JP6480211B2 - プラズマ発生用チップ、プラズマ発生装置およびプラズマ分光分析方法 - Google Patents
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Description
流路を含み、
前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、前記狭小部は、前記第1領域の断面および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、
下記条件(1)および(2)の少なくとも一方を満たすことを特徴とする。
条件(1):前記第1領域の内壁および前記第2領域の内壁の少なくとも一方が、溝部を有する
条件(2):陰極を有し、前記陰極が、前記第1領域の内壁に固定化されている
導電性溶液が供給された流路に電界を発生させる工程、および、
電界の発生により、前記流路内で発生したプラズマの発光を検出する検出工程を含み、
前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域の断面および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、
下記条件(1)および(2)の少なくとも一方を満たすことを特徴とする。
条件(1):前記第1領域の内壁および前記第2領域の内壁の少なくとも一方が、溝部を有し、陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されている
条件(2):陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されており、前記陰極は、前記第1領域の内壁に固定化されている
(1)プラズマ発生用チップ
本発明の第1のプラズマ発生用チップは、前述のように、流路を含み、前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域の断面および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、下記条件(1)を満たすことを特徴とする。
条件(1):前記第1領域の内壁および前記第2領域の内壁の少なくとも一方が、溝部を有する
本発明の第1のプラズマ発生装置は、前述のように、前記本発明の第1のプラズマ発生用チップを備えることを特徴とする。本発明の第1のプラズマ発生装置は、前記第1のプラズマ発生用チップを備えることが特徴であって、その他の構成および条件は、特に制限されない。本発明の第1のプラズマ発生装置は、特に示さない限り、前記本発明の第1のプラズマ発生用チップの記載を援用できる。本発明のプラズマ発生装置は、例えば、さらに、電圧印加手段を備えることが好ましい。
本発明の第1のプラズマ分光分析方法は、前述のように、
導電性溶液が供給された流路に電界を発生させる工程、および
電界の発生により前記流路内で発生したプラズマの発光を検出する検出工程を含み、
前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域の断面および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、
下記条件(1)を満たすことを特徴とする。
条件(1):前記第1領域の内壁および第2領域の内壁の少なくとも一方が、溝部を有し、陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されている
本発明の第1形態について、図面を参照し、例をあげて詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の例に限定されない。なお、各図において、同一部分には、同一符号を付しており、特に示さない限り、各形態の記載を援用できる。また、図面は、説明の便宜上、各部の構造は適宜簡略化して示す場合があり、各部の大きさ、その比率等は、実際とは異なり、模式的に示す場合がある。
(1)プラズマ発生用チップ
本発明の第2のプラズマ発生用チップは、前述のように、流路を含み、前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域の断面および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、下記条件(2)を満たすことを特徴とする。
条件(2):陰極を有し、前記陰極が、前記第1領域の内壁に固定化されている
本発明の第2のプラズマ発生装置は、前述のように、前記本発明の第2のプラズマ発生用チップを備えることを特徴とする。本発明の第2のプラズマ発生装置は、前記第2のプラズマ発生用チップを備えることが特徴であって、その他の構成および条件は、特に制限されない。本発明の第2のプラズマ発生装置は、特に示さない限り、前記本発明の第2のプラズマ発生用チップおよび前記本発明の第1形態の記載を援用できる。
本発明の第2のプラズマ分光分析方法は、前述のように、導電性溶液が供給された流路に電界を発生させる工程、および
電界の発生により前記流路内で発生したプラズマの発光を検出する検出工程を含み、
前記流路は、第1領域と狭小部と第2領域とを有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、且つ、前記第1領域の断面および前記第2領域の断面よりも小さい断面積を有し、
下記条件(2)を満たすことを特徴とする。
条件(2):陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されており、前記陰極は、前記第1領域の内壁に固定化されている
本発明の第2形態について、図面を参照し、例をあげて詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の例に限定されない。なお、各図において、同一部分には、同一符号を付しており、特に示さない限り、前記第1形態の記載の援用できる。また、図面は、説明の便宜上、各部の構造は適宜簡略化して示す場合があり、各部の大きさ、その比率等は、実際とは異なり、模式的に示す場合がある。
本発明の第1のプラズマ発生用チップを用いて、プラズマ発光の再現性を確認した。
図1に示すプラズマ発生用チップ101を作製した。具体的には、下基板として、石英ガラスのプレート、上基板として、ポリブチレンテレフタレート(PBT、ジュラネックス(登録商標)2002、Polyplastic社製)製プレートを準備した。前記上基板に、成形法により、図1に示す空隙を形成した。そして、前記上基板と前記下基板とを、紫外線硬化型接着剤で接合し、プラズマ発生用チップ101を作製した。
・狭小部13
長さ:600μm
幅 :220μm
高さ:30μm
・第1領域12a
長さ:2.5mm
幅 :1mm
テーパー部の角度 :45度
・溝14
長さ:3mm
幅 :300μm
深さ:1000μm
・非テーパー部
長さ:2.2mm
高さ:2mm
・第2領域12b
長さ:2.5mm
幅 :1mm
テーパー部の角度 :45度
・第1リザーバー11aおよび第2リザーバー11b
直径:3.2mm
高さ:6mm
・チップ101
全長:35mm
全幅:12mm
高さ:6mm
チオプロニンを終濃度500mmol/Lとなるように、硝酸に溶解して、チオプロニン試料を調製した。これを導電性溶液とした。
印加電圧: 750V
印加電流: 750mA
印加時間: 350ms
SW時間: 50μs
Duty: 16%
印加回数: 5000ms間隔で160回
分析領域: 狭小部の中心を中心点とする直径400μmの領域
光ファイバー: 直径400μm 単芯
分光器: VS−140−1G、堀場製作所製
本発明の第2のプラズマ発生用チップを用いて、プラズマ発光の再現性を確認した。
図5に示すプラズマ発生用チップ203を作製した。具体的には、前記実施例1Aと同じ下基板と上基板を準備し、前記上基板に、同様にして、図5に示す空隙を形成した。前記上記版と前記下基板の内壁に、スパッタリングにより金をコーティングし、厚み100nmの陰極15および陽極16を形成した。そして、前記上基板と前記下基板とを、紫外線硬化型接着剤で接合し、プラズマ発生用チップ203を作製した。プラズマ発生用チップ203において、陰極15は、第1リザーバー11aの内側壁全面と、第1領域12aの非テーパー部の上面に形成し、陽極は、第1リザーバー11aの内壁全面に形成した。
プラズマ発生用チップ203の陰極15および陽極16間への印加を40回行った以外は、前記実施例1Aと同様にして、狭小部におけるプラズマ発光の発光スペクトルを分析した。
11a 第1リザーバー
11b 第2リザーバー
12a 第1領域
12b 第2領域
13 狭小部
14 溝部
15 陰極
101、102、201、202、203 プラズマ発生用チップ
Claims (23)
- 流路を含み、
前記流路は、導電性溶液を貯留する第1リザーバーおよび第2リザーバー、狭小部、前記第1リザーバーと前記狭小部とを接続する第1領域、並びに前記第2リザーバーと前記狭小部とを接続する第2領域を有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、
前記第1領域は、前記狭小部との接続部の断面積が、前記第1リザーバーとの接続部の断面積よりも小さくなるように形成されており、
前記第2領域は、前記狭小部との接続部の断面積が、前記第2リザーバーとの接続部の断面積よりも小さくなるように形成されており、
下記条件(1)および(2)の少なくとも一方を満たすことを特徴とするプラズマ発生用チップ。
条件(1):前記第1領域の内壁および前記第2領域の内壁の少なくとも一方に、溝部を有する
条件(2):陰極を有し、前記陰極が、前記第1領域の内壁に固定化されている - 前記条件(1)において、前記第1領域から前記第2領域に向かう方向を長手方向として、前記第1領域の内壁に、前記長手方向に沿って前記溝部を有する、請求項1記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記条件(1)において、さらに、陰極を有する、請求項1または2記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が、前記第1領域内に配置されている、請求項3記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が、前記第1領域の前記溝部内に配置されている、請求項3または4記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が、前記第1領域の内壁に固定化されている、請求項3から5のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が、前記第1領域の内壁に、導電材料をコーティングして形成された電極である、請求項1および3から6のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が、前記第1領域の内壁に、導電材料を埋め込んで形成された電極である、請求項1および3から6のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陰極が固定化される前記流路の内壁が、前記流路の前記溝部の内壁である、請求項7または8記載のプラズマ発生用チップ。
- さらに、陽極を備え、
前記陽極が、前記狭小部を挟んで、前記陰極の反対方向に配置されている、請求項1から9のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。 - 前記陽極が、前記第2領域内に配置されている、請求項10記載のプラズマ発生用チップ
。 - 前記陽極が、前記第2領域の内壁に固定化されている、請求項10または11記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陽極が、前記第2領域の内壁に、導電材料をコーティングして形成された電極である、請求項10から12のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。
- 前記陽極が、前記第2領域の内壁に、導電材料を埋め込んで形成された電極である、請求項10から12のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。
- さらに、導電性溶液を貯留する第1リザーバーおよび第2リザーバーを有し、
前記第1領域は、一端が前記狭小部と連通し、他端が前記第1リザーバーと連通し、
前記第2領域は、一端が前記狭小部と連通し、他端が前記第2リザーバーと連通している、請求項1から14のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップ。 - 請求項1から15のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップを備えることを特徴とするプラズマ発生装置。
- さらに、前記プラズマ発生用チップにおいて発生したプラズマ発光を検出する検出手段を備える、請求項16記載のプラズマ発生装置。
- 前記検出手段が、前記プラズマ発生用チップの前記流路の前記狭小部において発生したプラズマ発光を検出する手段である、請求項17記載のプラズマ発生装置。
- さらに、電圧印加手段を備える、請求項16から18のいずれか一項に記載のプラズマ発生装置。
- 導電性溶液が供給された流路に電界を発生させる工程、および、
電界の発生により前記流路内で発生したプラズマの発光を検出する検出工程を含み、
前記流路は、導電性溶液を貯留する第1リザーバーおよび第2リザーバー、狭小部、前記第1リザーバーと前記狭小部とを接続する第1領域、並びに前記第2リザーバーと前記狭小部とを接続する第2領域を有し、
前記狭小部は、前記第1領域および前記第2領域と連通し、
前記第1領域は、前記狭小部との接続部の断面積が、前記第1リザーバーとの接続部の断面積よりも小さくなるように形成されており、
前記第2領域は、前記狭小部との接続部の断面積が、前記第2リザーバーとの接続部の断面積よりも小さくなるように形成されており、
下記条件(1)および(2)の少なくとも一方を満たすことを特徴とするプラズマ分光分析方法。
条件(1):前記第1領域の内壁および前記第2領域の内壁の少なくとも一方が、溝部を有し、陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されている
条件(2):陽極と陰極との間に前記狭小部が位置するように、前記陽極と前記陰極とが配置されており、前記陰極は、前記第1領域の内壁に固定化されている - 前記条件(1)において、前記第1領域から前記第2領域に向かう方向を長手方向として、前記第1領域の内壁に、前記長手方向に沿って前記溝部を有する、請求項20記載のプラズマ分光分析方法。
- 前記検出工程において、前記狭小部で発生したプラズマの発光を検出する、請求項20または21記載のプラズマ分光分析方法。
- 請求項1から15のいずれか一項に記載のプラズマ発生用チップを使用する、請求項20から22のいずれか一項に記載のプラズマ分光分析方法。
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