JP6497018B2 - デュプレクサ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
受信フィルタ12における積層構造:LiTaO3膜(厚み490nm)/SiO2膜(厚み570nm)/SiN膜(厚み1800nm)/SiO2膜(厚み2000nm)/Si基板
2…支持基板
3,5…低音速膜
3a,3b,5a〜5d…SiO2膜
4…高音速膜
6…圧電膜
6a,6b…上面
6c…段差
7,8…IDT電極
11…送信フィルタ
12…受信フィルタ
13…アンテナ
14…アンテナ端子
15…送信端子
16…受信端子
17…縦結合共振子型弾性波フィルタ
18〜21…弾性波共振子
22…レジスト層
24…エリアマスク
25…レジスト層
31…支持基板
L1〜L3…インダクタ
M…マスク
P1〜P4…並列腕共振子
S1〜S5…直列腕共振子
Claims (8)
- 圧電膜を有するデュプレクサであって、
圧電膜を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波音速が高速である高音速材と、 前記高音速材上に積層されており、前記圧電膜を伝搬するバルク波音速よりも伝搬するバルク波音速が低速である低音速膜と、
前記低音速膜上に積層された前記圧電膜と、
前記圧電膜の一方面に形成されており、第1の帯域通過型フィルタを構成している第1の電極と、
前記圧電膜の一方面に形成されており、第2の帯域通過型フィルタを構成している第2の電極とを備え、
前記第1の帯域通過型フィルタが構成されている部分における前記圧電膜の厚みが、前記第2の帯域通過型フィルタが構成されている部分における前記圧電膜の厚みと異なっており、前記第1の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記低音速膜の厚みが前記第2の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記低音速膜の厚みと異なっているか、または、前記第1の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記高音速材の厚みが前記第2の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記高音速材の厚みと異なっている、デュプレクサ。 - 前記第1の帯域通過型フィルタが構成されている部分における圧電膜と、前記第2の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記圧電膜とが連なっている、請求項1に記載のデュプレクサ。
- 前記第1の帯域通過型フィルタが構成されている部分における圧電膜と、前記第2の帯域通過型フィルタを構成している部分における前記圧電膜とが段差を経て連なっている、請求項2に記載のデュプレクサ。
- 支持基板をさらに備え、前記高音速材が、前記支持基板上に形成されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載のデュプレクサ。
- 前記高音速材が1枚の高音速支持基板である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のデュプレクサ。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のデュプレクサの製造方法であって、
高音速材上に、低音速膜を積層する工程と、
前記低音速膜上に、圧電膜を形成する工程と、
前記圧電膜上にレジストを付与する工程と、
前記圧電膜をエッチングする工程と、
前記エッチング後に、前記レジストを除去し、前記圧電膜に、厚みの相対的に厚い部分と、相対的に薄い部分とを設ける工程と、
前記圧電膜の一方面に前記第1及び第2の電極を形成する工程と、
前記圧電膜の形成に先立ち、前記低音速膜または前記高音速材において、前記第1の帯域通過型フィルタが構成される部分と、前記第2の帯域通過型フィルタが構成される部分とにおいて厚みを異ならせる工程とを備える、デュプレクサの製造方法。 - 支持基板を用意する工程と、
前記支持基板上に前記高音速材を積層する工程とをさらに備える、請求項6に記載のデュプレクサの製造方法。 - 前記高音速材として、高音速支持基板を用意し、該高音速支持基板上に前記低音速膜を積層する、請求項6に記載のデュプレクサの製造方法。
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