JP6513837B2 - 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム - Google Patents
光学ガラス、光学素子及びプリフォーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6513837B2 JP6513837B2 JP2018007029A JP2018007029A JP6513837B2 JP 6513837 B2 JP6513837 B2 JP 6513837B2 JP 2018007029 A JP2018007029 A JP 2018007029A JP 2018007029 A JP2018007029 A JP 2018007029A JP 6513837 B2 JP6513837 B2 JP 6513837B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- content
- glass
- optical
- less
- optical glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims description 92
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 34
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 25
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 20
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 101
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 29
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Gd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005690 GdF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013553 LiNO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000005341 metaphosphate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
P5+の含有率が15.0〜70.0%、
Al3+の含有率が5.0〜30.0%
Ca2+の含有率が0〜30.0%、
Mg2+の含有率が0〜30.0%、
Sr2+の含有率が0〜30.0%、
Ba2+の含有率が0〜60.0%
である(1)の記載の光学ガラス。
F−の含有率が20.0〜70.0%、
O2−の含有率が30.0〜80.0%
である(1)から(4)のいずれか記載の光学ガラス。
La3+の含有率が0〜10.0%、
Gd3+の含有率が0〜10.0%、
Y3+の含有率が0〜10.0%、
Yb3+の含有率が0〜10.0%、
である(1)から(7)のいずれか記載の光学ガラス。
Li+の含有率が0〜10.0%、
Na+の含有率が0〜10.0%、
K+の含有率が0〜10.0%
である(1)から(9)のいずれか記載の光学ガラス。
Si4+の含有率が0〜10.0%、
B3+の含有率が0〜15.0%、
Zn2+の含有率が0〜30.0%、
Ti4+の含有率が0〜10.0%、
Nb5+の含有率が0〜10.0%、
W6+の含有率が0〜10.0%、
Zr4+の含有率が0〜10.0%、
Ta5+の含有率が0〜10.0%、
Ge4+の含有率が0〜10.0%、
Bi3+の含有率が0〜10.0%、
Te4+の含有率が0〜15.0%
である(1)から(11)のいずれか記載の光学ガラス。
本発明の光学ガラスを構成する各成分について説明する。
本明細書中において、各成分の含有率は特に断りがない場合は、全てモル比に基づくカチオン%又はアニオン%で表示されるものとする。ここで、「カチオン%」及び「アニオン%」(以下、「カチオン%(モル%)」及び「アニオン%(モル%)」と表記することがある)は、本発明の光学ガラスのガラス構成成分をカチオン成分及びアニオン成分に分離し、それぞれにおいて合計割合を100モル%として、ガラス中に含有される各成分の含有率を表記した組成である。
なお、各成分のイオン価は便宜的に代表値を用いているに過ぎないため、他のイオン価のものと区別するものではない。光学ガラス中に存在する各成分のイオン価は、代表値以外である可能性がある。例えば、Pは、通常イオン価が5価の状態でガラス中に存在するので、本明細書中では「P5+」と表しているが、他のイオン価の状態で存在する可能性がある。このように、厳密には他のイオン価の状態で存在するものであっても、本明細書では、各成分が代表値のイオン価でガラス中に存在するものとして扱う。
P5+は、ガラス形成成分であるため、必須成分として0%超含有すべきである。特に、P5+を15.0%以上含有することで、ガラスの耐失透性を高め、接触角を上昇させることができる。そのため、P5+の含有率は、好ましくは15.0%、より好ましくは25.0%、さらに好ましくは30.0%さらに好ましくは35.0%を下限とする。
一方で、P5+の含有量を70.0%以下にすることで、ガラスの線膨張係数の最大値を低くでき、且つP5+による屈折率やアッベ数の低下を抑えられる。従って、P5+の含有率は、好ましくは70.0%、より好ましくは60.0%、さらに好ましくは55.0%、を上限とする。
P5+は、原料としてAl(PO3)3、Ca(PO3)2、Ba(PO3)2、Zn(PO3)2、BPO4、H3PO4等を用いることができる。
一方で、Al3+の含有量を30.0%以下にすることで、ガラスの線膨張係数の最大値を低くでき、且つAl3+による屈折率やアッベ数の低下を抑えられる。従って、Al3+の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは28.0%、さらに好ましくは25.0%、さらに好ましくは20.0%、さらに好ましくは16.0%を上限とする。
Al3+は、原料としてAl(PO3)3、AlF3、Al2O3等を用いることができる。
一方で、Ca2+の含有率を30.0%以下にすることで、Ca2+の過剰な含有によるガラスの耐失透性や屈折率の低下を抑えられる。従って、Ca2+の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは20.0%、さらに好ましくは13.0%を上限とする。
Ca2+は、原料としてCa(PO3)2、CaCO3、CaF2等を用いることができる。
一方で、Sr2+の含有率を30.0%以下にすることで、ガラスの線膨張係数の最大値を下げる作用の特に強いCa2+の含有量をより増加させても、安定なガラスを得ることができる。また、Sr2+の過剰な含有によるガラスの耐失透性や屈折率の低下を抑えられる。従って、Sr2+の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは18.0%、さらに好ましくは15.0%、さらに好ましくは13.0%、さらに好ましくは10.0%を上限とする。
Sr2+は、原料としてSr(NO3)2、SrF2等を用いることができる。
一方で、Ba2+の含有率を60.0%以下にすることで、Ba2+の過剰な含有によるガラスの耐失透性の低下を抑えられる。従って、Ba2+の含有率は、好ましくは60.0%、より好ましくは55.0%、より好ましくは50.0%を上限とする。
Ba2+は、原料としてBa(PO3)2、BaCO3、Ba(NO3)2、BaF2等を用いることができる。
しかし、Mg2+は、アルカリ土類金属の中では最もガラスの線膨張係数の最大値を低くする作用が弱い成分である。そのため、Mg2+の含有率を30.0%以下にすることにより、安定なガラスを形成できる他のアルカリ土類金属の添加量の上限を高めることで、ガラスの線膨張係数の最大値をより低くし易くできる。また、ガラスの屈折率の低下を抑えられる。従って、Mg2+の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは20.0%、さらに好ましくは10.0%、さらに好ましくは5.0%を上限とする。
Mg2+は、原料としてMgO、MgF2等を用いることができる。
なお、このカチオン比(Ba2+/(Mg2++Ca2++Sr2+))の上限は、無限大(すなわちBa2+のみアルカリ土類金属が含有)であってもよいが、例えば30.0、より具体的には20.0、さらに具体的には15.0を上限としてもよい。
特に、この合計含有率を30.0%以下にすることで、ガラスの線膨張係数の最大値をより低くすることができる。従って、合計含有率(Mg2++Sr2+)は、好ましくは30.0%、より好ましくは20.0%、さらに好ましくは15.0%、さらに好ましくは10.0%を上限とする。
また、R2+の合計含有率とは、これら4つのイオンのうち1種以上の合計含有率(例えばMg2++Ca2++Sr2++Ba2+)を意味するものとする。
R2+の合計含有率は30.0%以上70.0%以下であることが好ましい。特に、R2+を30.0%以上含有することで、ガラスの線膨張係数の最大値を低くでき、且つより耐失透性の高いガラスを得ることができる。従って、R2+の合計含有率は、好ましくは30.0%、さらに好ましくは35.0%、さらに好ましくは40.0%を下限とする。
一方で、R2+の含有量を70.0%以下にすることで、R2+の過剰な含有による失透を低減できる。従って、R2+の合計含有率は、好ましくは70.0%、より好ましくは65.0%、より好ましくは60.0%、さらに好ましくは58.0%を上限とする。
なお、このカチオン比(Ba2+/R2+)の上限は、1(すなわちBa2+のみアルカリ土類金属が含有)であってもよいが、例えば0.9、より具体的には0.8を上限としてもよい。
一方で、Li+の含有率を10.0%以下含有することで、より多くのCa2+を入れても安定なガラスを得られるため、ガラスの線膨張係数の最大値をより低くし易くできる。また、屈折率の低下や、化学的耐久性の悪化を抑えられる。従って、Li+の含有率は、より好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%を上限とし、さらに好ましくは1.0%未満、さらに好ましくは0.5%未満とする。
Li+は、原料としてLi2CO3、LiNO3、LiF等を用いることができる。
一方で、La3+、Gd3+、Y3+及びYb3+の各々の含有量を10.0%以下にすることで、これら成分の過剰な含有による失透を低減でき、且つガラスの材料コストを低減できる。従って、La3+含有量は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%、最も好ましくは1.0%未満を上限とする。Gd3+は接触角を低下させる効果があるため含有量は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%、さらに好ましくは1.0%未満、最も好ましくは0.5%を上限とする。Y3+含有量は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%、さらに好ましくは1.0%未満、最も好ましくは0.5%未満とする。Yb3+含有量は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%、最も好ましくは1.0%未満を上限とする。
La3+、Gd3+、Y3+及びYb3+は、原料としてLa2O3、LaF3、Gd2O3、GdF3、Y2O3、YF3、Yb2O3等を用いることができる。
特に、Ln3+の合計含有率を20.0%以下にすることで、Ln3+の過剰な含有による失透を低減でき、且つガラスの材料コストを低減できる。従って、Ln3+の合計含有率は、好ましくは20.0%、より好ましくは10.0%、さらに好ましくは3.0%、さらに好ましくは1.0%未満、さらに好ましくは0.5%未満とする。
一方で、Na+及びK+のうち1種以上の含有率を10.0%以下にすることで、屈折率の低下や、化学的耐久性の悪化を抑えられる。従って、Na+びK+の各々の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。
Na+及びK+は、原料としてNa2CO3、NaNO3、NaF、Na2SiF6、K2CO3、KNO3、KF、KHF2、K2SiF6等を用いることができる。
特に、Rn+の合計含有率を20.0%以下にすることで、ガラスの屈折率の低下や、化学的耐久性の悪化を抑えられる。従って、Rn+の合計含有率は、好ましくは20.0%、より好ましくは10.0%、さらに好ましくは5.0%を上限とする。
一方で、Si4+の含有率を10.0%以下にすることで、Si4+の過剰な含有による失透を低減できる。従って、Si4+の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。
Si4+は、原料としてSiO2、K2SiF6、Na2SiF6等を用いることができる。
一方で、B3+の含有率を15.0%以下にすることで、化学的耐久性の悪化を抑えられる。従って、B3+の含有率は、好ましくは15.0%、より好ましくは10.0%、さらに好ましくは5.0%を上限とする。
B3+は、原料としてH3BO3、Na2B4O7、BPO4等を用いることができる。
一方で、Zn2+の含有率は30.0%以下にすることで、屈折率の低下を抑えられる。従って、Zn2+の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは15.0%、さらに好ましくは5.0%、さらに好ましくは2.0%を上限とする。
Zn2+は、原料としてZn(PO3)2、ZnO、ZnF2等を用いることができる。
一方で、Nb5+、Ti4+及びW6+の各々の含有率を10.0%以下にすることで、アッベ数の低下を抑えられ、且つガラスの着色による可視光透過率の低下を抑えられる。従って、Nb5+、Ti4+及びW6+の各々の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。
Nb5+、Ti4+及びW6+は、原料としてNb2O5、TiO2、WO3等を用いることができる。
一方で、Zr4+の含有率を10.0%以下にすることで、ガラス中の成分の揮発によるガラスの脈理を抑えられる。従って、Zr4+の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。
Zr4+は、原料としてZrO2、ZrF4等を用いることができる。
一方で、Ta5+の含有率を10.0%以下にすることで、ガラスの失透を低減できる。従って、Ta5+の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。
Ta5+は、原料としてTa2O5等を用いることができる。
一方で、Ge4+の含有率を10.0%以下にすることで、高価なGe4+の含有量が減少することで、ガラスの材料コストを低減できる。そのため、Ge4+の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%とする。
Ge4+は、原料としてGeO2等を用いることができる。
一方で、Bi3+の含有率は10.0%以下にし、及び/又は、Te4+の含有率を15.0%以下にすることで、ガラスの失透や、着色による可視光透過率の低下を抑えられる。従って、Bi3+の含有率は、好ましくは10.0%、より好ましくは5.0%、さらに好ましくは3.0%を上限とする。また、Te4+の含有率は、好ましくは15.0%、より好ましくは10.0%、さらに好ましくは5.0%を上限とする。
Bi3+及びTe4+は、原料としてBi2O3、TeO2等を用いることができる。
本発明の光学ガラスはF−を含有する。F−の含有率は、例えば20.0%〜70.0%にすることが好ましい。
特に、F−を20.0%以上含有することで、ガラスの異常分散性やアッベ数を高め、且つガラスの耐失透性を高められる。従って、F−の含有率は、好ましくは20.0%、より好ましくは22.0%、さらに好ましくは24.0%とする。
一方で、F−の含有率を70.0%以下にすることで、ガラスの磨耗度の低下を抑えられる。従って、F−の含有率は、好ましくは70.0%、より好ましくは60.0%、より好ましくは50.0%、さらに好ましくは45.0%、さらに好ましくは38.0%を上限とする。
F−は、原料としてAlF3、MgF2、BaF2等の各種カチオン成分のフッ化物を用いることができる。
特に、O2−を30.0%以上含有することで、ガラスの失透や、磨耗度の上昇を抑制できる。従って、O2−の含有率は、好ましくは30.0%、より好ましくは40.0%、さらに好ましくは50.0%、さらに好ましくは55.0%、さらに好ましくは62.0%を下限とする。
一方で、O2−の含有率を80.0%以下にすることで、他のアニオン成分による効果を得易くできる。従って、O2−の含有率は、好ましくは80.0%、より好ましくは76.0%、さらに好ましくは70.0%を上限とする。
また、ガラスの失透を抑制する観点から、O2−の含有率とF−の含有率の合計は、好ましくは98.0%、より好ましくは99.0%を下限とし、さらに好ましくは100%とする。
O2−は、原料としてAl2O3、MgO、BaO等の各種カチオン成分の酸化物や、Al(PO)3、Mg(PO)2、Ba(PO)2等の各種カチオン成分の燐酸塩等を用いることができる。
本発明の光学ガラスには、他の成分を本願発明のガラスの特性を損なわない範囲で必要に応じ、添加できる。
次に、本発明の光学ガラスに含有すべきでない成分、及び含有することが好ましくない成分について説明する。
本発明の光学ガラスの製造方法は特に限定されない。例えば、上記原料を各成分が所定の含有率の範囲内になるように均一に混合し、作製した混合物を石英坩堝又はアルミナ坩堝又は白金坩堝に投入して粗溶融した後、白金坩堝、白金合金坩堝又はイリジウム坩堝に入れて900〜1200℃の温度範囲で2〜10時間溶融し、攪拌均質化して泡切れ等を行った後、850℃以下の温度に下げてから仕上げ攪拌を行って脈理を除去し、金型に鋳込んで徐冷することにより製造することができる。
本発明の光学ガラスでは、ガラス転移点(Tg)と屈伏点(At)との間の温度範囲における線膨張係数の最大値(αmax)は、1500×10−7K−1以下であることが好ましい。これにより、特に屈折率が高く薄型の光学素子を作製する場合であっても、ガラス転移点より高い温度に加熱してプレス成形を行ったときにガラスが割れ難くなるため、光学素子の生産性を高めることができる。このようにガラスが割れ難くなる理由として、例えば、ガラスを加熱して軟化させる際や、軟化したガラスをプレス成形して冷却する際に、ガラス内部の温度差によって、ガラス内部に線膨張係数の大きいガラス転移点以上の高温部と、線膨張係数の小さいガラス転移点以下の低温部に分かれたときに、高温部の熱膨張や熱収縮が小さくなることで、高温部の熱膨張や熱収縮によって低温部に掛かる力が小さくなることが挙げられる。
従って、本発明の光学ガラスでは、ガラス転移点(Tg)と屈伏点(At)との間の温度範囲における線膨張係数の最大値(αmax)の上限は、好ましくは1500×10−7K−1、より好ましくは1300×10−7K−1、さらに好ましくは1100×10−7K−11、さらに好ましくは1015×10−7K−1とする。一方で、この線膨張係数の最大値(αmax)の下限は、好ましくは500×10−7K−1、より好ましくは600×10−7K−1、さらに好ましくは700×10−7K−1としてもよい。
なお、本明細書では、ガラス転移点(Tg)と屈伏点(At)との間の温度範囲における線膨張係数の最大値を、単に「線膨張係数の最大値」と記載することがある。
特に、本発明の光学ガラスの屈折率(nd)は、好ましくは1.50、より好ましくは1.51、さらに好ましくは1.52を下限とする。この屈折率の上限は、好ましくは2.00、より好ましくは1.90、さらに好ましくは1.80であってもよい。
また、本発明の光学ガラスのアッベ数(νd)は、好ましくは60、より好ましくは65、さらに好ましくは68を下限とし、好ましくは90、より好ましくは85、さらに好ましくは80を上限とする。
このような高屈折率を有することで、光学素子の薄型化を図っても大きな光の屈折量を得ることができる。また、このような低分散を有することで、単レンズであっても光の波長による焦点のずれ(色収差)が小さくなる。また、屈折率及びアッベ数がこのような数値を取ることで、近年発表されている高屈折・高分散の光学特性を有する光学ガラスと組み合わせたときに、高パワーの光学設計を行うことが可能な光学ガラスを得ることができる。
従って、本発明の光学ガラスは、光学設計上有用であり、光学系の高精度化及び薄型化を図ることができるため、光学設計の自由度を広げることができる。
なお、屈折率(nd)及びアッベ数(νd)は、日本光学硝子工業会規格JOGIS01−2003に基づいて測定して得た値を意味するものとする。
作製された光学ガラスから、例えばリヒートプレス成形や精密プレス成形等のモールドプレス成形の手段を用いて、ガラス成形体を作製することができる。すなわち、光学ガラスからモールドプレス成形用のプリフォームを作製し、このプリフォームに対してリヒートプレス成形を行った後で研磨加工を行ってガラス成形体を作製したり、研磨加工を行って作製したプリフォームや、公知の浮上成形等により成形されたプリフォームに対して精密プレス成形を行ってガラス成形体を作製したりすることができる。なお、ガラス成形体を作製する手段は、これらの手段に限定されない。
Claims (6)
- カチオン%(モル%)表示で、
P5+の含有率が25.0〜55.0%、
Al3+の含有率が5.0〜30.0%、
Mg2+の含有率が0%を超え4.5%以下、
Ca2+の含有率が0%を超え13.0%以下、
Sr2+の含有率が0〜10.0%、
Ba2+の含有率が15.0%以上38.8%以下、
Gd3+の含有率が0〜1.0%未満、
Zn2+の含有率が0〜2.0%(但し、Zn2+を2.0%含有するものを除く)、
アニオン%(モル%)表示で、
F−の含有率が20.0〜70.0%、
O2−の含有率が30.0〜80.0%であり、
Mg2+含有率及びSr2+含有率の合計量が2.2〜30.0%、
アルカリ土類金属の合計含有率(R2+:カチオン%)が40.0〜60.0%であり、
屈折率(nd)が1.50以上であり、60以上のアッベ数(νd)を有し、
ガラス転移点(Tg)と屈伏点(At)との間の温度範囲における、線膨張係数の最大値(αmax)が1500×10−7K−1以下である光学ガラス。 - Sr2+含有率、Ca2+含有率及びMg2+含有率の合計に対するBa2+含有率の比(Ba2+/(Mg2++Ca2++Sr2+))が0.50〜15.0である請求項1記載の光学ガラス。
- カチオン%(モル%)表示で、
La3+の含有率が0〜10.0%、
Y3+の含有率が0〜10.0%、
Yb3+の含有率が0〜10.0%、
Li+の含有率が0〜10.0%、
Na+の含有率が0〜10.0%、
K+の含有率が0〜10.0%
Si4+の含有率が0〜10.0%、
B3+の含有率が0〜15.0%、
Ti4+の含有率が0〜10.0%、
Nb5+の含有率が0〜10.0%、
W6+の含有率が0〜10.0%、
Zr4+の含有率が0〜10.0%、
Ta5+の含有率が0〜10.0%、
Ge4+の含有率が0〜10.0%、
Bi3+の含有率が0〜10.0%、
Te4+の含有率が0〜15.0%
である請求項1又は2記載の光学ガラス。 - La3+、Gd3+、Y3+及びYb3+の合計含有率(Ln3+:カチオン%)が0〜20.0%
であり、
アルカリ金属の合計含有率(Rn+:カチオン%)が20.0%以下である請求項1から3のいずれか記載の光学ガラス。 - 請求項1から4のいずれか記載の光学ガラスからなる光学素子。
- 請求項1から4のいずれか記載の光学ガラスからなる研磨加工用及び/又は精密プレス成形用のプリフォーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018007029A JP6513837B2 (ja) | 2018-01-19 | 2018-01-19 | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018007029A JP6513837B2 (ja) | 2018-01-19 | 2018-01-19 | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016232176A Division JP2017048108A (ja) | 2016-11-30 | 2016-11-30 | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018065749A JP2018065749A (ja) | 2018-04-26 |
JP6513837B2 true JP6513837B2 (ja) | 2019-05-15 |
Family
ID=62086842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018007029A Active JP6513837B2 (ja) | 2018-01-19 | 2018-01-19 | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6513837B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS604145B2 (ja) * | 1981-01-20 | 1985-02-01 | 株式会社ニコン | 弗化物燐酸塩光学ガラス |
JPH1053434A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nikon Corp | フッ化物リン酸塩光学ガラス |
JP4847769B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-12-28 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法 |
JP4408937B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2010-02-03 | Hoya株式会社 | ガラスの製造方法およびこのガラスから得られる精密プレス成形用プリフォームと光学素子 |
JP5115984B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-01-09 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子とそれぞれの製造方法 |
-
2018
- 2018-01-19 JP JP2018007029A patent/JP6513837B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018065749A (ja) | 2018-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI649292B (zh) | 光學玻璃、光學元件及預成形體 | |
JP6341836B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
TWI564263B (zh) | Optical glass, optical elements and preforms | |
JP6037501B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子、及びガラス成形体の製造方法 | |
JP2011037637A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP6618256B2 (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
JP2016121035A (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
TW201335100A (zh) | 光學玻璃、光學元件及預成形體 | |
JP2016088835A (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
JP6537781B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2014156394A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2010260740A (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
JP5698642B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
JP5721780B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2011230997A (ja) | 光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム | |
JP2017048108A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2014034472A (ja) | 光学ガラス、光学素子、及びガラス成形体の製造方法 | |
JP2012224501A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2015164885A (ja) | 光学ガラス、レンズプリフォーム及び光学素子 | |
JP5721781B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2016074566A (ja) | 光学ガラス、レンズプリフォーム及び光学素子 | |
TWI666187B (zh) | 光學玻璃、光學元件及玻璃成形體之製造方法 | |
JP2014091638A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2013151402A (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
JP5988427B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子、及びガラス成形体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190402 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6513837 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |