JP6511474B2 - プラスチック基板のための装飾コーティング - Google Patents
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Description
本出願は、2014年3月7日に出願されたオーストラリア仮出願番号第2014900781からの優先権を主張し、その全ての内容が当該参照によって本明細書に組み込まれて取得される。
スペクトル制御システムの複数層は、透明層と交互の吸収層であり、スペクトル制御システムの光学的厚さは、装飾コーティングが所望の光学効果を達成するように選択され、
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層なしで測定されたときに圧縮性であるように、ある量の圧縮応力を有する。
a)所望の光学効果を決定する段階と;
b)スペクトル制御システムに関して必要な光学的厚さを参照して、所望の光学効果を提供するであろう適切なスペクトル制御システムを決定する段階と;
c)任意の保護層無しで測定されるときに装飾コーティングの全体の残留応力が圧縮性であるような量の圧縮応力を有する適切な応力制御システムを決定する段階と;
d)プラスチック基板上に適切な応力制御システムをコーティングする段階と;
e)応力制御システム上に適切なスペクトル制御システムをコーティングする段階と;
f)それによって、所望の光学効果を備える被覆プラスチック基板を形成する段階と、を含む。
実施例1−所望の光学効果−高い%Tを備える、ピアノブラックのスペクトル的に反射した外観
射出成形ポリカーボネート基板は、洗剤によって商用の超音波洗浄システムを介して最初に洗浄される。蒸留水における最終的なすすぎは、清潔な(ゴミの無い)環境において必要とされる。基板はその後、10mm/sの引き上げ速度でMomentive PHC−587Bにおいてディップコートされる。10分のフラッシュオフ時間(flash−off time)は、溶媒がゆっくりと蒸発して、大部分がタックフリーであることを可能にする。基板はその後、130℃で45分間、硬化炉へ移動される。後続のコーティングが、ハードコーティングのエージング/汚染を避けるために、48時間の期間内に実施される。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。しかしながら、応力制御システムとスペクトル制御システムの適用の間にサンプルが“ベント”されて、金属アブレーション/除去が照射パターン(“点灯するまで隠される”とも呼ばれる)機能を可能にすることもまた留意されるべきである。この実施形態に従う被覆基板の概略図は図2に示される。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。この製品は、実施例3と同様の、前からの外観を有するが、光はそれを、より容易に透過し得て、追加された所望の光学効果を達成し、ディスプレイスクリーン又は“隠れた”照明を覆うことになり得る。
この実施例は、マット添加剤を含むハードコートを備え、保護層としてのハードコートを共に備える、パターン化基板を提供する。この点において、パターン化された射出成形金型ツールは、パターン化されたポリカーボネート基板を射出成形するために用いられる。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。加えて、マット添加剤が、保護層としてのハードコートにおいて含まれて、所望の拡散反射を達成する。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。特に、サンプルは、ターゲットの内の二つがコスパッタリングを達成するように配された3つのスパッタターゲットから成る、特注のコーティングチャンバー内にロードされた。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。特に、“薄い色の”ポリカーボネートは、所定量の黒いLexan 141と共に透明なLexan LS2を混合することによって達成されて、基板の射出成形前に49%の光学的透過を達成する。
一般的に実施例1に記載されるようなプロセスが採用され、以下の変更を有する。
この技術は、複雑な形状を備える基板上でコーティングの一貫性及び再現性を改善するために用いられる。典型的には、基板は、コーティングされることになる複数の表面をそれが含む場合、複雑な形状を有するとして分類されることになり、表面の内の少なくとも2つの面が、互いに対して45度超の角度で曲げられる。例えば、コーティングされることになる少なくとも2つの表面の面は、平角を少なくとも45度超えた角度で曲げられて、225度以上の、対面の優角を形成し得る。代わりに、コーティングされることになる少なくとも2つの表面の面は、互いに向かって少なくとも45度で曲げられて、135度未満の、鈍角又は実際の対面の角度を形成し得る。
この技術は、コーティングを介したゼロ光学透過を有するコーティングを提供するために用いられる。コーティングの一部はその後、レーザーエッチング等の技術を介して、コーティングの全深さを通して切除され得、それによって、背面照明によって照らされ得るパターンを形成する。コーティングのゼロ明所透過は、背面照明源の光の裏抜けを防止する。この実施形態に従う被覆基板の概略図が図3に示される。
実施例11に記載されるようなプロセスが採用される。以下の変更を有する:
実施例11に記載されるようなプロセスが採用される。以下の変更を有する:
受け入れ可能性に関して、装飾コーティングは、作動条件下で十分な耐久性を有することを必要とし、多くの場合、規制された又は業界/製造業者のガイドラインを満たさなくてはならない。自動車用目的に関して、コーティングは、115℃までの温度でひび割れを示さない必要がある。
Claims (19)
- 装飾コーティングで被覆されたプラスチック基板であって、装飾コーティングがスペクトル制御システム及び応力制御システムを含み、スペクトル制御システムが複数層であり、任意で保護層を含み、応力制御システムがスペクトル制御システムと基板との間の少なくとも単一層であり、
スペクトル制御システムの複数層が、透明層と交互の吸収層であり、スペクトル制御システムの光学的厚さは、装飾コーティングが所望の光学効果を達成するように選択され、
応力制御システムの少なくとも一つの層は、任意の保護層無しで測定されるときに、装飾コーティングの全体の残留応力が圧縮性である量の圧縮応力を有し、
応力制御システムのための材料が、SiOx,SiOxNy,CrNx,NbOx,TaOx,ZrOxを含む材料の群から選択され、x及びyの両方が0.1と2.0との間であり、
ハードコーティングが、装飾コーティングと基板との間に含まれ、
吸収層が、400nmから1000nmのスペクトル領域において1より大きい測定された光学的消衰係数を有する材料、又は材料のブレンド、を含む層である、プラスチック基板。 - 吸収層材料は、屈折率及び消衰係数の合計が2より大きく、消衰係数自身が1より大きい、屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金、又はそれらの混合物である、請求項1に記載の被覆プラスチック基板。
- 吸収層のための、金属、メタロイド、又は金属合金が、クロム、アルミニウム、チタン、ニッケル、モリブデン、ジルコニウム、タングステン、シリコン、ニオブ、タンタル、バナジウム、コバルト、マンガン、銀、亜鉛、インジウム、ゲルマニウム、スズ及びそれらの混合物、並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物又は炭化物、並びにそれらの混合物を含む群から選択される、請求項2に記載の被覆プラスチック基板。
- 透明層は、400nmから1000nmのスペクトル領域において1未満の測定された光学的消衰係数を有する、材料、又は材料のブレンド、を含む層である、請求項1から3の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 透明層材料は、屈折率及び消衰係数の合計が3未満であり、消衰係数自身が1未満である、屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金、又はそれらの混合物である、請求項4に記載の被覆プラスチック基板。
- 透明層のための、金属、メタロイド、又は金属合金が、ホウ素、シリコン、ゲルマニウム、アンチモン、テルル、ポロニウム、ニオブ、ジルコニウム、マグネシウム、スズ、タンタル、アルミニウム、クロム、チタン及びそれらの混合物、並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物、炭化物、並びにそれらの混合物を含む、金属、メタロイド、及び金属合金の群から選択される、請求項5に記載の被覆プラスチック基板。
- スペクトル制御システムが、異なる屈折率の材料の交互層で構成された干渉システムである、請求項1から6の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- スペクトル制御システムが、スペクトル制御システムの最外層である保護層を含む、請求項1から7の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 保護層が、プラズマ重合ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、蒸着若しくは液体移動技術を介して堆積されたフルオロポリマー系コーティング、又は液体ハードコーティングである、請求項8に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−6MPa未満である、圧縮応力の量を有する、請求項1から9の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−63MPa未満である、圧縮応力の量を有する、請求項1から9の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−76MPa未満である、圧縮応力の量を有する、請求項1から9の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−112MPa未満である、圧縮応力の量を有する、請求項1から9の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−360MPaより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項1から13の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−300MPaより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項1から13の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−250MPaより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項1から13の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムが、堆積されたときに、高レベルの圧縮応力を生成する材料の単一層である、請求項1から16の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 応力制御システムが、基板上に堆積された圧縮性の又はわずかに伸張性の層、及び、堆積されたときに高レベルの圧縮応力を生成する、その上に堆積された高度に圧縮性の層を含む多層システムである、請求項1から16の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
- 装飾コーティングが、被覆基板に所望の光学効果を提供し、装飾コーティングがスペクトル制御システム及び応力制御システムを含み、スペクトル制御システムが複数層であり、任意で保護層を含み、応力制御システムが少なくとも単一層であり、スペクトル制御システムの複数層が、透明層と交互の吸収層である、プラスチック基板へ装飾コーティングを適用するための方法であって、
a.所望の光学効果を決定する段階と;
b.スペクトル制御システムに関する必要な光学的厚さを参照して、所望の光学効果を提供することになる適切なスペクトル制御システムを決定する段階と;
c.装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、圧縮性である、圧縮応力の量を有する適切な応力制御システムを決定する段階と;
d.プラスチック基板上に適切な応力制御システムをコーティングする段階と;
e.応力制御システム上に適切なスペクトル制御システムをコーティングする段階と;
それによって、所望の色を備える被覆プラスチック基板を形成する段階と、を含み、
応力制御システムのための材料が、SiOx,SiOxNy,CrNx,NbOx,TaOx,ZrOxを含む材料の群から選択され、x及びyの両方が0.1と2.0との間であり、
ハードコーティングが、装飾コーティングと基板との間に含まれ、
吸収層が、400nmから1000nmのスペクトル領域において1より大きい測定された光学的消衰係数を有する材料、又は材料のブレンド、を含む層である、方法。
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