JP4851422B2 - リソグラフィ装置及び露光方法 - Google Patents
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Description
パターニングデバイスを選択的に第一または第二照明モードで照明するように、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化されたビームを形成するパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影し、複数の光学部品を備え、瞳面を有し、光学部品の少なくとも1つが瞳面に、またはその付近に配置される投影システムと、
照明システム、支持構造および基板テーブルを制御して、パターニングデバイス上のパターンおよび基板テーブル上の基板が放射ビームの路にある場合は、第一照明モードを選択して、生産露光を実行し、基板が放射ビームの路にない間は、第二照明モードを選択して、補正照射プロセスを実行する制御システムと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
装置の使用中に、パターニングデバイスにおける放射の角度分布は、パターン化されたビームの強度が、第一照明モードでは少なくとも1つの光学部品の断面区域の第一部分内に、第二照明モードでは少なくとも1つの光学部品の断面区域の第二部分内に実質的に閉じ込められるような分布であり、第一および第二部分が実質的に重ならないリソグラフィ装置が提供される。
瞳面を有し、複数の光学部品を備え、光学部品の少なくとも1つが瞳面に、またはその付近に配置された投影システムを使用して、波長を有する放射のパターン化されたビームを基板に投影し、
実質的にパターン化されたビームと同じ波長を有する放射の補正ビームで、投影システムを照射することを含み、
パターン化されたビームの強度が、少なくとも1つの光学部品の断面区域の第一部分内に実質的に閉じ込められ、補正ビームの強度が、少なくとも1つの光学部品の断面区域の第二部分内に実質的に閉じ込められ、第一および第二部分が実質的に重ならないデバイス製造方法が提供される。
投影システムを使用して、波長を有する放射のパターン化されたビームを基板に投影し、
パターン化されたビームと実質的に同じ波長を有する放射の補正ビームで、投影システムを照射することを含み、
パターン化されたビームの強度が、少なくとも1つの光学部品の断面区域の第一部分内に実質的に閉じ込められ、補正ビームの強度が、少なくとも1つの光学部品の断面区域の第二部分内に実質的に閉じ込められ、第一および第二部分が実質的に重ならないコンピュータプログラム製品が提供される。
Claims (15)
- 第一回折光学部品及び第二回折光学部品を備え、選択的に第一又は第二照明モードで照明するように、放射ビームを調整する照明システムと、
前記第一回折光学部品及び前記第二回折光学部品のそれぞれを前記放射ビームの経路に挿入する挿入機構と、
生産露光時に前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化されたビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投影する、複数の光学部品を備える投影システムであって、瞳面を有し、前記複数の光学部品の少なくとも1つが前記瞳面又はその付近に配置される投影システムと、
前記照明システム、前記支持構造及び前記基板テーブルを制御して、前記パターニングデバイス上のパターン及び前記基板テーブル上の基板が前記放射ビームの経路にある場合は、前記第一照明モードを選択して前記生産露光を実行し、前記基板が前記放射ビームの経路にない間は、前記第二照明モードを選択して補正照射プロセスを実行する制御システムと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記生産露光時に、前記パターン化されたビームの強度が、前記第一照明モードにより前記少なくとも1つの光学部品の断面区域の第一部分内に実質的に閉じこめられ、
前記補正照射プロセス時に、前記放射ビームの強度が、前記第二照明モードにより前記少なくとも1つの光学部品の断面区域の第二部分内に実質的に閉じ込められ、
前記第一及び第二部分が実質的に重ならず、
前記第一照明モードは、前記第二回折光学部品を前記放射ビームの経路に挿入することなく、前記放射ビームの経路に挿入された前記第一回折光学部品によって形成され、
前記第二照明モードは、前記放射ビームの経路に挿入された前記第一回折光学部品、及び前記放射ビームの経路に挿入された前記第二回折光学部品によるたたみ込みにより形成される、
リソグラフィ装置。 - 前記第一回折光学部品を複数備え、
前記複数の第一回折光学部品のそれぞれが異なる第一照明モードを実行するように構成され、
前記複数の第一回折光学部品のうちの1つを前記放射ビームの経路内に選択的に挿入するように構成された交換機構を更に備え、
前記第二回折部品が、前記第一回折光学部品のいずれか1つとの組合せで前記第二照明モードを実行するように構成される、
請求項1に記載の装置。 - 前記制御システムがさらに、
前記第一照明モードが選択された場合に、第一出力レベルで前記放射ビームを放射するために前記放射ビームの放射源を制御するように構成され、
前記第二照明モードが選択された場合に、第二出力レベルで前記放射ビームを放射するために前記放射ビームの放射源を制御するように構成され、
前記第二出力レベルが前記第一出力レベルより高い、
請求項1又は2に記載の装置。 - 前記第二部分は、前記補正照射プロセスが、前記少なくとも1つの光学部品の前記生産露光中の不均一な加熱によって引き起こされた収差を減少させるのに効果的であるように設定される、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第一照明モードが双極放射分布を含み、前記第二照明モードが、前記第一照明モードの前記極の位置に隣接して極を有する四極放射分布を含む、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記双極分布の前記極が、環の弓形であり、前記四極分布の前記極が、同じ前記環の弓形である、請求項5に記載の装置。
- 前記第一と第二照明モードの組合せが、前記投影システム内に、前記投影され、パターン化されたビームに許容不能な収差を引き起こさない温熱作用を生じるものである、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記投影システムがさらに、前記投影され、パターン化されたビームの収差を補正するように構成された調節可能な光学部品を備え、前記第一と第二照明モードの前記組合せが、前記投影システム内に、前記調節可能な光学部品によって補正可能な収差を引き起こす温熱作用を生じるものである、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の装置。
- 露光方法であって、
放射ビームを照射すること、
第一回折光学部品に前記放射ビームを透過させ、第一照明モードを形成すること、
前記第一照明モードの放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化されたビームを形成すること、及び
瞳面を有し、複数の光学部品を備える投影システムであって、前記複数の光学部品の少なくとも1つが前記瞳面又はその付近に配置された投影システムを使用して、前記パターン化されたビームを基板に投影すること、
を含む生産露光と、
前記放射ビームを照射すること、
第二回折光学部品及び前記第一回折光学部品に前記放射ビームを透過させ、第二照明モードを形成すること、
前記第二照明モードの放射ビームで、前記投影システムを照射すること、
を含む補正照射プロセスと、
を含む露光方法であって、
前記生産露光時に、前記パターン化されたビームの強度が、前記第一照明モードにより前記少なくとも1つの光学部品の断面区域の第一部分内に実質的に閉じ込められ、
前記補正照射プロセス時に、前記放射ビームの強度が、前記第二照明モードにより前記少なくとも1つの光学部品の断面区域の第二部分内に実質的に閉じ込められ、
前記第一及び第二部分が実質的に重ならず、
前記第一照明モードは、前記第二回折光学部品を前記放射ビームの経路に挿入することなく、前記放射ビームの経路に挿入された前記第一回折光学部品によって形成され、
前記第二照明モードは、前記放射ビームの経路に挿入された前記第一回折光学部品、及び前記放射ビームの経路に挿入された前記第二回折光学部品によるたたみ込みにより形成される、
露光方法。 - 前記生産露光において、前記パターン化されたビームが、第一出力レベルを有し、
前記補正照射プロセスにおいて、前記放射ビームが第二出力レベルを有し、
前記第二出力レベルが前記第一出力レベルより高い、請求項9に記載の方法。 - 前記第二部分は、前記補正照射プロセスが、前記パターン化されたビームを投影中に前記少なくとも1つの光学部品の不均一な加熱によって引き起こされた収差を減少させるのに効果的であるように設定される、請求項9又は10に記載の方法。
- 前記生産露光時に、それぞれが異なる第一照明モードを実行するように構成された複数の第一回折光学部品の1つを、前記第一回折光学部品として前記放射ビームの経路に選択的に挿入するように構成された交換機構を使用することを含み、
前記第二回折部品が、前記第一回折光学部品の任意の1つとの組合せで前記第二照明モードを実行するように構成される、
請求項9乃至11のいずれか1項に記載の方法。 - 前記第一照明モードが双極放射分布を含み、前記第二照明モードが、前記第一照明モードの前記極の位置に隣接して極を有する四極放射分布を含む、請求項9乃至12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記双極分布の前記極が、環の弓形であり、前記四極分布の前記極が、同じ前記環の弓形である、請求項13に記載の方法。
- 前記第一と第二照明モードの組合せが、前記投影システム内に、前記投影され、パターン化されたビームに許容不能な収差を引き起こさない温熱作用を生じるものである、請求項9乃至14のいずれか1項に記載の方法。
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