JP6478877B2 - 高精度サブマウント基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
基板に複数のサブマウントを形成するサブマウントの製造方法において、サブマウントの実装基準面となる側面に基板を貫通するスリットを形成するスリット形成工程と、少なくともサブマウントの表面およびサブマウントの実装基準面となる側面に金属膜を形成する金属膜形成工程と、機械加工によってスリットを横切って切断することで、サブマウントの他の側面を形成し、基板からサブマウントを個片化する個片化工程と、を有し、スリット形成工程では、ドライエッチング加工により、サブマウントの実装基準面となる側面に対応する細いスリットと、細いスリットを含めた枠状のスリットとを形成し、枠状の細いスリットにより形成される基板の島状部を抜き落とすことで幅広開口部分とし、サブマウントの実装基準面となる側面に対応するスリットを、幅広開口部分と幅広開口部分の両端に連通する幅狭開口部とで形成し、金属膜成形工程でサブマウントの実装基準面となる側面に形成される金属膜を、幅広開口部分に対応する領域に形成し、個片化工程では、サブマウントの実装基準面となる側面に対応するスリットの幅狭開口部分を横切って切断することを特徴とする。
図1は、本発明のサブマウントの外観を説明するための斜視図である。図1に示すように、サブマウント1は、その上面11と側面のエッチング面12の表面に金属膜111、121が成膜されている。金属膜111、121は、上面11とエッチング面12の表面に成膜され同一箇所であるので図において符号に括弧を付す。金属膜111、121は、例えば、下層よりTi/Pt/Auで形成され、Tiはシリコンとの密着層、PtはAuがシリコンへの拡散防止、AuはAuSnハンダとの接合性保持の役割である。上面11には、半導体レーザダイオードなどの光学機能部品を載置し、溶着するため、金属膜111に回路パターンと、そして、AuSnからなるパッド112が形成されている。エッチング面12は、サブマウント1の基準面として被実装部材(ベース部)へのハンダ溶着のため上面11の金属膜の成膜時に金属膜121が成膜されている。
図2(a)は、多数個のサブマウントが形成される基板に、スリットを形成するスリット形成工程を説明するための図で、基板の一部を模式的に示す斜視図である。図2(b)は、図2(a)に示すスリットのA部の部分拡大平面図である。図3(a)は、図2(a)のスリット形成工程の続きであって、スリットの幅広開口部分と幅狭開口部分を形成するスリット形成工程を説明するための斜視図であり、図3(b)は、図3(a)に示すスリットのB部の部分拡大平面図である。
次に、図7を用いて、上述したサブマウントの製造方法の実施形態の変形例を説明する。図7は、上述した製造方法の図3に示したスリット形成工程のスリット20の配置が異なるだけで、他は全く同様の製造工程を説明するための斜視図である。
11 上面
12 エッチング面(側面)
13 ダイシング面(側面)
14 ストリート
15 切断溝
20 スリット
21 島状部
22 幅狭開口部分
23 幅広開口部分
100 基板
111、121 金属膜
112 パッド
Claims (5)
- 基板に複数のサブマウントを形成するサブマウントの製造方法において、
前記サブマウントの実装基準面となる側面に前記基板を貫通するスリットを形成するスリット形成工程と、
少なくとも前記サブマウントの表面および前記サブマウントの実装基準面となる側面に金属膜を形成する金属膜形成工程と、
機械加工によって前記スリットを横切って切断することで、前記サブマウントの他の側面を形成し、前記基板から前記サブマウントを個片化する個片化工程と、
を有し、
前記スリット形成工程では、ドライエッチング加工により、前記サブマウントの実装基準面となる側面に対応する細いスリットと、該細いスリットを含めた枠状のスリットとを形成し、該枠状の細いスリットにより形成される前記基板の島状部を抜き落とすことで幅広開口部分とし、前記サブマウントの実装基準面となる側面に対応するスリットを、該幅広開口部分と該幅広開口部分の両端に連通する幅狭開口部とで形成し、
前記金属膜成形工程で前記サブマウントの実装基準面となる側面に形成される金属膜を、前記幅広開口部分に対応する領域に形成し、
前記個片化工程では、前記サブマウントの実装基準面となる側面に対応するスリットの前記幅狭開口部分を横切って切断することを特徴とするサブマウントの製造方法。 - 前記細いスリットと前記枠状のスリットは、同一幅で形成されることを特徴とする請求項1に記載のサブマウントの製造方法。
- 前記基板上に形成された複数の前記サブマウントの隣接する前記サブマウントの間に形成された前記スリットは、前記隣接するサブマウントによって共有されることを特徴とする請求項1または2に記載のサブマウントの製造方法。
- 前記スリット形成工程によって形成される前記スリットは、前記サブマウントの対向する2つの側面を形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のサブマウントの製造方法。
- 前記基板は、シリコン基板であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のサブマウントの製造方法。
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