JP6519921B2 - 光半導体素子及び光半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Description
最初に、本願発明の実施形態の内容を列記して説明する。(1)本願発明の一実施形態に係る光半導体素子は、第一導電型の第一クラッド層と、第一クラッド層上に形成された活性層と、活性層上に形成され、第一導電型とは反対の第二導電型を有する第二クラッド層と、積層方向と交差する方向に並んで第二クラッド層を挟む一対のブロック領域と、第二クラッド層上および一対のブロック領域上に形成された第二導電型の第三クラッド層とを備え、第二クラッド層のキャリア濃度が、第三クラッド層のキャリア濃度よりも高い。
T≧W/tan(55°)
を満たしてもよい。これにより、キャリア濃度が高い第二クラッド層を好適に実現することができる。
D≧W×tan(55°)
を満たしてもよい。これにより、キャリア濃度が高い第二クラッド層を好適に実現することができる。
t≧T/v
を満たしてもよい。
本発明の実施形態に係る光半導体素子及び光半導体素子の製造方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る光半導体素子1Aの構成を示す断面図であって、光半導体素子1Aの光導波方向に垂直な断面を示している。本実施形態の光半導体素子1Aは、リッジ構造を有する。図1に示されるように、光半導体素子1Aは、n型(第一導電型)の半導体基板11、活性層12、p型(第二導電型)半導体層13、p型クラッド層14、チャネル層15、一対のn型ブロック領域16a及び16b、p型クラッド層17、p型コンタクト層18、p側電極19及びn側電極20を備えている。
D≧W×tan(55°)
を満たすとよい。これにより、p型クラッド層17よりも高濃度のp型クラッド層14を好適に形成することができる。
t≧T/v
を満たすとよい。一実施例では、拡散時間は8時間である。なお、n型InP層のキャリア濃度がp型InP層のキャリア濃度よりも低い場合には、拡散したp型キャリア濃度は、n型キャリア濃度よりも高くなる。従って、この場合にはチャネル層15の導電型はp型となる。
T≧W/tan(55°)
を満たしてもよい。これにより、キャリア濃度が高いp型クラッド層14を好適に実現することができる。
図9は、本発明の第2実施形態に係る光半導体素子1Bの構成を示す断面図であって、光半導体素子1Bの光導波方向に垂直な断面を示している。本実施形態の光半導体素子1Bは、第1実施形態の光半導体素子1Aと異なり、埋め込みヘテロ(Buried Heterostructure:BH)構造を有する。図9に示されるように、光半導体素子1Bは、半導体基板31、活性層32、p型半導体層33、チャネル層15、p型クラッド層14、一対のn型ブロック領域16a及び16b、p型クラッド層17、p型コンタクト層18、p側電極19及びn側電極20を備えている。これらのうち、半導体基板31、活性層32、及びp型半導体層33を除く他の部分の構成については、第1実施形態と同様であるため詳細な説明を省略する。
図13は、本発明の第3実施形態に係る光半導体素子1Cの構成を示す断面図であって、光半導体素子1Cの光導波方向に垂直な断面を示している。本実施形態の光半導体素子1Cは、p型クラッド層14の側面が(001)面に対して55°〜60°の角度でもって傾斜している点を除き、上述した第2実施形態の光半導体素子1B(図9を参照)と同様の構成を備えている。
図17は、本発明の第4実施形態に係る光半導体素子1Dの構成を示す断面図であって、光半導体素子1Dの光導波方向に垂直な断面を示している。本実施形態の光半導体素子1Dは、上述した第2実施形態の光半導体素子1Bと同様の構成を備えている。
図21〜図23は、図13に示された光半導体素子1Cにおいて、チャネル層15が設けられない場合の製造方法における各工程を示す図である。まず、第1の工程として、図21(a)に示されるように、n型InPからなる半導体基板31(第一クラッド層)の主面31a上に、活性層32、及びp型半導体層35(第五クラッド層)を、例えばMOCVDによって順に成長させる。p型半導体層35は、p型半導体層33(図13を参照)の一部となる層であり、例えばp型InPといったInP系化合物半導体からなる。p型半導体層35の不純物濃度は例えば5×1017cm-3である。
Claims (9)
- 第一導電型の第一クラッド層と、
前記第一クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、前記第一導電型とは反対の第二導電型を有する第二クラッド層と、
前記第一クラッド層、前記活性層、及び前記第二クラッド層の積層方向と交差する方向に並んで前記第二クラッド層を挟む二つのブロック領域と、
前記第二クラッド層上および前記二つのブロック領域上に形成された前記第二導電型の第三クラッド層とを備え、
前記第二クラッド層のキャリア濃度が、前記第三クラッド層のキャリア濃度よりも高く、
前記第二クラッド層がInP系化合物半導体からなり、
前記積層方向と交差する方向における前記第二クラッド層の幅をW(μm)としたとき、前記第二クラッド層の厚さT(μm)が
T≧W/tan(55°)
を満たす、光半導体素子。 - 前記第二クラッド層と前記活性層との間に形成され、前記第二クラッド層のキャリア濃度よりも低いキャリア濃度の前記第二導電型、若しくは前記第一導電型と前記第二導電型を示さないチャネル層を更に備える、請求項1に記載の光半導体素子。
- 前記活性層がInP系化合物半導体からなり、
前記活性層の表面の面方位が(100)面であり、
前記第二クラッド層の結晶成長方向と[100]方向との成す角が80°以上90°以下の範囲内に含まれる、請求項1又は2に記載の光半導体素子。 - 第一導電型の第一クラッド層上に、活性層、ブロック層、及び前記第一導電型とは反対の第二導電型を有する第三クラッド層を順に成長させる第1の工程と、
前記第三クラッド層及び前記ブロック層に凹部を形成する第2の工程と、
前記第二導電型を有する第二クラッド層を前記凹部に成長させる第3の工程とを含み、
前記第二クラッド層のキャリア濃度が、前記第三クラッド層のキャリア濃度よりも高い、光半導体素子の製造方法。 - 前記第2の工程において、前記凹部の底面に前記ブロック層の厚さの5分の1以下で前記ブロック層を残存させる、請求項4に記載の光半導体素子の製造方法。
- 前記第二クラッド層がInP系化合物半導体からなり、
前記第2の工程において、前記凹部を、前記第三クラッド層上に形成した開口を有するマスクを用いて形成し、前記開口の幅をW(μm)、エッチング深さをD(μm)としたとき、前記開口の幅Wが
W≧D/tan(55°)
を満たす、請求項4又は5に記載の光半導体素子の製造方法。 - 前記活性層及び前記第二クラッド層がInP系化合物半導体からなり、
前記活性層の表面の面方位が(100)面であり、
前記第3の工程において、前記第二クラッド層の結晶成長方向と[100]方向との成す角が80°以上90°以下の範囲内に含まれる、請求項4〜6のいずれか一項に記載の光半導体素子の製造方法。 - 前記第3の工程の後に、前記第二クラッド層のキャリアを前記ブロック層の残存部に拡散させる拡散工程を更に含み、
前記残存部の厚さをT(μm)とし、前記キャリアの拡散速度をv(μm/時間)としたとき、前記拡散工程における拡散時間t(時間)が、
t≧T/v
を満たす、請求項5に記載の光半導体素子の製造方法。 - 第一導電型の第一クラッド層上に、活性層、前記第一導電型とは反対の第二導電型を有する第五クラッド層、及び前記第一導電型のチャネル層を順に成長させる第1の工程と、
前記チャネル層、前記第五クラッド層、前記活性層、及び前記第一クラッド層にメサ部を形成する第2の工程と、
前記メサ部の両側に、前記第二導電型の第一ブロック領域、前記第一導電型の第二ブロック領域、及び前記第二導電型の第三クラッド層を選択的に成長させる第3の工程と、
前記第二導電型を有する第二クラッド層を前記チャネル層上に形成する第4の工程とを含み、
前記第二クラッド層のキャリア濃度が、前記第三クラッド層のキャリア濃度よりも高い、光半導体素子の製造方法。
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