JP6488944B2 - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
無機フィラーとしては、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タルク、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、溶融シリカ、ガラス粉、石英粉、シラスバルーン等が挙げられる。これら無機フィラーは単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して使用してもよい。
このような接着層としては、例えば、エポキシ樹脂として、ビフェニル構造を有するノボラック型エポキシ樹脂100質量部に対して、トリアジン環含有クレゾールノボラック型フェノール樹脂(窒素含有量18%、水酸基当量151)のような硬化剤60〜80質量部、可塑剤あるいは応力緩和剤として、カルボン酸変性アクリロニトリルブタジエンゴム粒子5〜15質量部、硬化促進剤として、1、8−ジアザビシクロウンデセンのような、塩基性化合物0.01〜5質量部、溶剤としてメチルエチルケトン等を使用して形成された層があげられる。
これらの基材は、例えば織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有するが、材質及び形状は、目的とする成形物の用途、あるいは性能により選択され必要により単独または2種類以上の材質及び形状からの使用が可能である。基材の厚みには特に制限はないが、通常0.01〜0.5mm程度のものを使用し、シランカップリング剤等で表面処理したもの、機械的に開繊処理を施したものは耐熱性、耐湿性、加工性の面から好適である。
支持体銅箔付き極薄の銅箔(支持体銅箔厚さ18μm、銅箔厚さ3μm、三井金属鉱業社製、商品名、MT18Ex−3)の銅箔接着面に、下記表1で示す樹脂組成物Aを塗布し接着層付きの極薄銅箔を作製した。塗布後は残溶剤が5%以下になるように170℃で10分程度の乾燥し接着層付きの極薄銅箔を得た。塗布した樹脂組成物Aの厚みは3.0μmであった。
[表1]
・ビフェニル構造を有するノボラック型エポキシ樹脂
NC−3000−H(商品名、日本化薬株式会社製) 100質量部
・カルボン酸変性アクリロニトリルブタジエンゴム粒子
XER−91SE−15(商品名、JSR株式会社製) 10質量部
・トリアジン環含有クレゾールノボラック型フェノール樹脂
フェノライトLA−3018−50
(商品名、窒素含有量18%、水酸基当量151、DIC株式会社製) 70質量部
・イミダゾール誘導体化合物
1−シアノエチル−2フェニルイミダゾリウムトリメリテート
2PZ−CNS(商品名、四国化成工業株式会社製) 1質量部
・溶剤、メチルエチルケトン
実施例1において用いた接着層付き極薄銅箔として、厚み3μmの銅箔に代えて、厚さが9μmの銅箔(三井金属鉱業株式会社製、3EC−VLP、商品名)を用いた以外は実施例1と全く同様に、接着層付き極薄銅箔を得た。次に、このようにして得られた接着層付き極薄銅箔を、実施例1と同じように、厚さ0.5mmの高Tg基材(日立化成株式会社製、商品名、MCL−679FG)の両面に内層回路を形成し黒化処理を施した、回路厚さが両面ともに35μmの内層回路付基板の両面に前記接着層付き極薄銅箔を接着樹脂面が内層側になるように積み重ね、実施例1と全く同じ操作手順により、内層回路付4層板を得た。
実施例1において、内層回路付4層板の内層回路の銅箔の厚みを9μmの厚さの銅箔(三井金属鉱業株式会社製、3EC−VLP、商品名)を用いたこと以外は、実施例1と同様に、内層回路付4層板を作製した。
実施例1において、接着層付きの極薄銅箔の有機接着層を15μmの厚さにした極薄銅箔を用いて、内層回路付4層板を成形したこと以外は、実施例1と同様に、内層回路付4層板を作製した。
実施例1において、レーザ照射により穴開き4層板を作製した後、この表面の外層銅箔上に従来公知の方法により、フォトレジストRY−5319(商品名、日立化成株式会社製)をラミネートして、フォトレジスト面に露光機により、所定の回路を形成したマスクを用いて露光部と非露光部を形成した。露光後、Na2CO3 1%溶液により現像してレジストパターンを形成した。
また、外層回路形成に際し、極薄銅箔と有機絶縁樹脂との間に、めっき銅との高い接着性を有する接着層を配すことにより、下地となるめっき層を極めて薄くすることができ、微細配線の形成が可能となることもわかる。
2:有機接着層
3:有機絶縁樹脂層
4:内層回路
5:内層樹脂層
6:ブラインドビアホール
7:外層銅層
8:回路層
9:レジストパターン
10:パッド
11:外層回路
Claims (1)
- 内層回路付基板に、有機絶縁樹脂層を介して、銅箔の厚みが3μm以下で、かつ前記内層回路の銅箔厚みに対して1/6以下であって、厚さが10μm以下の有機接着層を有する極薄銅箔を、銅箔支持体と共に積層した後、該銅箔支持体を剥離して外層銅箔層を有する積層板(a)を形成し、次いで該銅箔支持体が剥離された外層銅箔層の表面から積層板(a)にレーザを照射して該外層銅箔層、接着層及び有機絶縁樹脂層を穴開けしてブラインドビアホールを有する穴開き積層板(b)を形成し、該穴開き積層板(b)の外層銅箔層をエッチング除去した後、該穴開き積層板(b)上に厚さ2μm以下の外層銅層を形成し、該外層銅層上に塗布されたレジストによりレジストパターンを形成した後、該形成されたレジストパターン間およびブラインドビアホールの該外層銅層表面に電気銅めっきでさらに回路層を形成し、次いでレジストパターンを除去して露出した該外層銅層をエッチングで除去して、内層回路と接続された外層回路を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
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