JP6495484B2 - リソグラフィ装置及び基板をロードするための方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2015年6月11日に出願した欧州特許出願第15171545.5号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってテーブル(例えば、基板W)の表面を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されたサポートテーブル(例えば、1つ以上のセンサを支持するためのセンサテーブル)又はサポートテーブルWTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されるパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (17)
- リソグラフィ装置であって、
基板を支持するように構成されたサポートテーブルと、
ガス抽出システムとを備え、
前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記ガス抽出システムに接続された少なくとも1つのガス抽出開口とを備え、
前記ガス抽出システムは、前記基板が前記サポートテーブル上へと下降しているときに、各ガス抽出開口を通って前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出するように構成され、
前記リソグラフィ装置は、前記基板と前記サポート平面との間の距離が閾値距離より大きいとき、ガスを前記ギャップから第1ローディング流量で抽出し、かつ前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、ガスを前記ギャップから第2ローディング流量で抽出するように構成され、前記第2ローディング流量は前記第1ローディング流量より小さく、前記閾値距離は、前記基板と前記サポートテーブルとの間の前記ギャップからのガスの流量が減少する距離である、リソグラフィ装置。 - 前記サポートテーブルは、前記ベース面より上に突出する少なくとも1つの突出体を含み、各突出体は個々の突出遠位端を有し、前記個々の突出遠位端は、前記サポート平面からロード基板距離だけ間隔を空けて配置され、
各突出遠位端には、前記少なくとも1つのガス抽出開口のガス抽出開口が設けられ、前記ガス抽出開口は、ガス抽出開口直径を有し、前記ロード基板距離は前記ガス抽出開口直径の半分より小さい、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記閾値距離は、前記突出体が前記流量に対する制限要因となる距離に相当する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記閾値距離は、0.5mm以下である、請求項1〜3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
基板を支持するように構成されたサポートテーブルと、
ガス抽出システムとを備え、
前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記ベース面より上に突出する少なくとも1つの突出体であって、各突出体は、個々の突出遠位端を有し、前記個々の突出遠位端は、前記サポート平面からロード基板距離だけ間隔を空けて配置される、少なくとも1つの突出体とを備え、
各突出遠位端には、前記ガス抽出システムに接続されたガス抽出開口が設けられ、各ガス抽出開口は、ガス抽出開口直径を有し、前記ロード基板距離は前記ガス抽出開口直径の半分より小さく、
前記ガス抽出システムは、前記基板が前記サポートテーブル上へと下降しているときに、各ガス抽出開口を通って前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出するように構成される、リソグラフィ装置。 - 前記ロード基板距離は、前記ガス抽出開口直径の1/4より小さい、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス抽出システムは、
前記ガス抽出開口と流体連通しているバッファ容積であって、前記サポートテーブルは、前記ガス抽出開口を通って前記ベース面と前記基板との間のギャップからバッファ容積内へと抽出される前記のガスの流量が、前記基板が前記サポートテーブル上に着地したときに減少するようにサイズ調整及び配置される、バッファ容積と、
前記バッファ容積と流体連通し、かつ前記基板が前記サポートテーブル上に着地する前及び後に実質的に一定の速度でガスを前記バッファ容積から抽出するように構成された負圧源とを備える、請求項1〜6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記負圧源は、閉塞流を介して前記バッファ容積からガスを抽出するように構成される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス抽出システムは、前記基板が前記サポートテーブル上に着地したときに前記バッファ容積内への前記ガスの流量が最初に減少した後に、前記バッファ容積内への前記ガスの流量が定常値に戻るまで少なくとも20msかかるように構成される、請求項7又は8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つのガス抽出開口は、前記少なくとも1つのガス抽出開口の第1群及び前記少なくとも1つのガス抽出開口の第2群を含み、前記ガス抽出システムは、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいときに前記第1群を通って前記ギャップからガスを抽出することを止めるように構成される、請求項1〜9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
基板を支持するように構成されたサポートテーブルと、
ガス抽出システムとを備え、
前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記ガス抽出システムに接続された少なくとも1つのガス抽出開口の第1群と、
前記ガス抽出システムに接続された少なくとも1つのガス抽出開口の第2群とを備え、
前記ガス抽出システムは、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が閾値距離より大きいとき、前記第1群及び前記第2群を通って前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出し、それによって、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が閾値距離より大きいとき、第1ローディング流量で前記ギャップからガスを抽出するように構成され、
前記ガス抽出システムは、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、前記第1群を通って前記ギャップからガスを抽出するのを止め、それによって、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、第2ローディング流量で前記ギャップからガスを抽出するように構成され、前記第2ローディング流量は前記第1ローディング流量より小さい、リソグラフィ装置。 - 前記ガス抽出システムは、第1開口流量で前記第1群を通って前記ギャップからガスを抽出し、かつ第2開口流量で前記第2群を通って前記ギャップからガスを抽出するように構成され、前記第1開口流量は前記第2開口流量より大きい、請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記サポートテーブルには少なくとも1つのガス供給開口が設けられ、
ガス供給システムは、前記基板が前記サポートテーブルから離れるように持ち上げられているとき、前記少なくとも1つのガス供給開口を通って前記ギャップにガスを供給するように構成され、
各ガス供給開口は、各ガス抽出開口とは別である、請求項1〜12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 基板をリソグラフィ装置のためのサポートテーブル上にロードするための方法であって、前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記基板が前記サポートテーブル上へと下降しているときに、前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出するように構成された少なくとも1つのガス抽出開口とを備え、
前記方法は、
前記基板を前記サポートテーブルに向かって下降させることと、
前記基板と前記サポート平面との間の距離が閾値距離より大きいとき、ガスを前記ギャップから第1ローディング流量で抽出することと、
前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、ガスを前記ギャップから第2ローディング流量で抽出することであって、前記第2ローディング流量は前記第1ローディング流量より小さいこととを含み、前記閾値距離は、前記基板と前記サポートテーブルとの間の前記ギャップからのガスの流量が減少する距離である、方法。 - 基板をリソグラフィ装置のためのサポートテーブル上にロードするための方法であって、前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記ベース面より上に突出する少なくとも1つの突出体であって、各突出体は、個々の突出遠位端を有し、前記個々の突出遠位端は、前記サポート平面からロード基板距離だけ間隔を空けて配置される、少なくとも1つの突出体とを備え、
各突出遠位端には、前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出するように構成されたガス抽出開口が設けられ、各ガス抽出開口は、ガス抽出開口直径を有し、前記ロード基板距離は前記ガス抽出開口直径の半分より小さく、
前記方法は、
前記基板を前記サポートテーブルに向かって下降させることと、
前記基板が前記サポートテーブル上へと下降しているときに、各ガス抽出開口を通って前記ギャップからガスを抽出することとを含む、方法。 - 前記ガス抽出開口を通って前記ベース面と前記基板との間の前記ギャップからバッファ容積内へと抽出されるガスの流量は、前記基板が前記サポートテーブル上に着地したときに減少し、
前記基板が前記サポートテーブル上に着地する前及び後に実質的に一定の速度でガスを前記バッファ容積から抽出する、請求項14又は15に記載の方法。 - 基板をリソグラフィ装置のためのサポートテーブル上にロードするための方法であって、前記サポートテーブルは、
ベース面と、
前記ベース面より上に突出する複数のバールであって、前記複数のバールの各々は、個々のバール遠位端を有し、前記バール遠位端は、前記基板を支持するためにサポート平面において配置される、複数のバールと、
前記ガス抽出システムに接続された少なくとも1つのガス抽出開口の第1群と、
前記ガス抽出システムに接続された少なくとも1つのガス抽出開口の第2群とを備え、
前記方法は、
前記基板を前記サポートテーブルに向かって下降させることと、
前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が閾値距離より大きいとき、前記第1群及び前記第2群を通って前記ベース面と前記基板との間のギャップからガスを抽出し、それによって、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が閾値距離より大きいとき、第1ローディング流量で前記ギャップからガスを抽出することと、
前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、前記第1群を通って前記ギャップからガスを抽出するのを止め、それによって、前記基板と前記サポート平面との間の前記距離が前記閾値距離より小さいとき、第2ローディング流量で前記ギャップからガスを抽出することであって、前記第2ローディング流量は前記第1ローディング流量より小さいこととを含む、方法。
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