JP6485351B2 - イソブタノールからイソブチレンを製造する方法 - Google Patents
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Description
BET比表面積が、60m2/g以上、175m2/g以下の範囲内である触媒を用いて、
絶対圧として50kPa以上750kPa以下の反応圧力でイソブタノールを反応させるイソブチレンの製造方法である。
90質量%以上が粒子径700μm以上、10000μm以下の範囲内である触媒を用いて、
供給される反応ガス中のイソブタノール濃度が30体積%以上、85体積%以下であり、
イソブタノールの質量空間速度(WHSV)が0.175h−1以上、20h−1以下であり、
絶対圧として50kPa以上750kPa以下の反応圧力でイソブタノールを反応させるイソブチレンの製造方法である。
供給される反応ガス中のイソブタノールの質量空間速度(WHSV)が0.175h−1以上、20h−1以下であることが好ましい。
イソブチレンの選択率(%)=(γ/δ)×100
α=供給したイソブタノールのモル数
β=反応したイソブタノールのモル数
γ=生成したイソブチレンのモル数
δ=ガスクロマトグラフィーで検出された反応生成物(イソブチレン、イソブタン、1−ブテン、シス−2−ブテン及びトランス−2−ブテン)の合計のモル数。
e=イソブタノールの単位時間当たりの供給量(g/h)
f=使用した触媒量(g)。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:105m2/g)を16.0g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々40.1mL/時及び40mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、後述する実施例17と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は80.2体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは2.01h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:3000μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:105m2/g)を16.0g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々40.1mL/時及び40mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、後述する実施例17と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は80.2体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは2.01h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:4800μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:105m2/g)を16.0g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々40.1mL/時及び40mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、後述する実施例17と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は80.2体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは2.01h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒としてメノウ乳鉢で破砕した後850〜1190μmに粒子径を整えたγ−アルミナ相(γ相)とθ−アルミナ相(θ相)を含むアルミナ(比表面積:105m2/g)を0.909g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々15.8mL/時及び16mL(標準状態)/分に変更し、さらに反応ガス回収前に背圧弁を取り付けて反応圧力を調整したこと以外は、実施例18と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは13.92h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.912gに変更し反応圧力を絶対圧力として140kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は339℃であった。本条件下におけるWHSVは13.88h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として240kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は339℃であった。本条件下におけるWHSVは13.92h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として289kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは13.92h−1であった。
脱水触媒の量を0.912gに変更し反応圧力を絶対圧力として339kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は339℃であった。本条件下におけるWHSVは13.88h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として392kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは13.92h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として452kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は339℃であった。本条件下におけるWHSVは13.92h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として550kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは14.04h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として600kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは14.04h−1であった。
反応圧力を絶対圧力として692kPaに調整したこと以外は、実施例21と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は79.9体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは13.89h−1であった。
[実施例13]
内径1.6cm、長さ50cmの縦型管状反応管に触媒を充填した。触媒には、円柱形ペレット状(直径:3000μm)に成形された触媒の破砕体(θ−アルミナ、γ−アルミナの混相アルミナ、粒子径:710〜850μm、BET比表面積:69m2/g、以下、触媒Aと示す)を2.29g用いた。なお、触媒A中の前記混相アルミナの割合は99.5質量%以上であり、SiO2含有量は0.5質量%未満であった。また、触媒Aの90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。原料イソブタノール(ナカライテスク(株)製、純度99.5質量%)を、200℃に設定した気化器を介して前記触媒の充填された縦型管状反応管を備える反応器に供給した。希釈ガスとしての窒素ガスを当該気化器へ供給し、気化したイソブタノールと共に、反応器へ供給した。イソブタノールのWHSV(単位時間当たりの質量空間速度)を1.37h−1、反応器温度を344℃に保持し、反応器圧力は大気圧とした。このとき触媒層に供給した原料ガス中のイソブタノールの濃度は5.3体積%であり、反応温度は344℃であった。反応器出口より排出される反応ガスを液相部と気相部とに分離した。気相部を採取し、イソブチレン、イソブタン、1−ブテン、cis−2−ブテン及びtrans−2−ブテンの定量を行った。また、液相部を採取し、イソブタノールの定量を行った。
触媒として円柱形ペレット状(直径:3000μm)に成形された触媒の破砕体(θ−アルミナ、γ−アルミナの混相アルミナ、粒子径:710〜850μm、BET比表面積:105m2/g、以下、触媒Bと示す)を2.24g用い、イソブタノールのWHSVを1.40h−1に変更した以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、触媒B中の前記混相アルミナの割合は99.5質量%以上であり、SiO2含有量は0.5質量%未満であった。また、触媒Bの90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。
触媒として円柱形ペレット状(直径:1000μm)に成形された触媒の破砕体(δ−アルミナ、γ−アルミナの混相アルミナ、粒子径:710〜850μm、BET比表面積:162m2/g、以下、触媒Cと示す)を1.00g用い、イソブタノールのWHSVを3.14h−1に変更した以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、触媒C中の前記混相アルミナの割合は99.5質量%以上であり、SiO2含有量は0.5質量%未満であった。また、触媒Cの90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。
触媒として円柱形ペレット状(直径:3000μm)に成形された触媒の破砕体(θ−アルミナ、γ−アルミナの混相アルミナ、粒子径:710〜850μm、BET比表面積:44m2/g、以下、触媒Dと示す)を4.01g用い、イソブタノールのWHSVを0.78h−1に変更した以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、触媒D中の前記混相アルミナの割合は99.5質量%以上であり、SiO2含有量は0.5質量%未満であった。また、触媒Dの90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。
触媒として円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒の破砕体(γ−アルミナ、粒子径:710〜850μm、BET比表面積:189m2/g、以下、触媒Eと示す)を1.00g用い、イソブタノールのWHSVを3.14h−1に変更した以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、触媒E中のγ−アルミナの割合は99.5質量%以上であり、SiO2含有量は0.5質量%未満であった。また、触媒Eの90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:105m2/g)を20.0g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々23.4mL/時及び40mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は70.3体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは0.94h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:189m2/g)を12.7g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々40.9mL/時及び70mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は70.3体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは2.59h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナを結晶層の主成分とするアルミナ、BET比表面積:200m2/g)を15.0g用い、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々58.4mL/時及び101mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は70.3体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは3.13h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:105m2/g)を20.0g用い、かつイソブタノールの流量を23.9mL/時に変更したこと以外は、実施例13と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は100体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは0.96h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナ、θ−アルミナの混相アルミナ、BET比表面積:189m2/g)を16.1g用い、かつイソブタノールの流量を32.1mL/時に変更したこと以外は、実施例17と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は100体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは1.60h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
触媒には、円柱形ペレット状(直径:1600μm)に成形された触媒(γ−アルミナを結晶層の主成分とするアルミナ、BET比表面積:200m2/g)を15.1g用い、かつイソブタノールの流量を58.4mL/時に変更したこと以外は、実施例17と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は100体積%であり、反応中の触媒層温度は320℃であった。本条件下におけるWHSVは3.11h−1、反応圧力は絶対圧力として103kPaであった。
[実施例1]
脱水触媒として、メノウ乳鉢で破砕した後800〜2000μmに粒子径を整えたγ−アルミナ相(γ相)を結晶層の主成分とするアルミナ(BET比表面積:209m2/g)を0.753g用いた。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。固定床反応器については触媒層温度が所定温度になるように電気炉を用いて触媒層の温度を調節した。そして原料イソブタノール(和光純薬製、純度99.5質量%以上、比重0.803g/mL)を、マイクロフィーダーを用いて4.0mL/時の流量に調節し、200℃に設定した蒸発器に供給し蒸発させた。希釈ガスとしての窒素ガスを、マスフローメータを用いて流量37mL(標準状態)/分として当該蒸発器へ供給し、蒸発したイソブタノールと共に、反応器へ供給した。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は30.3体積%であり、反応中の触媒層温度(反応温度)は300℃であった。反応器出口側のガスを採取し、ガスクロマトグラフィーを用いてイソブチレン、イソブタン、1−ブテン、シス−2−ブテン及びトランス−2−ブテンの定量を行った。また反応器出口側から排出される反応ガスを、氷冷したアセトニトリルを用いてトラップし、ガスクロマトグラフィーを用いてイソブタノールの定量を行った。反応圧力計は蒸発器と反応器入口の間に設置されており、本願実施例条件下のあらゆる流量範囲において、蒸発器から反応器入口までの圧力損失は無視できる程度に小さかった。本条件下におけるWHSVは4.27h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.301gに変更し、かつ窒素ガスの流量を16mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は50.1体積%であり、反応中の触媒層温度は301℃であった。本条件下におけるWHSVは10.67h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
窒素ガスの流量を7mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例2と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は69.7体積%であり、反応中の触媒層温度は301℃であった。本条件下におけるWHSVは10.67h−1、反応圧力は絶対圧力として103kPaであった。
脱水触媒の量を2.00gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々8.0mL/時及び6mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は84.3体積%であり、反応中の触媒層温度は300℃であった。本条件下におけるWHSVは3.21h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々3.7mL/時及び280mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は5.05体積%であり、反応中の触媒層温度は301℃であった。本条件下におけるWHSVは2.97h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々2.2mL/時及び28mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は24.0体積%であり、反応中の触媒層温度は300℃であった。本条件下におけるWHSVは1.77h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々2.4mL/時及び26mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は27.1体積%であり、反応中の触媒層温度は300℃であった。本条件下におけるWHSVは1.93h−1、反応圧力は絶対圧力として103kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、イソブタノールの流量を3.5mL/時に変更し、かつ窒素ガスを供給しなかったこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は100体積%であり、反応中の触媒層温度は300℃であった。本条件下におけるWHSVは2.81h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.366gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々5.0mL/時及び16mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は55.7体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは10.97h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.603gに変更し、イソブタノール及び窒素ガスの流量を各々8.0mL/時及び11mL(標準状態)/分に変更し、かつ純水をマイクロフィーダーを用いて0.7mL/時の流量に調節して200℃に設定した蒸発器に供給したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度及び水濃度は各々55.8体積%及び25.2体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは10.65h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒の量を0.345gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々4.0mL/時及び9mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は64.1体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは9.31h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.608gに変更し、イソブタノール及び窒素ガスの流量を各々8.0mL/時及び3mL(標準状態)/分に変更し、かつ純水をマイクロフィーダーを用いて0.7mL/hの流量に調節して、200℃に設定した蒸発器に供給したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度及び水濃度は各々64.8体積%及び29.2体積%であり、反応中の触媒層温度は341℃であった。本条件下におけるWHSVは10.57h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒の量を0.601gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々8.0mL/時及び11mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は74.5体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは10.69h−1、反応圧力は絶対圧力として103kPaであった。
脱水触媒の量を0.576gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々8.0mL/時及び6mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は84.3体積%であり、反応中の触媒層温度は341℃であった。本条件下におけるWHSVは11.15h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、イソブタノールの流量を3.5mL/時に変更し、かつ窒素ガスを供給しなかったこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は21.3体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは2.81h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を0.543gに変更し、イソブタノール及び窒素ガスの流量を各々2.2mL/時及び23mL(標準状態)/分に変更し、かつ純水をマイクロフィーダーを用いて0.5mL/時の流量に調節して200℃に設定した蒸発器に供給したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度及び水濃度は21.0体積%及び24.6体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは3.25h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒の量を1.00gに変更し、イソブタノールの流量を3.5mL/時に変更し、かつ窒素ガスを供給しなかったこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は100体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは2.81h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒としてメノウ乳鉢で破砕した後850〜2000μmに粒子径を整えたγ−アルミナ相(γ相)とθ−アルミナ相(θ相)を含むアルミナ(BET比表面積:105m2/g)4.00gに変更し、かつイソブタノール及び窒素ガスの流量を各々1.0mL/時及び4mL(標準状態)/分に変更したこと以外は、実施例1と同様に反応を行った。なお、該触媒の90質量%以上は、粒子径が700μm以上、10000μm以下の範囲内であった。触媒層に供給したイソブタノール濃度は50.0体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは0.20h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
脱水触媒の量を4.50gに変更したこと以外は、実施例11と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は50.0体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは0.18h−1、反応圧力は絶対圧力として105kPaであった。
脱水触媒の量を5.00gに変更したこと以外は、実施例11と同様に反応を行った。このとき触媒層に供給したイソブタノール濃度は50.0体積%であり、反応中の触媒層温度は340℃であった。本条件下におけるWHSVは0.16h−1、反応圧力は絶対圧力として104kPaであった。
表1〜6に示すように、実施例1〜17においてはイソブタノールから高い選択率でイソブチレンを製造できた。一方、比較例1〜14ではイソブチレン選択率が実施例1〜17よりも劣っていた。また表7、8に示すように実施例18〜30においてはイソブタノールから高い収率でイソブチレンを製造できた。
Claims (4)
- イソブタノールの脱水反応によってイソブチレンを製造する方法であって、
BET比表面積が、60m2/g以上、175m2/g以下の範囲内であるSiO 2 含有量が1.0質量%未満のアルミナ触媒を用いて、
絶対圧として50kPa以上750kPa以下の反応圧力でイソブタノールを反応させるイソブチレンの製造方法。 - イソブタノールの脱水反応によりイソブチレンを製造する方法であって、
90質量%以上が粒子径700μm以上、10000μm以下の範囲内であるアルミナ触媒を用いて、
供給される反応ガスが窒素ガスを含み、該反応ガス中のイソブタノール濃度が30体積%以上、85体積%以下であり、
イソブタノールの質量空間速度(WHSV)が0.175h−1以上、20h−1以下であり、
絶対圧として50kPa以上750kPa以下の反応圧力でイソブタノールを反応させるイソブチレンの製造方法。 - 触媒の90質量%以上が粒子径700μm以上、10000μm以下の範囲内であり、
供給される反応ガス中のイソブタノールの質量空間速度(WHSV)が0.175h−1以上、20h−1以下である請求項1記載のイソブチレンの製造方法。 - イソブタノール濃度が55体積%以上、80体積%以下である請求項2記載のイソブチレンの製造方法。
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