JP6519724B1 - ウエハ保持台 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2018年2月21日付の日本国出願の特願2018−029082号に基づく優先権を主張し、前記日本国出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
半導体メモリ(例、フラッシュメモリ)、IC(集積回路)、LSI(大規模集積回路)などの半導体素子の製造に、シリコンなどの半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」と呼ぶ)を載置するウエハ保持台を備える半導体製造装置が使用されている。
本開示のウエハ保持台は、熱膨張によるシール部材の脱離を抑制できながら、ウエハに反りがある場合であってもウエハを平坦化して吸着できる。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
・シール部材の周方向に対して斜め方向に切れ目が形成され、その端面同士が一部で斜めに重なり合って接する形態(斜めカット形態)
・シール部材を周方向に分断するように切れ目が形成され、その端面間に隙間を形成する形態(分割カット形態)
・シール部材にスパイラル状の切れ目が形成され、スパイラル状に隙間を形成する形態(スパイラルカット形態)
本開示の実施形態に係るウエハ保持台の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。図中の同一符号は、同一名称物を示す。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
〈ウエハ保持台の概要〉
図1〜図4を参照して、実施形態1に係るウエハ保持台1を説明する。ウエハ保持台1は、その上面にウエハWを載置する載置面10を有し、ウエハWを真空吸着して保持するためのものである(図2、図3参照)。ウエハ保持台1は、通常、略水平に配置され、載置面10を上に向けて配置される。実施形態1のウエハ保持台1は、図1に示すように、環状のシール溝3と、シール溝3よりも内周側に配置される吸気口4とを載置面10に有し、シール溝3に嵌め込まれるシール部材2Aを備える。ウエハ保持台1の特徴の1つは、シール部材2Aが少なくとも1つの切れ目21を有する点にある(図1参照)。ウエハ保持台1のもう1つの特徴は、シール部材2Aが、シール部材2Aの上部25が載置面10から突出する状態と載置面10と面一になる状態との間で弾性変形する性質を有する点にある(図2、図3参照)。以下、ウエハ保持台1の構成について詳しく説明する。
図1に示すウエハ保持台1は、例えばセラミックスや金属で形成された円盤状の部材である。ウエハW(図2)が載置される載置面10は平らになっている。このウエハ保持台1には、ヒータ(図示せず)が内蔵されており、ウエハWを加熱することができる。その他、ウエハ保持台1には、ウエハWを持ち上げるリフトピン(図示せず)を備えていてもよい。載置面10には、図1に示すように、シール部材2Aを嵌め込むシール溝3や真空引きするための吸気口4(吸気路41)が設けられている。本例では、ウエハWの平面形状が円形状であり、ウエハWが椀状に反っている場合を例示している。図2や図4では、説明の便宜上、ウエハWの反りを誇張して示している。載置面10の直径は、ウエハWの直径と同等又は若干大きい程度である。
シール溝3は、図1に示すように、載置面10に円環状に形成されている。シール溝3には、シール部材2Aが嵌め込まれる。本例のシール溝3は、ウエハWの直径の90%以上100%未満の直径を有する。更に、図2に示すように、シール部材2Aの上部25が載置面10から突出するように、シール溝3の深さがシール部材2Aの高さよりも小さくなっている。シール溝3の直径とは、載置面10の上方から平面視したときのシール溝3の中心径([内径+外径]/2)を意味する。シール溝3の直径は、ウエハWの直径よりも小さい。本例では、ウエハWと載置面10の直径が300mm程度であり、シール溝3の直径が280mm(ウエハWの直径の約93%)である。また、本例では、シール溝3の断面形状(周方向に直交する断面の形状)が矩形状(U字状)に形成されている。シール溝3の断面形状はこれに限定されるものではなく、例えば、三角形状(V字状)や台形状などであってもよい。なお、「矩形状」、「三角形状」及び「台形状」とは、幾何学的に厳密な意味での矩形、三角形及び台形でなくてもよく、完全な矩形、三角形及び台形に限らず、実質的に矩形、三角形及び台形とみなされる範囲を含む。
吸気口4は、図1、図2に示すように、載置面10のシール溝3よりも内周側に開口している。吸気口4は、載置面10にウエハWが載置された状態で、シール部材2Aで囲まれるウエハWと載置面10との間の内側空間を真空引きするための開口である。本例の吸気口4は、載置面10の中心に配置されている。ウエハ保持台1には、吸気口4につながる貫通孔が吸気路41として形成されている。吸気路41は、真空ポンプ(図示せず)につながっており、吸気路41を通して吸気口4から上記内側空間を真空引きすることができる。吸気口4(吸気路41)から上記内側空間を真空引きして負圧にすることにより、ウエハWが載置面10に吸引される。これにより、図3に示すように、ウエハWを載置面10に吸着させることができる。本例では、吸気口4の数は1つであって、吸気口4が載置面10の中心に形成されているが、これに限られるものではない。吸気口4の数は複数であってもよいし、吸気口4は、シール溝3よりも内周側であれば載置面10の中心以外の箇所に設けてもよい。
図1に示すシール部材2Aは、円環状の弾性体からなる。シール部材2Aは、シール溝3に嵌め込まれる。
シール部材2Aは切れ目21を有する。この切れ目21は、シール部材2Aの周方向の熱膨張を吸収するものであり、具体的には、常温時からウエハ加熱時の温度変化によって生じるシール部材2Aの周方向の熱膨張量を吸収できるように形成されている。本例の場合、シール部材2Aに切れ目21によって隙間22が形成されている。そして、シール部材2Aが熱膨張したとき、隙間22が狭くなることで熱膨張によるシール部材2Aの周方向の伸びを吸収して、シール部材2Aの径の増大を抑制することが可能である。本例では、シール部材2Aの全隙間量(周方向における全ての隙間22の間隔の合計長)が熱膨張量以上となるように設定されている。例えば、シール部材2Aの直径が280mmで、シール部材2Aが熱膨張で20mm伸びる場合、全隙間量が20mm以上に設定されている。
シール部材2Aは、荷重が負荷されていない自然状態でその上部25が載置面10から突出しており、上部25が載置面10から突出する状態(図2)と載置面10と面一になる状態(図3)との間で弾性変形する。これにより、ウエハWの吸着時にウエハWの外周側が載置面10に吸い寄せられることに伴い、ウエハWによってシール部材2Aの上部25が押圧されてシール溝3内に押し込まれると、図3に示すように、上部25が載置面10と面一になる。そのため、ウエハWに反りがある場合であっても、図3に示すように、ウエハWを全体的に載置面10に密着させて平坦にした状態で吸着させることができる。また、吸気口4からの真空引きを停止してウエハWの吸着を解除し、載置面10からウエハWを取り外すと、復元力によりシール部材2Aが元の状態(自然状態)に戻り、上部25が載置面10から突出する状態(図2)に復帰する。
載置面10には、図6、図7に示すように、吸気溝42や凸部45が形成されていてもよい。図6、図7では、説明の便宜上、シール部材を省略して示す。
実施形態1のウエハ保持台1は、次の効果を奏する。
シール部材2Aは、切れ目21によって隙間22が形成されている。これにより、ウエハWの加熱時にシール部材2Aが熱膨張しても、隙間22によって周方向の熱膨張を吸収することが可能である。よって、熱膨張に起因するシール部材2Aの径の増大を抑制でき、シール部材2Aがシール溝3から外れることを抑制できる。
図8〜図10を参照して、実施形態2に係るウエハ保持台1について説明する。実施形態2では、ウエハ保持台1が備えるシール部材2Bの構成が上述した実施形態1のシール部材2Aと相違する。以下では、実施形態1との相違点を中心に説明し、同様の構成については同じ符号を付して説明を省略する。
本開示の実施形態に係るウエハ保持台1は、半導体製造装置に好適に利用できる。
10 載置面
2A、2B シール部材
21 切れ目 22 隙間
25 上部
3 シール溝
32 受け溝部
4 吸気口
41 吸気路 42 吸気溝 45 凸部
W ウエハ
Claims (6)
- ウエハの載置面を上面に有し、前記ウエハを真空吸着するためのウエハ保持台であって、
前記載置面には、
前記ウエハの直径の90%以上100%未満の直径を有する環状のシール溝と、
前記シール溝よりも内周側に配置される吸気口とを有し、
前記シール溝に嵌め込まれるシール部材を備え、
前記シール部材は、
周方向の熱膨張を吸収する1つ又は複数の切れ目を有し、
前記シール部材の上部が前記載置面から突出する状態と前記載置面と面一になる状態との間で弾性変形する性質を有する、
ウエハ保持台。 - 前記シール部材を前記載置面の上方から平面視したとき、前記切れ目によって前記シール部材に複数の隙間が周方向に間隔をあけて設けられている請求項1に記載のウエハ保持台。
- 前記シール部材が、その周方向の少なくとも一部にスパイラル状の前記切れ目を有するスパイラルチューブである請求項1又は請求項2に記載のウエハ保持台。
- 前記載置面から突出する前記シール部材の上部の突出高さが、前記シール部材の高さの20%以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のウエハ保持台。
- 前記シール部材の周方向に対して斜め方向の前記切れ目を有し、前記切れ目を構成する一対の端面同士が一部で斜めに重なり合って接している請求項1に記載のウエハ保持台。
- ウエハの載置面を上面に有し、前記ウエハを真空吸着するためのウエハ保持台であって、
前記載置面には、
前記ウエハの直径の90%以上100%未満の直径を有する環状のシール溝と、
前記シール溝よりも内周側に配置される吸気口とを有し、
前記シール溝に嵌め込まれるシール部材を備え、
前記シール部材は、
その周方向の少なくとも一部にスパイラル状の切れ目を有するスパイラルチューブであり、
前記シール部材の上部が前記載置面から突出する状態と前記載置面と面一になる状態との間で弾性変形する性質を有し、
前記載置面から突出する前記シール部材の上部の突出高さが、前記シール部材の高さの20%以下である、
ウエハ保持台。
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