される。プレーンガイド装置３０に作用する荷重の低減が図れるので、プレーンガイド装置３０の大型化が抑制される。

なお、本実施形態において、図１６に示すテーブル装置１００Ｇのように、ベース部材２の内部空間２Ｈに、プレーンガイド装置３０、プレーンガイド軸受３４、及び駆動素子３５が配置されてもよい。

なお、本実施形態において、図１７に示すテーブル装置１００Ｈのように、駆動素子３５が、エアシリンダのような力制御アクチュエータでもよい。

なお、本実施形態において、テーブル１に鉛直方向の荷重が作用していないときに、駆動素子３５により、テーブル１とベース部材２との間隙Ｇの寸法が零に調整されてもよい。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１８は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ〜１００Ｈ）を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置５００の一例を示す図である。フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。

フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、フラットパネルディスプレイを製造するためのワークＳを搬送可能な搬送装置６００を含む。搬送装置６００は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを含む。

なお、図１８においては、テーブル装置１００Ａを簡略して図示する。ワークＳは、テーブル１に支持される。

本実施形態において、ワークＳは、フラットパネルディスプレイを製造するための基板である。ワークＳからフラットパネルディスプレイが製造される。ワークＳは、ガラス板を含んでもよい。液晶ディスプレイが製造される場合、ワークＳは、ＴＦＴ基板を含んでもよいし、カラーフィルタ基板を含んでもよい。

フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、処理位置（目標位置）ＰＪ１に配置されたワークＳを使って、フラットパネルディスプレイを製造するための処理を行う。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳを処理位置ＰＪ１に配置する。搬送装置６００は、テーブル装置１００Ａのテーブル１にワークＳを搬送（搬入）可能な搬入装置６０１と、テーブル１からワークＳを搬送（搬出）可能な搬出装置６０２とを含む。搬入装置６０１によって、処理前のワークＳがテーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００Ａによって、テーブル１に支持されたワークＳが処理位置ＰＪ１まで搬送される。搬出装置６０２によって、処理後のワークＳがテーブル１から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００Ａは、テーブル１を移動して、テーブル１に支持されたワークＳを処理位置ＰＪ１に移動する。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳを高い位置決め精度で処理位置ＰＪ１に配置可能である。

例えば、フラットパネルディスプレイ製造装置５００が、２枚の基板を貼り合せる貼り合せ装置を含む場合、テーブル１に支持されているワークＳは、２枚の基板のうち一方の基板を含む。処理位置ＰＪ１は、一方の基板が他方の基板と貼り合せられる貼り合せ位置を含む。貼り合せ位置に配置されたテーブル１の一方の基板に、他方の基板が押し付けられる。

本実施形態において、フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、他方の基板を保持する基板ホルダ５０１を有する。基板ホルダ５０１は、テーブル１に支持されたワークＳ（一方の基板）を処理する処理部として機能する。基板ホルダ５０１は、貼り合せ位置に配置されている一方の基板と、基板ホルダ５０１に保持されている他方の基板とを対向させる。基板ホルダ５０１は、テーブル１に支持されている一方の基板に他方の基板を押し付けるように、下方に移動する。これにより、２枚の基板が貼り合せられる。

処理位置ＰＪ１においてワークＳが処理された後、その処理後のワークＳが搬出装置６０２によってテーブル１から搬送される。搬出装置６０２によって搬送（搬出）されたワークＳは、後工程を行う処理装置に搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００Ａは、ワークＳを処理位置ＰＪ１に配置可能である。また、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制されている。そのため、不良な製品（フラットパネルディスプレイ）の発生が抑制される。

なお、テーブル装置１００Ａ（１００Ｂ〜１００Ｈ）が、半導体製造装置に使用されてもよい。半導体製造装置は、例えば、投影光学系を介してワークＳにデバイスパターンを形成する露光装置を含む。露光装置において、処理位置ＰＪ１は、投影光学系の像面位置（露光位置）を含む。投影光学系は、テーブル１に支持されたワークＳを露光処理する処理部として機能する。処理位置ＰＪ１にワークＳが配置されることにより、半導体製造装置は、投影光学系を介して、ワークＳにデバイスパターンを形成可能である。

なお、半導体製造装置が、ワークＳに膜を形成する成膜装置を含んでもよい。半導体製造装置が成膜装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、膜を形成するための材料が供給される供給位置（成膜位置）を含む。材料を供給する供給部が、テーブル１に支持されたワークＳの成膜処理を行う処理部として機能する。処理位置ＰＪ１にワークＳが配置されることにより、デバイスパターンを形成するための膜がワークＳに形成される。

＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。図１９は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ〜１００Ｈ）を備える精密機械７００の一例を示す図である。本実施形態においては、精密機械７００が、精密機器のようなワークを精密に測定する精密測定機である例について説明する。

精密測定機７００は、ワークＳ２を測定する。ワークＳ２は、例えば、フラットパネルディスプレイ製造装置５００により製造されたフラットパネルディスプレイ、及び上述の半導体製造装置により製造された半導体デバイスの少なくとも一方を含んでもよい。精密測定機７００は、ワークＳ２を搬送可能な搬送装置６００Ｂを含む。搬送装置６００Ｂは、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを含む。

なお、図１９において、テーブル装置１００Ａを簡略して図示する。ワークＳ２は、テーブル１に支持される。

精密測定機７００は、測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置されたワークＳ２の測定を行う。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定位置ＰＪ２に配置する。搬送装置６００Ｂは、テーブル装置１００Ａのテーブル１にワークＳ２を搬送（搬入）可能な搬入装置６０１Ｂと、テーブル１からワークＳ２を搬送（搬出）可能な搬出装置６０２Ｂとを含む。搬入装置６０１Ｂによって、測定前のワークＳ２がテーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００Ａによって、テーブル１に支持されたワークＳ２が測定位置ＰＪ２まで搬送される。搬出装置６０２Ｂによって、測定後のワークＳ２がテーブル１から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００Ａは、テーブル１を移動して、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定位置ＰＪ２に移動する。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳ２を高い位置決め精度で測定位置ＰＪ２に配置可能である。

本実施形態において、精密測定機７００は、検出光を用いてワークＳ２の測定を光学的に行う。精密測定機７００は、検出光を射出可能な照射装置７０１と、照射装置７０１から射出され、ワークＳ２で反射した検出光の少なくとも一部を受光可能な受光装置７０２とを含む。本実施形態において、測定位置ＰＪ２は、検出光の照射位置を含む。照射装置７０１及び受光装置７０２は、テーブル１に支持されたワークＳ２を処理する処理部として機能する。本実施形態において、照射装置７０１及び受光装置７０２は、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定する測定部として機能する。測定位置ＰＪ２にワークＳ２が配置されることにより、ワークＳ２の状態が光学的に測定される。

測定位置ＰＪ２においてワークＳ２の測定が行われた後、その測定後のワークＳ２が搬出装置６０２Ｂによってテーブル１から搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００Ａは、ワークＳ２を測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能であるため、測定不良の発生を抑制できる。すなわち、精密測定機７００は、ワークＳ２が不良であるか否かを良好に判断することができる。これにより、例えば不良なワークＳ２が後工程に搬送されたり、出荷されたりすることが抑制される。また、精密測定機７００は、テーブル１によって測定位置ＰＪ２に配置されたワークＳ２を測定できるので、そのワークＳ２の測定を精密に行うことができる。

なお、三次元測定装置が、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを備えてもよいし、テーブル装置１００Ａを含む搬送装置を備えてもよい。測定対象のワークがテーブル１に支持されることにより、三次元測定装置は、目標位置に配置されたワークを測定できるので、そのワークの測定を精密に行うことができる。

＜第９実施形態＞
第９実施形態について説明する。図２０は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ〜１００Ｈ）を備える精密機械８００の一例を示す図である。本実施形態においては、精密機械８００が、精密加工を実施可能な精密加工機である例について説明する。

精密加工機８００は、ワークＳ３を加工する。精密加工機８００は、マシニングセンタを含み、テーブル装置１００Ａと、加工ヘッド８０１とを有する。加工ヘッド８０１が、テーブル装置１００Ａのテーブル１に支持されたワークＳ３を処理する処理部として機能する。本実施形態においては、加工ヘッド８０１が、テーブル装置１００Ａのテーブル１に支持されたワークＳ３を加工する加工部として機能する。加工ヘッド８０１は、加工工具を有し、テーブル装置１００Ａのテーブル１に支持されたワークＳ３を加工工具で加工する。加工ヘッド８０１は、ワークＳ３を切削する機構である。加工ヘッド８０１は、テーブル１の移動方向と直交するＺ軸方向に加工工具を移動させる。

精密加工機８００は、テーブル装置１００ＡでワークＳ３をＸＹ平面内において移動させ、加工ヘッド８０１をＺ軸方向に移動させることで、加工工具とワークＳ３とを相対的に移動させることができる。

精密加工機８００は、加工位置（目標位置）に配置されたテーブル１上のワークＳ３を加工できるので、そのワークＳ３の加工を精密に行うことができる。

なお、本実施形態においては、テーブル１がＸＹ平面内（水平面内）に移動することとした。本実施形態において、テーブル１がＸＹ平面に対して傾斜する方向に移動されてもよい。すなわち、ＸＹ平面は、水平面と平行でもよいし、水平面に対して傾斜していてもよい。

１ テーブル
１Ａ 上面
１Ｂ 下面
１Ｈ 内部空間
２ ベース部材
２Ａ 上面
２Ｈ 内部空間
３ 支持装置
４ テーブルガイド軸受
４Ａ 内輪
４Ｂ 外輪
４Ｃ 玉
５ 第１スライド部材
５Ｆ フランジ部
５Ｌ ロッド部
６ 支持部材
６Ｘ 第１支持部材
６Ｙ 第２支持部材
７ アクチュエータ
７Ｘ 第１アクチュエータ
７Ｙ 第２アクチュエータ
８ 移動システム
９ フレーム部材
９Ａ 上面
９Ｂ 下面
９Ｋ 開口
１０ ステージ
１０Ａ 上面
１０Ｂ 下面
１０Ｋ 開口
１１ 第１リニアベアリング
１２ 第１ガイド部材
１３ 第２リニアベアリング
１４ 第２ガイド部材
１５ ボールねじ機構
１５Ｘ 第１ボールねじ機構
１５Ｙ 第２ボールねじ機構
１６ カップリング
１７ ケーシング
１８ 第３ガイド部材
１９ 第３リニアベアリング
２０ 第４ガイド部材
２１ 第４リニアベアリング
２２ 支持部材
２３ 支持部材
２４ チャンバ装置
２４Ｋ 開口
２５ べローズ
２６ 支持装置
３０ プレーンガイド装置
３１ 玉
３２ 支持板
３３ 第２スライド部材
３３Ｆ フランジ部
３３Ｌ ロッド部
３４ プレーンガイド軸受
３５ 駆動素子
３６ 固定部材
３７ スペーサ部材
１００Ａ テーブル装置
１００Ｂ テーブル装置
１００Ｃ テーブル装置
１００Ｄ テーブル装置
１００Ｅ テーブル装置
１００Ｆ テーブル装置
１００Ｇ テーブル装置
１００Ｈ テーブル装置
５００ フラットパネルディスプレイ製造装置
７００ 精密機械（精密測定機）
８００ 精密機械（精密加工機）
Ｇ 間隙
Ｓ ワーク

Claims (12)

1. テーブルと、
   前記テーブルの下面と対向する上面を有するベース部材と、
   前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが間隙を介して対向するように前記テーブルを支持する支持装置と、を備え、
   前記支持装置は、所定値以上の鉛直方向の荷重が前記テーブルに作用したとき、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが接触するように、前記鉛直方向に前記テーブルをガイドするテーブルガイド軸受を有し、
   前記テーブルは、前記テーブルガイド軸受にガイドされるロッド状の第１スライド部材を有し、
   前記支持装置は、
   前記テーブルガイド軸受が前記第１スライド部材の周囲に配置されるように前記テーブルガイド軸受を支持する支持部材を有し、
   水平面内において前記支持部材を移動可能なアクチュエータを有する移動システムを備える、
   テーブル装置。
2. 前記第１スライド部材は、前記テーブルの上面に複数設けられ、
   前記テーブルガイド軸受は、複数の前記第１スライド部材それぞれの周囲に配置されるように、複数設けられる、
   請求項１に記載のテーブル装置。
3. 前記支持装置は、
   前記テーブルの周囲に配置され、前記支持部材が接続される上面を有するフレーム部材と、
   前記ベース部材の周囲に配置されるステージと、
   を更に有し、
   前記移動システムは、
   前記フレーム部材の下面に接続される第１リニアベアリングと、
   前記ステージの上面に配置され水平面内の第１軸と平行な方向に前記第１リニアベアリングをガイドする第１ガイド部材と、
   前記ステージの下面に接続される第２リニアベアリングと、
   前記第１軸と直交する水平面内の第２軸と平行な方向に前記第２リニアベアリングをガイドする第２ガイド部材と、
   前記第１軸と平行な方向に前記第１リニアベアリングを移動するための動力を発生する第１アクチュエータと、
   前記第２軸と平行な方向に前記第２リニアベアリングを移動するための動力を発生する第２アクチュエータと、
   を有する、
   請求項１又は請求項２に記載のテーブル装置。
4. 前記移動システムは、
   複数の前記支持部材のうち第１支持部材に接続される第３ガイド部材と、
   水平面内の第２軸と平行な方向に前記第３ガイド部材にガイドされる第３リニアベアリングと、
   複数の前記支持部材のうち第２支持部材に接続される第４ガイド部材と、
   前記第２軸と直交する水平面内の第１軸と平行な方向に前記第４ガイド部材にガイドされる第４リニアベアリングと、
   前記第３リニアベアリングを動かして、前記第１軸と平行な方向に前記第１支持部材を移動するための動力を発生する第１アクチュエータと、
   前記第４リニアベアリングを動かして、前記第２軸と平行な方向に前記第２支持部材を移動するための動力を発生する第２アクチュエータと、
   を有する、
   請求項１又は請求項２に記載のテーブル装置。
5. 前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータの一方又は両方が複数設けられ、
   前記移動システムは、複数の前記第１アクチュエータの作動量、又は複数の前記第２アクチュエータの作動量を変えて、水平面と直交する第３軸と平行な軸を中心とする回転方向に前記テーブルを移動する、
   請求項４に記載のテーブル装置。
6. 少なくとも前記テーブル及び前記テーブルガイド軸受は、チャンバ装置の内部空間に配置され、
   前記アクチュエータは、前記チャンバ装置の外部空間に配置される、
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のテーブル装置。
7. 前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面との間に配置され、前記テーブルの下面と前記ベース部材の上面とが間隙を介して対向する状態で、前記ベース部材の上面と平行な水平方向に前記テーブルをガイドするプレーンガイド装置を備える、
   請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のテーブル装置。
8. 前記プレーンガイド装置は、ロッド状の第２スライド部材を有し、
   前記テーブルに支持され、鉛直方向に前記第２スライド部材を移動可能に支持するプレーンガイド軸受を備える、
   請求項７に記載のテーブル装置。
9. 鉛直方向に前記プレーンガイド装置を移動する駆動素子を備える、
   請求項８に記載のテーブル装置。
10. 請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のテーブル装置を備え、
    前記テーブル装置の前記テーブルに支持されたワークの位置を決定する、
    位置決め装置。
11. 請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のテーブル装置と、
    前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、
    を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置。
12. 請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のテーブル装置と、
    前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、
    を備える精密機械。

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