JP6498959B2 - プラズマ分光分析方法 - Google Patents
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Description
電極を用いた電圧印加により、容器中に発生したプラズマの発光を検出する検出工程と、
プラズマの発光を検出しない非検出工程とを含み、
前記検出工程と前記非検出工程とを繰り返し行い、
前記検出工程において、プラズマを発生させるプラズマ発生工程とプラズマを発生させないプラズマ非発生工程とを交互に行うことを特徴とする。
電極を用いた電圧印加により、容器中に発生したプラズマの発光を検出する検出工程と、
プラズマの発光を検出しない非検出工程とを含み、
前記検出工程と前記非検出工程とを繰り返し行い、
前記検出工程において、プラズマを発生させるプラズマ発生工程とプラズマを発生させないプラズマ非発生工程とを交互に行うことを特徴とする。
前記SW時間:1〜100μs
前記Duty:1〜100%未満
前記プラズマ発生工程の電圧:100〜1200V
前記プラズマ非発生工程の電圧:0〜100V
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有することが好ましい。前記第1領域、前記狭小部および前記第2領域は、それぞれ、内部が空隙(中空)であり、この順序で内部が連通している。前記チップにおいて、前記第1領域から前記第2領域に向かう方向を「長手方向」、「軸方向」または「電界方向」といい、狭小部を中心として、前記第1領域側を上流、前記第2領域側を下流という。また、前記長手方向に対する垂直方向であり、且つ、平面方向を「幅方向」といい、長手方向に対する垂直方向であり、且つ、前記チップの上下方向を「高さ方向」または「深さ方向」という。また、前記長手方向の距離を「長さ」、前記幅方向の距離を「幅」、前記高さ方向の距離を「高さ」という。そして、前記流路における「断面積」とは、特に示さない限り、幅方向(前記長手方向に対する垂直方向)における、前記流路内部の空隙の断面積を意味する。
狭小部を有するチップを使用し、プラズマ発光の再現性を確認した。
図2に示すプラズマ発生用チップ101を作製した。図2において、(A)は、チップ101の上面図であり、(B)は、(A)のI−I方向の断面図であり、(C)は、(B)のII−II方向の断面図であり、(D)は、(B)の破線領域(X)の拡大図であり、(E)は、(B)のIII−III方向の断面図である。具体的には、下基板として、石英ガラスのプレート、上基板として、ポリブチレンテレフタレート(PBT、ジュラネックス(登録商標)2002、Polyplastic社製)製プレートを準備した。前記上基板に、図2に示す空隙を形成した。そして、前記上基板と前記下基板とを、紫外線硬化型接着剤で接合することで、前記上基板と前記下基板とから構成される基板10に狭小部13が形成されたプラズマ発生用チップ101を作製した。
・狭小部13
長さ:600μm
幅 :220μm
高さ:30μm
・第1流路12a
長さ:2.5mm
幅 :1mm
テーパー部の角度 :45度
・第2流路12b
長さ:2.5mm
幅 :1mm
テーパー部の角度 :45度
・第1リザーバー11aおよび第2リザーバー11b
直径:3.2mm
高さ:6mm
・チップ101
全長:35mm
全幅:12mm
高さ:6mm
チオプロニンを終濃度500mmol/Lとなるように硝酸に溶解して、チオプロニン試料を調製した。これを導電性溶液とした。
印加電圧:750Vと0Vの繰り返し
印加電流:750mA
SW時間:50μs
Duty:16%
検出工程1回あたりの時間:350ms
セット数:7セット
周期数:40周期
分析領域: 狭小部の中心を中心点とする直径400μmの領域
光ファイバー: 直径400μm 単芯
カップ状の容器を用いて、プラズマ発光の再現性を確認した。
印加電圧:280Vと0Vの繰り返し
SW時間:100μs
Duty:80%
周期数:80周期
Claims (14)
- 電極を用いた電圧印加により、測定対象サンプルを含む導電性溶液が充填された容器中に発生したプラズマの発光を検出する検出工程と、
プラズマの発光を検出しない非検出工程とを含み、
前記検出工程と前記非検出工程とを繰り返し行い、
前記検出工程において、プラズマを発生させるプラズマ発生工程とプラズマを発生させないプラズマ非発生工程とを交互に行い、
前記プラズマ発生工程と前記プラズマ非発生工程とを各1回行う繰り返しである1セットの時間が、1〜1000μsである、
ことを特徴とするプラズマ分光分析方法。 - 前記検出工程において、電気回路を閉回路と開回路とに切り替えることにより、前記プラズマ発生工程と前記プラズマ非発生工程とを交互に行う、請求項1記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、電気回路を閉回路とし、相対的に高い電圧と相対的に低い電圧とを交互に印加することにより、プラズマを発生させる工程とプラズマを発生させない工程とを交互に行う、請求項1記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、前記プラズマ発生工程の電圧が、100V以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、前記プラズマ非発生工程の電圧が、100V未満である、請求項3または4記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、前記プラズマ発生工程と前記プラズマ非発生工程とを各1回行う繰り返しを1セットとし、前記1セットの時間における前記プラズマ発生工程の時間の割合が、1%以上100%未満である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、連続的または非連続的に前記発光を検出する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記容器が、流路を有するチップであり、
前記検出工程において、前記流路に電圧を印加し、前記流路で発生したプラズマの発光を検出する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。 - 前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有する、請求項8記載のプラズマ分光分析方法。 - 前記検出工程において、前記狭小部に電圧を印加する、請求項9記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、前記狭小部または前記狭小部以外で発生するプラズマの発光を検出する、請求項9または10記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記狭小部を挟んで、少なくとも一対の電極が配置されている、請求項9〜11のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記サンプルが、生体由来検体である、請求項12記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記生体由来検体が、尿である、請求項13記載のプラズマ分光分析方法。
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