JP5750661B2 - 三次元誘電泳動デバイス - Google Patents
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Landscapes
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Description
図1は、実施の形態にかかる三次元誘電泳動デバイス1の一例を説明するための上面図であり、図2は、細菌濃縮機構を構成する突出部材の周縁部を説明するための部分拡大図である。
次に、第2の実施形態として、分子イオンビーム微細加工法により突出部材が形成されたアレイを適用した三次元誘電泳動デバイスについて説明する。なお、本実施形態にかかる三次元誘電泳動デバイスは、第1の実施形態で説明した方法と略同様に作成することができる。したがって、本実施の形態の説明においては、主に分子イオンビーム微細加工法による突出部材の形成方法について説明する。
10 基板
10’ 基板
20 電極素子
20’ 電極素子
30 突出部材
30’ 突出部材
40,41 キャピラリー
50,51 電気導線
60 電極ギャップ
70 SU−8薄膜層
70’ SU−8薄膜層
80 ペリスタポンプ
90 細菌懸濁液
100 交流電源装置
110 オシロスコープ
120 CCDカメラ
130 パーソナルコンピュータ
140,141 流路
150 蓋部材
200 突出部材
210 突条部
300 突出部材
310 突起部
400 突出部材
Claims (24)
- 所定のギャップ幅を有する電極が形成された基板と、
前記基板上に形成され、導入された微小誘電体の流路を形成する流路形成部材と、
感光性レジスト材料からなる絶縁薄膜を成膜後、ビーム微細加工法による露光、現像を経て前記基板上の前記流路中途に複数立設され、周面に複数の突起部を備えた突出部材と、
を備え、
前記突出部材は前記電極間で発生した電界を不均一化させることにより、前記流路を介して流入した前記微小誘電体に誘電泳動力を発生させることを特徴とする三次元誘電泳動デバイス。 - 前記ビーム微細加工法は集束プロトンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項1記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ビーム微細加工法は分子イオンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項1記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は所定のアスペクト比を持って形成されたピラー形状であると共に、前記基板上に所定の間隔毎に立設されることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は周面に突条部を備えることを特徴とする請求項4記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は四角柱形状であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記微小誘電体は細菌であることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 所定のギャップ幅を有する電極が形成された基板と、
前記基板上に形成され、導入された微小誘電体の流路を形成する流路形成部材と、
感光性レジスト材料からなる絶縁薄膜を成膜後、ビーム微細加工法による露光、現像を経て前記基板上の前記流路中途に所定のアスペクト比を持って形成され、周面に複数の突起部を有し、所定の間隔毎に立設された複数のピラー形状部材と、
を備え、
前記ピラー形状部材は前記電極間で発生した電界を不均一化させることにより、前記流路を介して流入した前記微小誘電体に誘電泳動力を発生させることを特徴とする三次元誘電泳動デバイス。 - 前記ビーム微細加工法は集束プロトンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項8記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ピラー形状部材は分子イオンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項8記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ピラー形状部材は周面に突条部を備えることを特徴とする請求項8乃至10の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記微小誘電体は細菌であることを特徴とする請求項8乃至11の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 所定のギャップ幅を有する電極が形成された基板と、
前記基板上に形成され、導入された微小誘電体の流路を形成する流路形成部材と、
前記流路形成部材の上面部と一体成型され、前記微小誘電体の前記流路からの漏洩を防止する蓋部材と、
感光性レジスト材料からなる絶縁薄膜を成膜後、ビーム微細加工法による露光、現像を経て前記基板上の前記流路中途に複数立設され、周面に複数の突起部を備えた突出部材と、
を備え、
前記突出部材は前記電極間で発生した電界を不均一化させることにより、前記流路を介して流入した前記微小誘電体に誘電泳動力を発生させることを特徴とする三次元誘電泳動デバイス。 - 前記ビーム微細加工法は集束プロトンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項14記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ビーム微細加工法は分子イオンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項14記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は所定のアスペクト比を持って形成されたピラー形状であると共に、前記基板上に所定の間隔毎に立設されることを特徴とする請求項13乃至15の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は周面に突条部を備えることを特徴とする請求項16記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記突出部材は四角柱形状であることを特徴とする請求項13乃至15の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記微小誘電体は細菌であることを特徴とする請求項13乃至18の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 所定のギャップ幅を有する電極が形成された基板と、
前記基板上に形成され、導入された微小誘電体の流路を形成する流路形成部材と、
前記流路形成部材の上面部と一体成型され、前記微小誘電体の前記流路からの漏洩を防止する蓋部材と、
感光性レジスト材料からなる絶縁薄膜を成膜後、ビーム微細加工法による露光、現像を経て前記基板上の前記流路中途に所定のアスペクト比を持って形成され、周面に複数の突起部を有し、所定の間隔毎に立設された複数のピラー形状部材と、
を備え、
前記ピラー形状部材は前記電極間で発生した電界を不均一化させることにより、前記流路を介して流入した前記微小誘電体に誘電泳動力を発生させることを特徴とする三次元誘電泳動デバイス。 - 前記ビーム微細加工法は集束プロトンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項20記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ビーム微細加工法は分子イオンビーム微細加工法であることを特徴とする請求項20記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記ピラー形状部材は周面に突条部を備えることを特徴とする請求項20乃至22の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
- 前記微小誘電体は細菌であることを特徴とする請求項20乃至23の何れかに記載の三次元誘電泳動デバイス。
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