JP6496600B2 - 露光装置 - Google Patents
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- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 117
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 83
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 56
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
図1は、ステッパー等の投影露光する一般的な投影露光装置における光学系の概略構成を縦断面的に示した概要図である。主光線100は,二次発光面51から出射され物体面10を照明する照明光200の主光線である。二次発光面51から主光線100を中心として放出された照明光200は、コンデンサーレンズ52を通過すると、ケーラー照明手段により、主光線100に垂直で結像面30と平行な平面である照明面60を均一に照明する。この光学系は、物体側のテレセントリック光学系になっている。照明面60には、露光されるパターンが描画されたレチクルマスク等の露光用マスクが配置され、主光線100に垂直で結像面30と平行な平面である物体面10となる。従って、照明面60と物体面10とは一致する。
光路長2 : A2D1A2’=A2D2A2’=A2D3A2’・・・(2)
光路長3 : A3D1A3’=A3D2A3’=A3D3A3’・・・(3)
光路長5 : A2D2A2’=B2D2B2’=C2D2C2’・・・(5)
光路長6 : A3D2A3’=B3D2B3’=C3D2C3’・・・(6)
傾斜角θ1’ : θ1’=−θ1/β・・・(7)
傾斜角θ2’ : θ2’=−θ2/β・・・(8)
傾斜角θ3’ : θ3’=−θ3/β・・・(9)
が成り立ち、この場合の光路長は、前記したものと同様に以下が成り立つ。
光路長4 : A1D2A1’=B1D2B1’=C1D2C1’・・・(4)
光路長5 : A2D2A2’=B2D2B2’=C2D2C2’・・・(5)
光路長6 : A3D2A3’=B3D2B3’=C3D2C3’・・・(6)
図5は、図4の微小な領域の照明光を、表面反射ミラーにて方向を変更することで、微小結像面の傾斜角を任意の傾斜角に変換して結像させることが可能であることを示した第1実施形態の概要図である。より詳しくは、図5では、図4に示したような傾斜した第1微小物体面11b、第2微小物体面12b、第3微小物体面13b等の物体面10の微小な領域から出射した照明光について、シャインプルーフの関係を成り立たせながら、投影レンズアセンブリ20を通過した後のその照明光を表面反射ミラー41b、42b、43bにて方向を変更することで、傾斜角がシャインプルーフの関係にならない垂直や水平等の任意の傾斜角の第1微小結像面31b(傾斜角が垂直)、第2微小結像面32b(傾斜角が水平)、第3微小結像面33b(傾斜角が垂直)上に結像させることが可能であることを示している。
図6は、図5の所定傾斜角θ1=±45°の第1〜3微小物体面11b〜13bからの照射光を所定傾斜角θ1”=±22.5°の第1〜3表面反射ミラー41b〜43bにより反射させて垂直面の微小結像面31b〜33bに結像させることが、所定傾斜角θ1=±45°以外の微小物体面で、所定傾斜角θ1”=±22.5°以外の表面反射ミラーを使用しても可能であることを示した第2実施形態の概要図である。図6においても、説明を容易にするために、投影レンズアセンブリ20の倍率β=1とする。
図7は、図5のように構成された露光システムにおける物体面上の任意の微小物体面への照明光の供給を選択的に切り替える場合の照明光学系の構成を示した第3実施形態の概要図である。図7における全般的な照明光の供給は、基本的に図1に示したような二次発光面51、コンデンサーレンズ52等を有する通常の照明光学系を使用すればよい。微小物体面への照明光(露光光)の供給を切り替えるには、露光システムにおける物体面10の光源(二次発光面51)側に、目的の微小物体面以外への照明光を遮光し、目的の微小物体面のみに照明光を供給することが可能な照明領域選択開口部54を有する部分的遮光機構の照明ブラインド53を使用する。照明ブラインド53は、照明領域選択開口部54の位置を不図示の制御装置と駆動装置により移動させることにより、左斜め上側からの照射光による垂直面である第1微小結像面31bへの結像と、右斜め上側からの照射光による垂直面である第3微小結像面33bへの結像と、右斜め上側からの照射光による水平面である第2微小結像面32bへの結像を切り替えて露光することが可能である。
図8は、図7の第1〜第3微小物体面11b〜13b(マスク)と第1〜第3表面反射ミラー41b〜43bをそれぞれ一体化させた構成を示した第4実施形態の概要図である。部品の一体化は、実際の投影露光装置に本発明を適用する場合に、設計上からや、制御の容易化/効率化や部品点数を減少させるために考慮されるものである。
11 (主光線に垂直な)第1微少物体面、
11a (第1傾斜角θ1の)第1微少物体面、
11b、11c (第1傾斜角−θ1の)第1微少物体面、
12 (主光線に垂直な)第2微少物体面、
12a (第2傾斜角θ2の)第2微少物体面、
12b (第2傾斜角−θ1の)第2微少物体面、
12c (第2傾斜角θ2の)第2微少物体面、
13 (主光線に垂直な)第3微少物体面、
13a (第3傾斜角θ3の)第3微少物体面、
13b (第3傾斜角θ1の)第3微少物体面、
13c (第3傾斜角θ3の)第3微少物体面、
15 マスクホルダ、
16 第1長方形マスク、
17 第2長方形マスク、
18 第3長方形マスク、
19 第4長方形マスク、
20 投影レンズアセンブリ、
21 第1レンズ、
22 第2レンズ、
23 絞り、
30 結像面、
31 第1微少結像面、
31a (第1傾斜角θ1’の)第1微少結像面、
31b、31c (第1反射角θ1”の)第1微少結像面、
32 第2微少結像面、
32a (第2傾斜角θ2’の)第2微少結像面、
32b (第1反射角θ1”の)第2微少結像面、
32c (第2反射角θ2”の)第2微少結像面、
33 第3微少結像面、
33a (第3傾斜角θ3’の)第3微少結像面、
33b (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第3微少結像面、
33c (第3反射角θ3”のミラー(反射面)で反射した)第3微少結像面、
34b (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第4微少結像面、
36 (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第1結像面、
37 (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第2結像面、
38 (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第3結像面、
39 (第1反射角θ1”のミラー(反射面)で反射した)第4結像面、
41b、41c (第1反射角θ1”の)第1ミラー、
42b (第1反射角−θ1”の)第2ミラー、
42c (第2反射角θ2”の)第2ミラー、
43b (第1反射角−θ1”の)第3ミラー、
43c (第3反射角θ3”の)第3ミラー、
45 4面反射ミラー、
46b (4面反射ミラーの)第1反射面、
47b (4面反射ミラーの)第2反射面、
48b (4面反射ミラーの)第3反射面、
49b (4面反射ミラーの)第4反射面、
51 二次発光面、
52 コンデンサーレンズ、
53 照明ブラインド、
54 照明領域選択開口部、
60 (主光線に垂直な)照明面、
61 (主光線に垂直な)第1微少照明面、
62 (主光線に垂直な)第2微少照明面、
63 (主光線に垂直な)第3微少照明面、
71、71a、71b、71c、 第1立体ワーク、
72、72a、72b、72c、 第2立体ワーク、
73、73a、73b、73c、 第3立体ワーク、
74、74a、74b、74c、 第4立体ワーク、
75、75a、75b、75c、 第5立体ワーク、
76、76a、76b、76c、 第6立体ワーク、
77、77a、77b、77c、 第7立体ワーク、
78、78a、78b、78c、 第8立体ワーク、
80 XYZ回転ステージ、
90 アライアントカメラ、
100 (二次発光面から出射される照明光の)主光線、
110 (点A1から出射される照明光の)第1主光線、
120 (点A2から出射される照明光の)第2主光線、
130 (点A3から出射される照明光の)第3主光線、
200 照明光、
210 (点A1から出射される)第1照明光、
220 (点A2から出射される)第2照明光、
230 (点A3から出射される)第3照明光、
310 (第1微少物体面を通過する)第1テレセントリック光、
320 (第2微少物体面を通過する)第2テレセントリック光、
330 (第3微少物体面を通過する)第3テレセントリック光、
A1 物体面(照明面)上の(直径の一端近傍の)第1の点、
A2 物体面(照明面)上の(中心の)第2の点、
A3 物体面(照明面)上の(直径の他端近傍の)第3の点、
A1’ 結像面30上の(直径の一端近傍の)第1の点、
A2’ 結像面30上の(中心の)第2の点、
A3’ 結像面30上の(直径の他端近傍の)第3の点、
D1 (絞りの)開口直径の一端、
D2 (絞りの)開口中心、
D2 (絞りの)開口直径の他端、
θ1 (第1微少物体面の)第1傾斜角、
θ2 (第2微少物体面の)第2傾斜角、
θ3 (第3微少物体面の)第3傾斜角、
θ1’ (第1微少結像面の)第1傾斜角、
θ2’ (第2微少結像面の)第2傾斜角、
θ3’ (第3微少結像面の)第3傾斜角、
θ1” (第1ミラーの)第1反射角(=|(θ1)|/2)
θ2” (第2ミラーの)第2反射角(=|(θ2)|/2)
θ3” (第3ミラーの)第3反射角(=|(θ3)|/2)
Claims (6)
- 照明光の主光線に対して任意角度の表面を有する立体ワークの表面を露光可能な投影露光装置であって、
前記主光線に対して直角未満の第1の傾斜角度に配置される露光用マスクパターンと、
前記露光用マスクパターンを通過した照明光を、前記第1の傾斜角度よりも前記主光線に対して絶対値が小さい第2の傾斜角度で前記立体ワーク上の結像面に向けて反射させる反射面を有するミラーと、
を少なくとも有する投影露光装置。 - 前記第1の傾斜角度と前記第2の傾斜角度が、
前記露光用マスクパターン上の任意の点から前記結像面上の前記点に対応する点までの異なる経路を通過する各光路長が等しくなるように設定される
請求項1に記載の投影露光装置。 - 前記ミラーが、前記反射面を回動可能である
請求項1又は2に記載の投影露光装置。 - 前記ミラーが、複数の前記反射面を有し、
前記露光用マスクパターンは、前記各反射面に対応するマスク面を有する
請求項1〜3の何れか1項に記載の投影露光装置。 - 前記複数の反射面への照射光を部分遮光して前記照射光を選択可能な照明ブラインドを有する
請求項4に記載の投影露光装置。 - 前記ミラーの各反射面が、異なる方向に複数の表面を有する前記立体ワークの各表面に向けて、対応する照明光を反射可能に向けられる
請求項5に記載の投影露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015087540A JP6496600B2 (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015087540A JP6496600B2 (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016206398A JP2016206398A (ja) | 2016-12-08 |
JP6496600B2 true JP6496600B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=57487744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015087540A Active JP6496600B2 (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6496600B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5822042A (en) * | 1992-11-12 | 1998-10-13 | International Business Machines Corporation | Three dimensional imaging system |
US5461455A (en) * | 1993-08-23 | 1995-10-24 | International Business Machines Corporation | Optical system for the projection of patterned light onto the surfaces of three dimensional objects |
IL106892A0 (en) * | 1993-09-02 | 1993-12-28 | Pierre Badehi | Methods and apparatus for producing integrated circuit devices |
JP4791630B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2011-10-12 | ウシオライティング株式会社 | 露光装置 |
JP2007078856A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujitsu Ltd | パターン露光方法および露光マスク |
JP2008026384A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Alps Electric Co Ltd | フォトマスク及びこれを用いた感光体の露光方法 |
JP2010212386A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Nikon Corp | 周辺露光方法、周辺露光装置並びにデバイス製造方法。 |
JP2014066818A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Mejiro Precision:Kk | 露光装置、露光方法及びマイクロデバイス |
JP6529812B2 (ja) * | 2015-04-22 | 2019-06-12 | 株式会社サーマプレシジョン | 露光装置 |
-
2015
- 2015-04-22 JP JP2015087540A patent/JP6496600B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016206398A (ja) | 2016-12-08 |
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