JP6484194B2 - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents
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Description
上記絶縁体部は、一軸方向に直交する第1の接合面を有する第1の絶縁層と、上記第1の接合面に接合された第2の絶縁層とを有し、樹脂を含む材料で構成される。
上記内部導体部は、上記第1の絶縁層の内部に設けられた複数の第1のビア導体と、上記第2の絶縁層の内部に設けられた複数の第2のビア導体とを有する。上記複数の第1のビア導体各々は、上記第1の接合面に対して上記一軸方向にオフセットした位置に上記複数の第2のビア導体と接続される第1のコンタクト部をそれぞれ有する。
上記外部電極は、上記絶縁体部に設けられ、上記内部導体部と電気的に接続される。
これにより、多層構造の導体部の安定したコンタクトが実現される。
この場合、上記複数の第1及び第2のビア導体と上記複数の第1及び第2の連結導体とは、上記一軸方向に直交する軸のまわりに巻回されたコイル部を構成する。
これにより、コイル素子と容量素子とを兼ね備えた電子部品を構成することができる。
上記第1及び第2のコンタクト部は、典型的には、チタン又はクロムを含む金属材料で構成される。
上記絶縁体部は、樹脂及びセラミックス粒子を含む材料で構成されてもよい。
上記第1の絶縁層上に、複数の第1のビア導体が形成される。
上記第1の絶縁層上に、上記第1のビア導体を被覆する第2の絶縁層が形成される。
上記第2の絶縁層を研磨することで、上記第1のビア導体が上記第2の絶縁層の表面に露出される。
上記第2の絶縁層の表面に露出する上記第1のビア導体の表面がエッチングされる。
上記第2の絶縁層上に、上記複数の第1のビア導体と接続される複数の第2のビア導体が形成される。
上記第2の絶縁層上に、上記第2のビア導体を被覆する第3の絶縁層が形成される。
上記第3の絶縁層上に、上記第2のビア導体に電気的に接続される外部電極が形成される。
[基本構成]
図1は、本発明の一実施形態に係る電子部品の概略透視斜視図、図2はその概略透視側面図、図3はその概略透視上面図である。
なお、各図においてX軸、Y軸及びZ軸方向は相互に直交する3軸方向を示している。
なお、略円柱形状とは、軸直方向(軸心に垂直な方向)の断面形状が円形である柱体のほか、上記断面形状が楕円形または長円形である柱体をも含み、楕円形または長円形としては、例えば、長軸/短軸の比が3以下のものを意味する。
なお、略同一径とは、抵抗の増加を抑制するためのもので、同一方向で見た寸法のバラツキが例えば10%以内に収まっていることをいい、略同一高さとは、各層の積み上げ精度を確保するためのもので、高さのバラツキが例えば1μmの範囲に収まっていることをいう。
続いて、電子部品100の基本製造プロセスについて説明する。電子部品100は、ウェハレベルで複数個同時に作製され、作製後に素子毎に個片化(チップ化)される。
以上のようにして、電極層L2の上に電極層L3が作製される(図7D)。
ところで、上述のように絶縁体部及び内部導体部を層単位で順次積層する方法においては、絶縁層の硬化処理に伴う収縮応力が上層側の導体部と下層側の導体部との間の接合部に作用するため、導体部が大きなダメージを受けるおそれがある。
以下、本実施形態の電子部品100の構造の詳細について説明する。
一方、内部導体部20は、絶縁層LS1の内部に設けられた複数のビア導体VS1(第1のビア導体)と、絶縁層LS2の内部に設けられた複数のビア導体VS2(第2のビア導体)とを有する。
そして、複数のビア導体VS1各々は、接合面SA1に対してZ軸方向にオフセットした位置に、複数のビア導体VS2と接続されるコンタクト部CA1(第1のコンタクト部)をそれぞれ有する。
図13は、本発明の第2の実施形態に係る電子部品を示す概略側断面図である。なお理解を容易にするため、内部導体部に相当する領域を斜線で示している。
以下、第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、第1の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
図14は、本発明の第3の実施形態に係る電子部品を示す概略側断面図である。なお理解を容易にするため、内部導体部に相当する領域を斜線で示している。
以下、第2の実施形態と異なる構成について主に説明し、第2の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
20…内部導体部
20L,21L,22L…コイル部
21C,22C…容量素子部
21,211,212…柱状導体
22,221,222…連結導体
23,231,232…引出し部
24,241,242…櫛歯ブロック部
30,31,32,331,332,333…外部電極
100,200,300…電子部品
110,112〜115,LS1〜LS3…絶縁層
CA1,CA2…コンタクト部
L1…フィルム層
L2〜L5…電極層
SA1,SA2…接合面
V13,V14,V24,V25,VS1〜VS3…ビア導体
Claims (11)
- 一軸方向に直交する第1の接合面を有する第1の絶縁層と、前記第1の接合面に接合された第2の絶縁層とを有し、樹脂を含む材料で構成された絶縁体部と、
前記第1の絶縁層の内部に設けられた複数の第1のビア導体と、前記第2の絶縁層の内部に設けられた複数の第2のビア導体とを有し、前記複数の第1のビア導体各々は、前記第1の接合面に対して前記一軸方向にオフセットした位置に前記複数の第2のビア導体と接続される第1のコンタクト部をそれぞれ有する内部導体部と、
前記絶縁体部に設けられ、前記内部導体部と電気的に接続される外部電極と
を具備する電子部品。 - 請求項1に記載の電子部品であって、
前記絶縁体部は、前記第2の絶縁層に接合される第2の接合面を有する第3の絶縁層をさらに有し、
前記内部導体部は、前記第3の絶縁層の内部に設けられた複数の第3のビア導体をさらに有し、前記複数の第3のビア導体は、前記第2の接合面に対して前記一軸方向にオフセットした位置に前記複数の第2のビア導体と接続される第2のコンタクト部をそれぞれ有する
電子部品。 - 請求項2に記載の電子部品であって、
前記内部導体部は、
前記第1の絶縁層に設けられ、前記複数の第1のビア導体のうち所定の2つを相互に接続する複数の第1の連結導体と、
前記第3の絶縁層に設けられ、前記複数の第3のビア導体のうち所定の2つを相互に接続する複数の第2の連結導体と、をさらに有し、
前記複数の第1及び第2のビア導体と前記複数の第1及び第2の連結導体とは、前記一軸方向に直交する軸のまわりに巻回されたコイル部を構成する
電子部品。 - 請求項3に記載の電子部品であって、
前記コイル部の一端に接続された第1の内部電極層と、前記コイル部の他端に接続され前記第1の内部電極層と前記一軸方向に対向する第2の内部電極層とを有し、前記コイル部と前記外部電極との間に配置された容量素子部をさらに具備する
電子部品。 - 請求項1〜4のいずれか1つに記載の電子部品であって、
前記複数の第1及び第2のビア導体は、銅、銀又はニッケルを含む金属材料で構成される
電子部品。 - 請求項3または4に記載の電子部品であって、
前記複数の第1及び第2の連結導体は、銅、銀又はニッケルを含む金属材料で構成される
電子部品。 - 請求項1〜6のいずれか1つに記載の電子部品であって、
前記第1のコンタクト部は、チタン又はクロムを含む金属材料で構成される
電子部品。 - 請求項2〜4のいずれか1つに記載の電子部品であって、
前記第2のコンタクト部は、チタン又はクロムを含む金属材料で構成される
電子部品。 - 請求項1〜8のいずれか1つに記載の電子部品であって、
前記絶縁体部は、樹脂及びセラミックス粒子を含む
電子部品。 - 支持基板上に、第1の絶縁層を形成し、
前記第1の絶縁層上に、複数の第1のビア導体を形成し、
前記第1の絶縁層上に、前記第1のビア導体を被覆する第2の絶縁層を形成し、
前記第2の絶縁層を研磨することで、前記第1のビア導体を前記第2の絶縁層の表面に露出させ、
前記第2の絶縁層の表面に露出する前記第1のビア導体の表面をエッチングし、
前記第2の絶縁層上に、前記複数の第1のビア導体と接続される複数の第2のビア導体を形成し、
前記第2の絶縁層上に、前記第2のビア導体を被覆する第3の絶縁層を形成し、
前記第3の絶縁層上に、前記第2のビア導体に電気的に接続される外部電極を形成する
電子部品の製造方法。 - 請求項10に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2のビア導体を形成する工程は、
前記第2の絶縁層の表面に前記第1のビア導体の表面を被覆するシード層を形成し、
前記シード層の上に、前記第1のビア導体の表面に対応する領域が開口するレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンをマスクとする電気メッキ法により前記第2のビア導体を形成することを含む
電子部品の製造方法。
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