JP6478168B2 - Substrate transfer device - Google Patents

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Description

本発明は、基板搬送装置の構造技術に関する。   The present invention relates to a structure technology of a substrate transfer device.

基板搬送装置は、半導体製造工程又は液晶ディスプレイ製造工程等の各種製造工程において、真空チャンバ間で基板を搬送する装置である。基板搬送装置は、アームを伸縮又は旋回させることによって、基板を載置したハンドを移動させ、基板を搬送するものである。   The substrate transport device is a device for transporting a substrate between vacuum chambers in various manufacturing processes such as a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal display manufacturing process. The substrate transport device transports a substrate by moving a hand on which the substrate is placed by extending or contracting or turning an arm.

基板搬送装置のアームには、剛性を向上させるため、平行リンク機構によって構成されるものがある。平行リンク機構とは、2本のリンクアームが同一平面上にて平行に配置され、同一平面上にて平行を保ったまま屈折又は旋回する機構である。例えば、特許文献1には、水平面で平行に配置される2つの平行リンク機構を備える基板搬送装置が開示されている。   Some arms of the substrate transfer apparatus are configured by a parallel link mechanism in order to improve rigidity. The parallel link mechanism is a mechanism in which two link arms are arranged in parallel on the same plane, and are refracted or swiveled while maintaining parallel on the same plane. For example, Patent Document 1 discloses a substrate transfer device including two parallel link mechanisms arranged in parallel on a horizontal plane.

特許文献1に開示される平行リンク機構を備える基板搬送装置では、平行リンク機構を構成している各部品の加工誤差又は組立誤差の積み上げによって、2本のリンクアームが平行に配置される平面上にてハンドが傾く場合がある。また、基板からの熱、或いは、真空チャンバ室内の熱源からの熱等の影響を受け熱膨張によりリンクアームが変形し、同様にハンドが傾く場合がある。   In the substrate transfer apparatus including the parallel link mechanism disclosed in Patent Document 1, the two link arms are arranged in parallel by stacking processing errors or assembly errors of the parts constituting the parallel link mechanism. The hand may tilt at Further, the link arm may be deformed due to thermal expansion under the influence of heat from the substrate or heat from the heat source in the vacuum chamber chamber, and the hand may be similarly tilted.

特開2011−189422号公報JP 2011-189422 A

本発明の解決しようとする課題は、ハンドの傾きを補正できる基板搬送装置を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a substrate transfer device capable of correcting the tilt of the hand.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。   The problem to be solved by the present invention is as described above. Next, means for solving the problem will be described.

即ち、請求項1においては、ワークを載置するハンドと、前記ハンドを第一先端側支軸にて回動自在に軸支する第一アームと、前記ハンドを第二先端側支軸にて回動自在に軸支し、前記第一アームと対向する第二アームと、第三先端側支軸が前記第一アームの第一基端側支軸と同期して回転するとともに、基端側の第三基端側支軸が回転駆動機構によってベースに対して回転駆動される第三アームと、第四先端側支軸が前記第二アームの第二基端側支軸と同期して回転し、基端側の第四基端側支軸が前記ベースに対して回動自在に軸支されるとともに、前記第三アームと対向する第四アームと、を具備し、前記第三アーム及び前記第四アームを旋回させ、或いは、前記第一アームと前記第三アームとの角度並びに前記第二アームと前記第四アームとの角度を変化させることによって、前記ハンドを移動させ、ワークを搬送する基板搬送装置であって、前記第一先端側支軸と前記第一基端側支軸との間の距離と前記第二先端側支軸と前記第二基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、前記第三先端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離と前記第四先端側支軸と前記第四基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、前記第一先端側支軸と前記第二先端側支軸との間の距離と前記第一基端側支軸と前記第二基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、前記第三先端側支軸と前記第四先端側支軸との間の距離と前記第三基端側支軸と前記第四基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、前記第四基端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離を変化させることによって、前記ハンドの水平面上での傾きを補正する傾き補正手段を更に備え、前記第一基端側支軸、前記第三先端側支軸、前記第二基端側支軸及び前記第四先端側支軸が平面視にて直線上に配置されており、前記傾き補正手段には、前記第四基端側支軸を、該第四基端側支軸の軸心方向と直角方向であって、前記第三基端側支軸の軸心と前記第四基端側支軸の軸心とを結んだ直線上を接近または離隔するように移動させる機構が含まれるものである。 That is, in claim 1, a hand for placing a workpiece, a first arm for pivotally supporting the hand on a first tip side pivot, and the hand on a second tip side pivot. A second arm that pivotally supports the second arm and faces the first arm, and a third tip side support shaft that rotates in synchronization with the first base end side support shaft of the first arm, and a base end side. A third arm whose third base end support shaft is rotationally driven with respect to the base by a rotational drive mechanism, and a fourth tip end support shaft that rotates in synchronization with the second base end support shaft of the second arm. A fourth arm on the base end side is pivotally supported with respect to the base, and a fourth arm facing the third arm. The third arm and The fourth arm is swung, or the angle between the first arm and the third arm, and the second arm and the fourth arm. A substrate transfer device for moving the hand and transferring a workpiece by changing an angle between the first tip side support shaft and the first base end side support shaft; The distance between the second tip side support shaft and the second base end side support shaft is substantially the same, and the distance between the third tip side support shaft and the third base end side support shaft is The distance between the fourth front end side support shaft and the fourth base end side support shaft is substantially the same, and the distance between the first front end side support shaft and the second front end side support shaft is The distance between the first base end support shaft and the second base end support shaft is substantially the same, and the distance between the third tip end support shaft and the fourth tip end support shaft And the distance between the third base end support shaft and the fourth base end support shaft is substantially the same, and the fourth base end support shaft and the third base end support shaft By changing the distance between , Further comprising a tilt correction means for correcting the inclination on the horizontal plane of the hand, the first base end pivot, the third distal side shaft, the second base end side shaft and the fourth distal end The support shaft is arranged on a straight line in a plan view, and the tilt correction means includes the fourth base end support shaft in a direction perpendicular to the axial center direction of the fourth base end support shaft. And a mechanism for moving the first base end side support shaft and a fourth base end side support shaft so as to approach or separate on a straight line connecting the shaft centers of the fourth base end support shaft and the fourth base end support shaft .

請求項2においては、前記ハンドの所定位置に記された2つ以上のマークの情報を認識するカメラと、前記カメラで認識したマークの情報から前記マークの現在の位置情報を取得するとともに、前記マークの現在の位置情報と予め記憶されたマークの教示位置情報とに基づいて、前記ハンドの水平面上での傾きを算出する傾き算出手段と、を更に備え、前記傾き補正手段は、前記傾き算出手段で算出された傾きが基準値範囲内ではない場合には、前記傾き算出手段で算出された傾きが基準値範囲内になるように、前記第四基端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離を変化させるものである。   In Claim 2, while acquiring the present position information of the mark from the camera which recognizes the information of two or more marks written in the predetermined position of the hand, and the information of the mark recognized by the camera, Inclination calculating means for calculating the inclination of the hand on the horizontal plane based on the current position information of the mark and the pre-stored teaching position information of the mark, and the inclination correction means includes the inclination calculation When the inclination calculated by the means is not within the reference value range, the fourth base end side support shaft and the third base end are set so that the inclination calculated by the inclination calculating means is within the reference value range. The distance between the side support shafts is changed.

請求項3においては、前記傾き補正手段には、前記第一アーム、前記第二アーム、前記第三アーム、又は前記第四アームのいずれかの長手方向長さを伸縮させる機構が含まれるものである。   According to a third aspect of the present invention, the tilt correcting means includes a mechanism for extending or contracting the length in the longitudinal direction of the first arm, the second arm, the third arm, or the fourth arm. is there.

請求項4においては、前記傾き補正手段には、電動機と、ボールねじと、を備え、前記第四アームの基端側を水平方向に移動させる移動機構が含まれるものである。   According to a fourth aspect of the present invention, the tilt correcting means includes an electric motor and a ball screw, and includes a moving mechanism that moves the base end side of the fourth arm in the horizontal direction.

本発明の基板搬送ロボットによれば、ハンドの傾きを補正できる。   According to the substrate transfer robot of the present invention, the tilt of the hand can be corrected.

基板搬送装置の全体的な構成を示した模式図。The schematic diagram which showed the whole structure of the board | substrate conveyance apparatus. 移動機構の構成を示した模式図。The schematic diagram which showed the structure of the moving mechanism. 基板搬送装置の作用を示した模式図。The schematic diagram which showed the effect | action of the board | substrate conveyance apparatus. 基板搬送制御の流れを示したフロー図。The flowchart which showed the flow of board | substrate conveyance control. 基板搬送制御の作用を示した模式図。The schematic diagram which showed the effect | action of board | substrate conveyance control.

図1を用いて、基板搬送装置100の構成について説明する。なお、図1では、基板搬送装置100の構成を平面視にて模式的に表している。また、図1では、電気信号線を破線で表している。さらに、以下では、図1及び図2に表されるX方向、Y方向又はZ方向に従って説明するものとする。   The configuration of the substrate transfer apparatus 100 will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the configuration of the substrate transfer apparatus 100 is schematically shown in plan view. In FIG. 1, the electric signal lines are indicated by broken lines. Further, the following description will be made according to the X direction, the Y direction, or the Z direction shown in FIGS. 1 and 2.

基板搬送装置100は、アーム20を伸縮又は旋回させることによって、ワークW(図示略)を載置したハンド10を移動させ、ワークWを搬送するものである。なお、本実施形態のワークWは、液晶ディスプレイに用いられる基板としている。   The substrate transport apparatus 100 transports the work W by moving the hand 10 on which the work W (not shown) is placed by extending or contracting or turning the arm 20. In addition, the workpiece | work W of this embodiment is taken as the board | substrate used for a liquid crystal display.

基板搬送装置100は、真空環境下のトランスポートチャンバ(図示略)に配置されている。基板搬送装置100は、X方向の+側に配置される同じく真空環境下のプロセスチャンバ(図示略)又はロードロックチャンバ(図示略)にワークWを搬送するものとする。なお、X方向とは、トランスポートチャンバから例えばプロセスチャンバに向かう方向とし、プロセスチャンバに向かう側を+側とする。   The substrate transfer apparatus 100 is disposed in a transport chamber (not shown) in a vacuum environment. The substrate transfer apparatus 100 is assumed to transfer the workpiece W to a process chamber (not shown) or a load lock chamber (not shown) in the same vacuum environment arranged on the + side in the X direction. The X direction is a direction from the transport chamber toward the process chamber, for example, and a side toward the process chamber is a + side.

基板搬送装置100は、大きくは、ハンド10と、アーム20と、ベース30と、コントローラ50と、を具備している。   The substrate transfer apparatus 100 generally includes a hand 10, an arm 20, a base 30, and a controller 50.

ハンド10は、ワークWを載置するものである。ハンド10は、本体11と、ツメ12・12と、を具備している。   The hand 10 is for placing the workpiece W thereon. The hand 10 includes a main body 11 and claws 12 and 12.

本体11の略中央部には、後述する支軸21A及び支軸22Aにて、主上部リンクアーム21と副上部リンクアーム22とが回動自在に軸支されている。本体11の所定位置には、マークMが印されている。マークMは、後述するCCDカメラ80によって認識できるものとする。ツメ12・12は、長尺状に形成され、それぞれが本体11から平行に延設されている。   A main upper link arm 21 and a sub-upper link arm 22 are pivotally supported at a substantially central portion of the main body 11 by a later-described support shaft 21A and support shaft 22A. A mark M is marked at a predetermined position of the main body 11. The mark M can be recognized by a CCD camera 80 described later. The claws 12 and 12 are formed in a long shape, and each of them is extended in parallel from the main body 11.

アーム20は、伸縮又は旋回させることによって、ハンド10を移動させるものである。アーム20は、平行リンク機構によって構成されている。アーム20は、第一アームとしての主上部リンクアーム21と、第二アームとしての副上部リンクアーム22と、第三アームとしての主下部リンクアーム23と、第四アームとしての副下部リンクアーム24と、を具備している。   The arm 20 moves the hand 10 by extending or contracting or turning. The arm 20 is configured by a parallel link mechanism. The arm 20 includes a main upper link arm 21 as a first arm, a sub upper link arm 22 as a second arm, a main lower link arm 23 as a third arm, and a sub lower link arm 24 as a fourth arm. And.

主上部リンクアーム21は、棒状に形成され、それぞれの端側に第一先端側支軸としての支軸21Aと、第一基端側支軸としての支軸21Bと、を具備している。副上部リンクアーム22は、棒状に形成され、それぞれの端側に第二先端側支軸としての支軸22Aと、第二基端側支軸としての支軸22Bと、を具備している。主上部リンクアーム21及び副上部リンクアーム22は、略同一長さに構成され、平面視にて平行に配置されている。   The main upper link arm 21 is formed in a rod shape, and includes a support shaft 21A as a first distal end side support shaft and a support shaft 21B as a first proximal end support shaft on each end side. The sub-upper link arm 22 is formed in a rod shape, and includes a support shaft 22A as a second distal end side support shaft and a support shaft 22B as a second proximal end support shaft on each end side. The main upper link arm 21 and the sub upper link arm 22 are configured to have substantially the same length, and are arranged in parallel in a plan view.

支軸21Bは、ギアケース25に収納され、後述する支軸23Cと同期して回転するように構成されている。支軸22Bは、同様にギアケース25に収納され、後述する支軸24Cと同期して回転するように構成されている。   The support shaft 21B is housed in the gear case 25, and is configured to rotate in synchronization with a support shaft 23C described later. The support shaft 22B is similarly housed in the gear case 25, and is configured to rotate in synchronization with a support shaft 24C described later.

主下部リンクアーム23は、棒状に形成され、それぞれの端側に第三先端側支軸としての支軸23Cと、第三基端側支軸としての支軸23Dと、を具備している。副下部リンクアーム24は、棒状に形成され、それぞれの端側に第四先端側支軸としての支軸24Cと、第四基端側支軸としての支軸24Dと、を具備している。主下部リンクアーム23及び副下部リンクアーム24は、略同一長さに構成され、平面視にて平行に配置されている。   The main lower link arm 23 is formed in a rod shape, and includes a support shaft 23C as a third distal end side support shaft and a support shaft 23D as a third proximal end support shaft on each end side. The sub-lower link arm 24 is formed in a rod shape, and includes a support shaft 24C as a fourth distal end side support shaft and a support shaft 24D as a fourth base end support shaft on each end side. The main lower link arm 23 and the sub lower link arm 24 are configured to have substantially the same length, and are arranged in parallel in a plan view.

支軸23Cは、ギアケース25に収納され、支軸21Bと同期して回転するように構成されている。支軸24Cは、同様にギアケース25に収納され、支軸22Bと同期して回転するように構成されている。   The support shaft 23C is housed in the gear case 25, and is configured to rotate in synchronization with the support shaft 21B. The support shaft 24C is similarly housed in the gear case 25, and is configured to rotate in synchronization with the support shaft 22B.

ギアケース25は、箱体として構成され、支軸21Bと支軸23Cとが同期して回転するように、支軸21Bと支軸23Cとがギアによって歯合されている。同様に、支軸22Bと支軸24Cとが同期して回転するように、支軸22Bと支軸24Cとがギアによって歯合されている。   The gear case 25 is configured as a box, and the support shaft 21B and the support shaft 23C are meshed with each other so that the support shaft 21B and the support shaft 23C rotate in synchronization. Similarly, the support shaft 22B and the support shaft 24C are meshed with each other so that the support shaft 22B and the support shaft 24C rotate in synchronization.

支軸23D及び支軸24Dは、アーム20の旋回中心の支軸である。支軸23Dは、回転駆動機構70によって回転駆動される。支軸24Dは、移動機構60によって搬送方向に移動可能に構成されている。   The support shaft 23 </ b> D and the support shaft 24 </ b> D are support shafts at the turning center of the arm 20. The support shaft 23 </ b> D is rotationally driven by the rotational drive mechanism 70. The support shaft 24 </ b> D is configured to be movable in the transport direction by the moving mechanism 60.

なお、本実施形態では、回転駆動機構70について、詳細な説明は省略する。また、移動機構60について、詳細な説明は後述する。   In the present embodiment, detailed description of the rotation drive mechanism 70 is omitted. A detailed description of the moving mechanism 60 will be given later.

ベース30は、略円柱形状に構成され、ベース30の上面には、アーム20が載置されている。ベース30には図示しない旋回駆動機構が設けられ、ベース30の上面及びアーム20がZ軸方向軸心周りに旋回する。アーム20の旋回中心となるものである。ベース30の略中央部には、支軸23D及び支軸24Dにて、主下部リンクアーム23と副下部リンクアーム24とが回動自在に軸支されている。また、ベース30の中央部には、移動機構60及び回転駆動機構70が設けられている。   The base 30 is configured in a substantially cylindrical shape, and the arm 20 is placed on the upper surface of the base 30. The base 30 is provided with a turning drive mechanism (not shown), and the upper surface of the base 30 and the arm 20 turn around the Z-axis direction axis. This is the pivot center of the arm 20. A main lower link arm 23 and a sub-lower link arm 24 are pivotally supported at a substantially central portion of the base 30 by a support shaft 23D and a support shaft 24D. In addition, a moving mechanism 60 and a rotation driving mechanism 70 are provided at the center of the base 30.

コントローラ50は、移動機構60と、回転駆動機構70と、CCDカメラ80と、に接続されている。コントローラ50は、ハンド10が教示位置Pに移動するようにアーム20の伸縮又は旋回量を制御するものである。なお、教示位置Pとは、コントローラ50が予め認識している、或いは、コントローラ50が外部から与えられる、ハンド10の移動目標位置である。   The controller 50 is connected to the moving mechanism 60, the rotation driving mechanism 70, and the CCD camera 80. The controller 50 controls the expansion / contraction or turning amount of the arm 20 so that the hand 10 moves to the teaching position P. The teaching position P is a movement target position of the hand 10 that is recognized by the controller 50 in advance or is given from the outside by the controller 50.

CCDカメラ80は、ハンド10に印されたマークMを認識するものである。CCDカメラ80は、ハンド10の移動範囲において所定位置に設けられている。CCDカメラ80は、コントローラ50と接続されている。   The CCD camera 80 recognizes the mark M marked on the hand 10. The CCD camera 80 is provided at a predetermined position in the movement range of the hand 10. The CCD camera 80 is connected to the controller 50.

図2を用いて、移動機構60の構成について説明する。
なお、図2では、移動機構60の構成を側面視にて模式的に表している。また、図2では、電気信号線を破線で表している。
The configuration of the moving mechanism 60 will be described with reference to FIG.
In addition, in FIG. 2, the structure of the moving mechanism 60 is typically represented by the side view. In FIG. 2, the electric signal lines are indicated by broken lines.

移動機構60は、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向に移動させるものである。移動機構60は、大気環境下となるケース61の内部と、真空環境下となるスライドテーブル68の周囲と、に大別される。   The moving mechanism 60 moves the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 in the X direction. The moving mechanism 60 is roughly divided into an inside of a case 61 that is in an atmospheric environment and a periphery of a slide table 68 that is in a vacuum environment.

ケース61の内部には、電動機62と、減速機63と、ボールネジ64と、スライドブロック65と、ベローズ66と、が収納されている。   In the case 61, an electric motor 62, a reduction gear 63, a ball screw 64, a slide block 65, and a bellows 66 are housed.

電動機62は、コントローラ50に接続されている。減速機63は、電動機62に接続され、電動機62の回転駆動を減速するものである。ボールネジ64は、X方向と平行に配置され、減速機63に接続されている。スライドブロック65は、略支軸芯部において、ボールネジ64と螺合している。べローズ66は、ケース61の開口部とスライドブロック65との間に設けられ、ケース61内の大気環境下とケース61外の真空環境下とを遮断している。   The electric motor 62 is connected to the controller 50. The speed reducer 63 is connected to the electric motor 62 and decelerates the rotational drive of the electric motor 62. The ball screw 64 is disposed in parallel with the X direction and is connected to the speed reducer 63. The slide block 65 is screwed with the ball screw 64 at a substantially support shaft core portion. The bellows 66 is provided between the opening of the case 61 and the slide block 65 and blocks the atmospheric environment inside the case 61 and the vacuum environment outside the case 61.

スライドテーブル68の周囲には、連結シャフト69と、リンクアーム支柱71と、が配置されている。   A connection shaft 69 and a link arm column 71 are disposed around the slide table 68.

スライドテーブル68は、X方向に沿って配置されるレールに係合するガイド68Aを具備し、X方向にスライドするものである。連結シャフト69は、X方向と平行に配置され、−側でスライドブロック65と固設され、+側でスライドテーブル68と固設されている。リンクアーム支柱71は、Z方向と平行に配置され、Z方向の+側でスライドテーブル68と固設され、Z方向の−側で副下部リンクアーム24の支軸24Dと固設されている。   The slide table 68 includes a guide 68A that engages with a rail disposed along the X direction, and slides in the X direction. The connecting shaft 69 is arranged in parallel with the X direction, fixed to the slide block 65 on the − side, and fixed to the slide table 68 on the + side. The link arm support 71 is disposed in parallel with the Z direction, fixed to the slide table 68 on the + side in the Z direction, and fixed to the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 on the − side in the Z direction.

このような構成とすることで、移動機構60では、電動機62の回転駆動が減速機63を介してボールネジ64に伝達される。ボールネジ64が回転することによってスライドブロック65がX方向に移動される。スライドブロック65が搬送方向に移動することによって、連結シャフト69を介してスライドテーブル68がX方向に移動される。スライドテーブル68がX方向に移動することによって、リンクアーム支柱71を介して副下部リンクアーム24の支軸24DがX方向に移動される。リンクアーム24の支軸24DがX方向に移動することにより、リンクアーム23の支軸23Cとリンクアーム24の支軸24Dとの間の距離を変化させることができる。   With this configuration, in the moving mechanism 60, the rotational drive of the electric motor 62 is transmitted to the ball screw 64 via the speed reducer 63. As the ball screw 64 rotates, the slide block 65 is moved in the X direction. As the slide block 65 moves in the transport direction, the slide table 68 moves in the X direction via the connecting shaft 69. As the slide table 68 moves in the X direction, the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 is moved in the X direction via the link arm column 71. As the support shaft 24D of the link arm 24 moves in the X direction, the distance between the support shaft 23C of the link arm 23 and the support shaft 24D of the link arm 24 can be changed.

図3を用いて、基板搬送装置100の作用について説明する。なお、図3では、基板搬送装置100の作用を平面視にて模式的に表している。   The operation of the substrate transfer apparatus 100 will be described with reference to FIG. In addition, in FIG. 3, the effect | action of the board | substrate conveyance apparatus 100 is typically represented by planar view.

図3(A)に示すように、まず、ハンド10が傾きのない正常な状態について考える。このとき、例えば、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させるとする。   As shown in FIG. 3A, first, consider a normal state in which the hand 10 has no inclination. At this time, for example, the support mechanism 24D of the sub-lower link arm 24 is moved to the-side in the X direction by the moving mechanism 60.

副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させることによって、副下部リンクアーム24及びギアケース25は、略L字形状を構成していた副下部リンクアーム24とギアケース25との間の内側の角度が広がるように動作する。   By moving the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 to the-side in the X direction, the sub-lower link arm 24 and the gear case 25 are substantially L-shaped. It works to widen the inner angle between.

このとき、ギアケース25の姿勢は、X方向に平行であった状態から、X方向の+側端部がY方向の−側に傾くように変化する。ギアケース25がY方向の−側に傾くように動作することに伴い、ハンド10も同様にY方向の−側に傾くように動作する。基板搬送装置100においては、このようにして、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させると、ハンド10がY方向の−側に傾くように動作する。   At this time, the posture of the gear case 25 changes from the state parallel to the X direction so that the + side end portion in the X direction is inclined toward the − side in the Y direction. As the gear case 25 operates to tilt toward the negative side in the Y direction, the hand 10 similarly operates to tilt toward the negative side in the Y direction. In the substrate transport apparatus 100, when the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 is thus moved to the − side in the X direction, the hand 10 operates so as to tilt toward the − side in the Y direction.

図3(B)に示すように、主上部リンクアーム21が熱膨張し、ハンド10がY方向の+側に傾いている場合について考える。この場合には、ハンド10がY方向の+側に傾くことになる。このとき、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させる。   As shown in FIG. 3B, consider a case where the main upper link arm 21 is thermally expanded and the hand 10 is inclined to the + side in the Y direction. In this case, the hand 10 is inclined to the + side in the Y direction. At this time, the moving mechanism 60 moves the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 to the-side in the X direction.

副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させることによって、副下部リンクアーム24及びギアケース25は、略L字形状を構成していた副下部リンクアーム24とギアケース25との間の内側の角度がさらに広がるように変化する。   By moving the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 to the-side in the X direction, the sub-lower link arm 24 and the gear case 25 are substantially L-shaped. It changes so that the inner angle between and further expands.

このとき、ギアケース25の姿勢は、X方向に平行な状態から、X方向の+側端部がY方向の−側に傾くように動作する。ギアケース25がY方向の−側に傾くように動作することに伴い、ハンド10も同様にY方向の−側に傾くように動作し、ハンド10はY方向の+側に傾きが補正される。   At this time, the posture of the gear case 25 operates so that the + side end in the X direction is tilted toward the − side in the Y direction from a state parallel to the X direction. As the gear case 25 is tilted to the-side in the Y direction, the hand 10 is similarly tilted to the-side in the Y direction, and the hand 10 is corrected for tilt to the + side in the Y direction. .

基板搬送装置100の効果について説明する。基板搬送装置100によれば、ハンド10の傾きを補正できる。すなわち、副下部リンクアーム24の支軸24Dを移動機構60によってX方向に移動させ、ハンド10の傾きを補正できる。   The effect of the substrate transfer apparatus 100 will be described. According to the substrate transport apparatus 100, the tilt of the hand 10 can be corrected. That is, the tilt of the hand 10 can be corrected by moving the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 in the X direction by the moving mechanism 60.

本実施形態の基板搬送装置100では、移動機構60が副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向に移動させる構成としたが、これに限定されない。例えば、移動機構60が副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向に移動させる構成としても、同様の作用効果が得られる。   In the substrate transport apparatus 100 of the present embodiment, the moving mechanism 60 is configured to move the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 in the X direction, but is not limited thereto. For example, the same effect can be obtained even if the moving mechanism 60 moves the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 in the Y direction.

本実施形態の基板搬送装置100では、副下部リンクアーム24の支軸24Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としたが、これに限定されない。例えば、主下部リンクアーム23の支軸23Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としても、同様の作用効果が得られる。   In the substrate transport apparatus 100 of the present embodiment, the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 is moved in the X direction by the moving mechanism 60, but the present invention is not limited to this. For example, even when the support shaft 23D of the main lower link arm 23 is moved in the X direction by the moving mechanism 60, the same effect can be obtained.

本実施形態の基板搬送装置100では、副下部リンクアーム24の支軸24Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としたが、これに限定されない。例えば、第一アーム21、第二アーム22、第三アーム23、又は第四アーム24のいずれかの長手方向長さを伸縮させる構成であっても同様の作用効果が得られる。あるいは、支軸24Dから偏倚した偏芯軸心を中心に、支軸24Dが回転移動される構成としても同様の作用効果が得られる。   In the substrate transport apparatus 100 of the present embodiment, the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 is moved in the X direction by the moving mechanism 60, but the present invention is not limited to this. For example, the same effect can be obtained even when the longitudinal length of any of the first arm 21, the second arm 22, the third arm 23, or the fourth arm 24 is extended or contracted. Alternatively, the same effect can be obtained even when the support shaft 24D is rotated around the eccentric shaft center that is offset from the support shaft 24D.

図4を用いて、基板搬送制御S100の流れについて説明する。なお、図4では、基板搬送制御S100の流れをフローチャートによって表している。   The flow of the substrate transfer control S100 will be described with reference to FIG. In addition, in FIG. 4, the flow of board | substrate conveyance control S100 is represented with the flowchart.

基板搬送制御S100は、基板搬送装置100のハンド10の傾きも含めた位置ズレを補正する制御である。ハンド10の位置ズレは、CCDカメラ80によって計測可能な教示位置Pにおける位置ズレ(XY平面の傾き(θ)、X方向の位置ズレ(Xd)、Y方向の位置ズレ(Yd))によって決定される。   The substrate transfer control S100 is a control for correcting a positional deviation including the tilt of the hand 10 of the substrate transfer apparatus 100. The positional deviation of the hand 10 is determined by the positional deviation at the teaching position P that can be measured by the CCD camera 80 (XY plane inclination (θ), X-direction positional deviation (Xd), Y-direction positional deviation (Yd)). The

ステップS110において、コントローラ50は、教示位置Pにハンド10を移動させて、CCDカメラ80によってマークMを認識させ、現在位置P´の位置情報を取得する。なお、教示位置Pの位置情報は、予めコントローラ50に記憶されているものとする。   In step S110, the controller 50 moves the hand 10 to the teaching position P, causes the CCD camera 80 to recognize the mark M, and acquires position information of the current position P ′. It is assumed that the position information of the teaching position P is stored in the controller 50 in advance.

ステップS120において、コントローラ50は、現在位置P´と教示位置Pとの差を、XY平面上での傾き(θ)、X方向の位置ズレ(Xd)、Y方向の位置ズレ(Yd)として算出する。なお、θについては、2以上のマークMを認識することによって算出する。このとき、1つのマークMを例えば四角形とし、四角形の4つの頂点のうちいずれか2つの頂点をθ算出用の2点として座標認識させることによって、算出しても良い。   In step S120, the controller 50 calculates the difference between the current position P ′ and the teaching position P as an inclination (θ) on the XY plane, a positional deviation in the X direction (Xd), and a positional deviation in the Y direction (Yd). To do. Note that θ is calculated by recognizing two or more marks M. At this time, one mark M may be a square, for example, and any two vertices of the square may be recognized as coordinates for two θ calculation points.

ステップS130において、コントローラ50は、ステップS120において算出した位置ズレ(θ、Xd、Yd)が全て基準範囲内であるかどうかを確認する。ここで、基準範囲とは、補正を必要としない位置ズレ(θ、Xd、Yd)の範囲である。   In step S130, the controller 50 confirms whether or not the positional deviations (θ, Xd, Yd) calculated in step S120 are all within the reference range. Here, the reference range is a range of positional deviation (θ, Xd, Yd) that does not require correction.

ステップS130において、位置ズレ(θ、Xd、Yd)が全て基準範囲内であれば、基板搬送制御S100を終了する。一方、位置ズレ(θ、Xd、Yd)のうち、一つでも基準範囲内でなければ、ステップS140へ移行する。   In step S130, if all the positional deviations (θ, Xd, Yd) are within the reference range, the substrate transport control S100 is terminated. On the other hand, if any one of the positional deviations (θ, Xd, Yd) is not within the reference range, the process proceeds to step S140.

ステップS140において、コントローラ50は、まず、θが基準範囲内であるかどうかを確認する。θが基準範囲内であれば、ステップS160に移行する。一方、θが基準範囲内でなければ、ステップS150に移行する。   In step S140, the controller 50 first confirms whether θ is within the reference range. If θ is within the reference range, the process proceeds to step S160. On the other hand, if θ is not within the reference range, the process proceeds to step S150.

ステップS150において、コントローラ50は、移動機構60によって副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向に移動させ、ハンド10に回転を作用させ、ハンド10の傾きθが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレθが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。   In step S150, the controller 50 moves the support shaft 24D of the sub-lower link arm 24 in the Y direction by the moving mechanism 60, causes the hand 10 to rotate, and corrects the inclination θ of the hand 10 to be zero. More specifically, correction is performed so that the positional deviation θ of the hand 10 converges within an allowable range. The allowable range is a range smaller than a reference range centered on 0.

ステップS160において、コントローラ50は、次に、Ydが基準範囲内であるかどうかを確認する。Ydが基準範囲内であれば、ステップS180に移行する。一方、Ydが基準範囲内でなければ、ステップS170に移行する。   In step S160, the controller 50 next checks whether Yd is within the reference range. If Yd is within the reference range, the process proceeds to step S180. On the other hand, if Yd is not within the reference range, the process proceeds to step S170.

ステップS170において、コントローラ50は、ベース30の旋回移動によって、アーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレYdが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレYdが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。   In step S170, the controller 50 rotates the arm 20 by the turning movement of the base 30, and corrects the positional deviation Yd of the hand 10 to be zero. More specifically, correction is performed so that the positional deviation Yd of the hand 10 converges within an allowable range. The allowable range is a range smaller than a reference range centered on 0.

ステップS180において、コントローラ50は、改めて、θ、Ydが共に基準範囲内であるかどうかを確認する。θ、Ydが基準範囲内であれば、ステップS140に移行する。一方、θ、Ydが共に基準範囲内でなければ、ステップS190に移行する。   In step S180, the controller 50 once again confirms whether θ and Yd are both within the reference range. If θ and Yd are within the reference range, the process proceeds to step S140. On the other hand, if neither θ nor Yd is within the reference range, the process proceeds to step S190.

ステップS190において、コントローラ50は、最後に、Xdが基準範囲内であるかどうかを確認する。Xdが基準範囲内であれば、基板搬送制御S100を終了する。一方、Xdが基準範囲内でなければ、ステップS200に移行する。   In step S190, the controller 50 finally checks whether Xd is within the reference range. If Xd is within the reference range, the substrate transfer control S100 is terminated. On the other hand, if Xd is not within the reference range, the process proceeds to step S200.

ステップS200において、コントローラ50は、回転駆動機構70によってアーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレXdが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレXdが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。   In step S <b> 200, the controller 50 rotates the arm 20 by the rotation drive mechanism 70 and corrects the positional deviation Xd of the hand 10 to be zero. More specifically, correction is performed so that the positional deviation Xd of the hand 10 converges within an allowable range. The allowable range is a range smaller than a reference range centered on 0.

図5を用いて、基板搬送制御S100の作用について説明する。なお、図5では、基板搬送制御S100の作用を平面視にて模式的に表している。   The operation of the substrate transfer control S100 will be described with reference to FIG. In FIG. 5, the operation of the substrate transfer control S100 is schematically shown in plan view.

図5(A)に示すように、例えば熱膨張等によって、ハンド10の現在位置P´が教示位置P(破線)に対してずれているものとする。ステップS110では、コントローラ50によって、現在位置P´が算出される。ステップS120では、コントローラ50によって、現在位置P´と教示位置Pとの差を位置ズレ(θ、Xd、Yd)が算出される。   As shown in FIG. 5A, it is assumed that the current position P ′ of the hand 10 is deviated from the teaching position P (broken line) due to, for example, thermal expansion. In step S110, the controller 50 calculates the current position P ′. In step S120, the controller 50 calculates a positional deviation (θ, Xd, Yd) from the difference between the current position P ′ and the teaching position P.

ステップS130では、コントローラ50によって、位置ズレ(θ、Xd、Yd)のうち、一つでも基準範囲内でないと判定され、ステップS140に移行される。ステップS140では、コントローラ50によって、θが基準範囲内でないと判定され、ステップS150に移行される。   In step S130, the controller 50 determines that one of the positional deviations (θ, Xd, Yd) is not within the reference range, and the process proceeds to step S140. In step S140, the controller 50 determines that θ is not within the reference range, and proceeds to step S150.

ステップS150では、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させ、ハンド10をY方向の−側に傾きが与えられ、ハンド10の傾きθが0となるように補正される。   In step S150, the support mechanism 24D of the sub-lower link arm 24 is moved to the-side in the X direction by the moving mechanism 60, the hand 10 is tilted to the-side in the Y direction, and the tilt θ of the hand 10 is 0. It is corrected so that

ステップS160では、コントローラ50によって、Ydが基準範囲内でないと判定され、ステップS170に移行される。   In step S160, the controller 50 determines that Yd is not within the reference range, and the process proceeds to step S170.

図5(B)に示すように、ステップS170では、ベース30の旋回移動によって、アーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレYdが0になるように補正される。このとき、Ydを0にしようとしたため、再度、ハンド10には、Y方向の+側の傾きが発生する。   As shown in FIG. 5B, in step S170, the arm 20 is rotated by the turning movement of the base 30, and the positional deviation Yd of the hand 10 is corrected to zero. At this time, since Yd was tried to be 0, the hand 10 is inclined again on the + side in the Y direction.

ステップS180では、コントローラ50によって、θ、Ydが共に基準範囲内でないと判定され、再びステップS140に移行される。ステップS140では、コントローラ50によって、θが基準範囲内でないと判定され、ステップS150に移行される。   In step S180, the controller 50 determines that both θ and Yd are not within the reference range, and the process proceeds to step S140 again. In step S140, the controller 50 determines that θ is not within the reference range, and proceeds to step S150.

図5(C)に示すように、ステップS150では、再度、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向の+側に移動させ、ハンド10をY方向の−側に傾きが与えられ、ハンド10の傾きθが0となるように補正される。   As shown in FIG. 5C, in step S150, the support mechanism 24D of the auxiliary lower link arm 24 is moved again to the + side in the Y direction by the moving mechanism 60, and the hand 10 is tilted to the-side in the Y direction. Is corrected so that the inclination θ of the hand 10 becomes zero.

ステップS160では、コントローラ50によって、Ydが基準範囲内でないと判断され、ステップS180に移行される。ステップS180では、コントローラ50によって、θ、Ydが共に基準範囲内であると判定され、ステップS190に移行される。ステップS190では、コントローラ50によって、Xdが基準範囲内でないと判定され、ステップS200に移行される。   In step S160, the controller 50 determines that Yd is not within the reference range, and the process proceeds to step S180. In step S180, the controller 50 determines that both θ and Yd are within the reference range, and the process proceeds to step S190. In step S190, the controller 50 determines that Xd is not within the reference range, and proceeds to step S200.

図5(D)に示すように、ステップS200では、回転駆動機構70によって、アーム20を伸縮させ、ハンド10の位置ズレXdが0になるように補正される。   As shown in FIG. 5D, in step S200, the arm 20 is expanded and contracted by the rotation drive mechanism 70, and the positional deviation Xd of the hand 10 is corrected to zero.

基板搬送制御S100の効果について説明する。基板搬送制御S100によれば、基板搬送装置100のハンド10の傾きも含めた位置ズレを補正できる。   The effect of the substrate transfer control S100 will be described. According to the substrate transport control S100, it is possible to correct the positional deviation including the tilt of the hand 10 of the substrate transport apparatus 100.

10 ハンド
20 アーム
24 副下部リンクアーム
24D 支軸
25 ギアケース
30 ベース
50 コントローラ
60 移動機構
70 回転駆動機構
80 CCDカメラ
100 基板搬送装置
S100 基板搬送制御
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Hand 20 Arm 24 Sub-lower link arm 24D Support shaft 25 Gear case 30 Base 50 Controller 60 Movement mechanism 70 Rotation drive mechanism 80 CCD camera 100 Substrate conveyance device S100 Substrate conveyance control

Claims (4)

ワークを載置するハンドと、
前記ハンドを第一先端側支軸にて回動自在に軸支する第一アームと、
前記ハンドを第二先端側支軸にて回動自在に軸支し、前記第一アームと対向する第二アームと、
第三先端側支軸が前記第一アームの第一基端側支軸と同期して回転するとともに、基端側の第三基端側支軸が回転駆動機構によってベースに対して回転駆動される第三アームと、
第四先端側支軸が前記第二アームの第二基端側支軸と同期して回転し、基端側の第四基端側支軸が前記ベースに対して回動自在に軸支されるとともに、前記第三アームと対向する第四アームと、を具備し、
前記第三アーム及び前記第四アームを旋回させ、或いは、前記第一アームと前記第三アームとの角度並びに前記第二アームと前記第四アームとの角度を変化させることによって、前記ハンドを移動させ、ワークを搬送する基板搬送装置であって、
前記第一先端側支軸と前記第一基端側支軸との間の距離と前記第二先端側支軸と前記第二基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、
前記第三先端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離と前記第四先端側支軸と前記第四基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、
前記第一先端側支軸と前記第二先端側支軸との間の距離と前記第一基端側支軸と前記第二基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、
前記第三先端側支軸と前記第四先端側支軸との間の距離と前記第三基端側支軸と前記第四基端側支軸との間の距離とが略同一に構成され、
前記第四基端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離を変化させることによって、前記ハンドの水平面上での傾きを補正する傾き補正手段を更に備え、
前記第一基端側支軸、前記第三先端側支軸、前記第二基端側支軸及び前記第四先端側支軸が平面視にて直線上に配置されており、
前記傾き補正手段には、前記第四基端側支軸を、該第四基端側支軸の軸心方向と直角方向であって、前記第三基端側支軸の軸心と前記第四基端側支軸の軸心とを結んだ直線上を接近または離隔するように移動させる機構が含まれる基板搬送装置。
A hand for placing a workpiece;
A first arm that pivotally supports the hand by a first tip side pivot, and
A second arm that pivotally supports the hand on a second tip side support shaft and faces the first arm;
The third tip side support shaft rotates in synchronization with the first base end side support shaft of the first arm, and the base end side third base end support shaft is rotationally driven with respect to the base by the rotation drive mechanism. A third arm,
The fourth tip side support shaft rotates in synchronization with the second base end side support shaft of the second arm, and the base end side fourth base end support shaft is rotatably supported with respect to the base. And a fourth arm facing the third arm,
Move the hand by turning the third arm and the fourth arm, or changing the angle between the first arm and the third arm and the angle between the second arm and the fourth arm. A substrate transfer device for transferring a workpiece,
The distance between the first distal support shaft and the first proximal support shaft and the distance between the second distal support shaft and the second proximal support shaft are substantially the same. ,
The distance between the third distal support shaft and the third proximal support shaft and the distance between the fourth distal support shaft and the fourth proximal support shaft are substantially the same. ,
The distance between the first distal support shaft and the second distal support shaft and the distance between the first proximal support shaft and the second proximal support shaft are substantially the same. ,
The distance between the third distal support shaft and the fourth distal support shaft and the distance between the third proximal support shaft and the fourth proximal support shaft are configured to be substantially the same. ,
An inclination correction means for correcting an inclination of the hand on a horizontal plane by changing a distance between the fourth base end side support shaft and the third base end side support shaft;
The first base end side support shaft, the third tip end side support shaft, the second base end side support shaft and the fourth tip end side support shaft are arranged on a straight line in plan view,
In the inclination correcting means, the fourth base end support shaft is perpendicular to the axial direction of the fourth base end support shaft, and the third base end support shaft is aligned with the first center support shaft. A substrate transfer apparatus including a mechanism for moving the object so as to approach or separate on a straight line connecting the axes of the four base end support shafts .
前記ハンドの所定位置に記された2つ以上のマークの情報を認識するカメラと、
前記カメラで認識したマークの情報から前記マークの現在の位置情報を取得するとともに、前記マークの現在の位置情報と予め記憶されたマークの教示位置情報とに基づいて、
前記ハンドの水平面上での傾きを算出する傾き算出手段と、を更に備え、
前記傾き補正手段は、
前記傾き算出手段で算出された傾きが基準値範囲内ではない場合には、前記傾き算出手段で算出された傾きが基準値範囲内になるように、前記第四基端側支軸と前記第三基端側支軸との間の距離を変化させる、請求項に記載の基板搬送装置。
A camera for recognizing information of two or more marks written at predetermined positions of the hand;
While acquiring the current position information of the mark from the information of the mark recognized by the camera, based on the current position information of the mark and the pre-stored teaching position information of the mark,
An inclination calculating means for calculating an inclination of the hand on a horizontal plane;
The inclination correction means includes
When the inclination calculated by the inclination calculating means is not within the reference value range, the fourth base end side support shaft and the first support shaft are adjusted so that the inclination calculated by the inclination calculating means is within the reference value range. changing the distance between the three proximal side shaft, the substrate transport apparatus of claim 1.
前記傾き補正手段には、前記第一アーム、前記第二アーム、前記第三アーム、又は前記第四アームのいずれかの長手方向長さを伸縮させる機構が含まれる、請求項1または2に記載の基板搬送装置。 3. The mechanism according to claim 1, wherein the tilt correction unit includes a mechanism that expands or contracts a longitudinal length of any of the first arm, the second arm, the third arm, and the fourth arm. Substrate transfer device. 前記傾き補正手段には、電動機と、ボールねじと、を備え、前記第四アームの基端側を水平方向に移動させる移動機構が含まれる、請求項1または2に記載の基板搬送装置。 3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the tilt correction unit includes an electric motor and a ball screw, and includes a moving mechanism that moves a base end side of the fourth arm in a horizontal direction.
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