JP2009147333A - パルス修正器、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
パルス修正器は、放射の入力パルスを受け取るように構成され、さらに放射の複数の対応する出力パルス部分を放出するように構成され、各パルス部分はそれぞれ、光軸を横断する軸に関して鏡映され、パルス部分の光軸のポイントに関して鏡映される。
【選択図】図3
Description
・放射ビームB(たとえばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成され、さらに放射源SOからの放射をビームデリバリシステムBDを介して受け取るように構成されたイルミネータILであって、放射源SOとイルミネータILとの間のあるポイントで、放射が、リソグラフィ装置で使用する放射を調整するパルス修正器PUを通過するイルミネータILと、
・パターニングデバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構成され、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造体(たとえばマスクテーブル)MTと、
・基板(たとえばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェーハテーブル)WTと、
・パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(たとえば1つまたは複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折式投影レンズシステム)PSと
を含む。
Claims (16)
- 放射の入力パルスを受け取るように構成され、さらに放射の1つまたは複数の対応する出力パルスを放出するように構成されたパルス修正器であって、
前記入力パルスを複数のパルス部分に分割するように構成されたビームディバイダと、
前記それぞれのパルス部分を受け取って遅延させるための複数の遅延経路と、
前記遅延されたパルス部分を前記1つまたは複数の出力パルスに組み合わせるように構成されたビームコンバイナと
を含み、
少なくとも1つの遅延経路が、前記パルス部分の光軸を横断する第1の軸に関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映するように配置され、少なくとも1つのさらなる遅延経路が、前記パルス部分の前記光軸のポイントに関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映するように配置されるパルス修正器。 - 第1の光軸に沿った前記放射の入力パルスを受け取るように構成され、さらに第2の光軸に沿った前記放射の1つまたは複数の対応する出力パルスを放出するように構成され、
前記ビームディバイダが、前記第1の光軸に沿って配設された第1のビームスプリッタを含み、前記ビームコンバイナが、前記第2の光軸に沿って配設された第2のビームスプリッタを含み、
第1の遅延経路が、前記第1のビームスプリッタで始まり、前記第2のビームスプリッタで終了するように構成され、
第2の遅延経路が、前記第2のビームスプリッタで始まり、前記第1のビームスプリッタで終了するように構成され、
前記第1のビームスプリッタが、前記入力パルスを第1および第2のパルス部分に分割するように構成され、
前記第1のビームスプリッタが、前記第2の光軸に沿って前記第1のパルス部分を、および前記第1の遅延経路に沿って前記第2のパルス部分を誘導するように構成され、
前記第2のビームスプリッタが、前記第1のパルス部分を第3および第4のパルス部分に分割し、前記第2のパルス部分を第5および第6のパルス部分に分割するように構成され、
前記第2のビームスプリッタが、前記第2の光軸に沿って前記第3および第5のパルス部分を、ならびに前記第2の遅延経路に沿って前記第4および第6のパルス部分を誘導するように構成され、
前記第1のビームスプリッタが、前記第4および第6のパルス部分からのパルスを第7および第8のパルス部分に分割するように構成され、
前記第1のビームスプリッタが、前記第2の光軸に沿って前記第7のパルス部分を誘導し、前記第1の遅延経路に沿って前記第8のパルス部分を誘導するように構成され、
前記第1または前記第2の遅延経路が、前記パルス部分の前記光軸を横断する第1の軸に関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映するように配置され、
少なくとも1つの第2の遅延経路が、前記パルス部分の前記光軸のポイントに関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映するように配置される、請求項1に記載のパルス修正器。 - 前記第1の光軸が前記第2の光軸と一致する、請求項2に記載のパルス修正器。
- 前記第1または前記第2の遅延経路が第1および第2のミラーを含み、前記第1または前記第2の遅延経路のもう一方が第3ミラーを含む、請求項2または3に記載のパルス修正器。
- 前記第1および第2のミラーが凹面ミラーであり、前記第3のミラーが平面ミラーである、請求項4に記載のパルス修正器。
- 前記第1および第2のミラーが、第1の方向に第1の曲率半径を、および第2の方向に第2の曲率半径を有する、請求項5に記載のパルス修正器。
- 前記第1の曲率半径が前記第2の曲率半径に等しい、請求項6に記載のパルス修正器。
- 前記第1の遅延経路が第1および第2のミラーを含み、前記第2の遅延経路が第3および第4のミラーを含む、請求項2または3に記載のパルス修正器。
- 前記第1および第2のミラー、または前記第3および第4のミラーが円筒ミラーである、請求項8に記載のパルス修正器。
- 放射の波長が、365nm、355nm、248nm、193nm、157nm、126nm、および5〜20nmの範囲内のうちの1つから選択される、請求項1から9のいずれかに記載のパルス修正器。
- 前記放射の波長が193nmであり、前記第1および第2のビームスプリッタがCaF2で実質的に製作される、請求項10に記載のパルス修正器。
- 前記パルス部分の前記光軸のポイントに関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映するように配置された前記少なくとも1つのさらなる遅延経路が、前記パルス部分を前記ポイントに関して180°回転させるように配置される、請求項1から11のいずれかに記載のパルス修正器。
- 請求項1から12のいずれかに記載のパルス修正器を含むリソグラフィ装置。
- 前記パルス修正器が、前記リソグラフィ装置のイルミネーションシステムまたはビームデリバリシステムに配置される、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 放射の入力パルスを修正する方法であって、
放射の入力パルスを受け取ることと、
前記入力パルスを複数のパルス部分に分割することと、
前記複数のパルス部分を遅延させることと、
前記遅延されたパルス部分を放射の1つまたは複数の出力パルスに組み合わせることと、
遅延経路を使用して、前記パルス部分の光軸を横断する第1の軸に関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映することと、
さらなる遅延経路を使用して、前記パルス部分の前記光軸のポイントに関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映することと
を含む方法。 - 前記パルス部分の前記光軸のポイントに関して前記パルス部分の断面の一部を鏡映することが、前記パルス部分を前記ポイントに関して180°回転させることを含む、請求項15に記載の方法。
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