JP6476016B2 - 半導体集積回路、通信モジュール、及びスマートメータ - Google Patents

半導体集積回路、通信モジュール、及びスマートメータ Download PDF

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Description

本発明は半導体集積回路、通信モジュール、及びスマートメータに関し、例えばインピーダンス整合回路を備える半導体集積回路、通信モジュール、及びスマートメータに関する。
近年、高周波信号を送受信可能な無線通信装置が広く用いられている。特許文献1には、このような無線通信装置に使用される送受信回路に関する技術が開示されている。具体的には、送信回路と、受信回路と、送信回路とアンテナとの接続および受信回路とアンテナとの接続を切り換えるスイッチ回路と、を備えるフロントエンドシステムに関する技術が開示されている。
米国特許出願公開第2013/0035048号明細書
近年、無線通信装置に使用される半導体集積回路の小型化が進んでいる。しかしながら、送受信回路とアンテナとの接続を切り換えるスイッチ回路は、スイッチ回路が扱う高周波信号の電圧振幅の大きさや静電気放電(ESD:Electro Static Discharge)に対する耐性等の理由から十分に小型化されていない。このため、無線通信装置に使用される半導体集積回路の小型化が不十分であるという問題がある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施の形態によれば、第1および第2の巻線を備えるトランスの第2の巻線の両端にスイッチを設ける。そして、トランスの第1の巻線に受信信号が供給される期間、前記スイッチを開状態としてトランスを入力インピーダンス整合回路として機能させる。一方、受信信号が供給されない期間は、前記スイッチを閉状態とする。
前記一実施の形態によれば、無線通信装置に使用される半導体集積回路の小型化を実現することができる。
実施の形態1にかかるスマートメータを説明するためのブロック図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の一例を示す回路図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路で用いられるスイッチの一例を示す回路図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の動作を説明するための図である(スイッチが閉状態の場合)。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の動作を説明するための図である(スイッチが閉状態の場合)。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の他の構成例を示す回路図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の動作を説明するためのタイミングチャートである。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の動作を説明するためのタイミングチャートである。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の実装例を示す図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の実装例を示す図である。 比較例にかかる半導体集積回路の実装例を示す図である。 比較例にかかる半導体集積回路の実装例を示す図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の他の実装例を示す図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の他の構成例を示す回路図である。 実施の形態1にかかる半導体集積回路の他の構成例を示す回路図である。 関連技術にかかる通信装置の一例を示すブロック図である。 関連技術にかかる通信装置の他の構成例を示すブロック図である。 関連技術にかかる通信装置で用いられているスイッチ回路の一例を示す図である。 関連技術にかかる通信装置で用いられているスイッチ回路の他の構成例を示す図である。 実施の形態2にかかる半導体集積回路の一例を示す回路図である。 実施の形態3にかかる半導体集積回路の一例を示す回路図である。 実施の形態3にかかる半導体集積回路の他の構成例を示す回路図である。 半導体集積回路で用いられるスイッチの他の構成例を示す回路図である。 半導体集積回路で用いられるスイッチの他の構成例を示す回路図である。 半導体集積回路で用いられるスイッチの他の構成例を示す回路図である。
<実施の形態1>
まず、図1を用いて実施の形態1にかかるスマートメータについて説明する。
(スマートメータの構成:図1)
図1に示すように本実施の形態にかかるスマートメータ100は、通信装置101、MCU(Microcontroller Unit)102、計測装置103、電源回路104、メモリ105、ディスプレイ106、及びアンテナANTを備える。スマートメータ100は、商用電源107から家庭用電源の負荷109に供給される電力量を測定するための装置である。
通信装置101は、スマートメータ100で測定された電力量等の情報を、アンテナノードN_ANTに接続されているアンテナANTを介して他の機器に送信する。また、通信装置101は、他の機器から所定の情報をアンテナANTを介して受信する。MCU(102)は、通信装置101、計測装置103、メモリ105、及びディスプレイ106を制御する。例えば、MCU(102)は通信装置101に信号MCU_SIG(制御信号等)を供給する。計測装置103は、配線108に流れる電力量を測定し、測定した電力量に関する情報をMCU(102)に出力する。MCU(102)は、計測装置103で測定された電力量に関する情報をメモリ105に格納する。ディスプレイ106は、スマートメータ100の各種情報を表示する。ディスプレイ106には、例えば液晶ディスプレイを用いることができる。例えば、通信装置101は、検針時やHEMS(Home Energy Management System)との通信時にメモリ105に格納されている消費電力の記録を送信する。
(関連技術の説明)
次に、図1に示したスマートメータで用いられている通信装置101の関連技術について、図16〜図19を用いて説明する。図16は、図1に示したスマートメータ100で用いられている通信装置101の関連技術を説明するための図であり、関連技術にかかる通信装置の一例を示すブロック図である。図16に示すように関連技術にかかる通信装置101_1は、半導体集積回路113_1を備える。半導体集積回路113_1は高周波用の集積回路であり、半導体チップ(RF−IC)を用いて構成されている。半導体集積回路113_1は、受信受動回路115、低雑音アンプ回路LNA、受信回路RX、送信回路TX、送信アンプ回路PA、送信受動回路116、局部発振器SX、モデムMODEM、制御回路114、及びインターフェイスI/Fを備える。また、通信装置101_1はスイッチ回路117を備えており、このスイッチ回路117は半導体集積回路113_1(RF−IC)の外に形成されている。
受信受動回路115は、低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンスを整合する機能とフィルタ回路としての機能を備える。低雑音アンプ回路LNAは、受信受動回路115から供給された受信信号(無線信号)を増幅する。受信回路RXは、低雑音アンプ回路LNAで増幅された受信信号に対してダウンコンバート等の受信処理を行う。モデムMODEMは、受信回路RXから供給された受信信号を復調し、復調後の受信信号をインターフェイスI/Fを介して、図1に示したMCU(102)に供給する。
また、モデムMODEMには、図1に示したMCU(102)からインターフェイスI/Fを介して送信信号が供給される。モデムMODEMは、供給された送信信号を変調し、変調後の送信信号を送信回路TXに供給する。送信回路TXは、モデムMODEMから供給された変調後の送信信号に対してアップコンバート等の送信処理を行う。送信アンプ回路PAは、送信回路TXから供給された送信信号を増幅する。送信受動回路116は、送信アンプ回路PAの出力インピーダンスを整合する機能とフィルタ回路としての機能を備える。
スイッチ回路117は、アンテナANTと受信受動回路115との接続、及びアンテナANTと送信受動回路116との接続を切り替える。具体的には、スイッチ回路117は、受信時にアンテナノードN_ANTと受信受動回路115の入力ノードN101とを接続し、送信時にアンテナノードN_ANTと送信受動回路116の出力ノードN102とを接続する。また、制御回路114には、図1に示したMCU(102)からインターフェイスI/Fを介して制御信号MCU_SIGが供給される。制御回路114は、制御信号MCU_SIGに応じて制御信号CTRを生成し、通信装置101_1を構成する各々の回路を制御する。
図16に示すように、通信装置101_1では、半導体集積回路113_1(半導体チップ(RF−IC))に大半の機能が集積化されている。図16に示す通信装置101_1では、スイッチ回路117が半導体集積回路113_1とは別の部品で構成されている。
なお、スマートメータ用の通信装置は、単一周波数バンドの単一の通信方式に対応すれば十分であるケースが多い。比較のために携帯電話機の例を挙げると、携帯電話機では多数の周波数バンド、多数の通信方式に対応するため、典型的にはスイッチ回路(スイッチ回路117に対応)として8〜16ポートのものが複数使用されている。一方、スマートメータ用の通信装置は2ポートのスイッチ回路117で済むため、同じ無線通信装置でも、携帯電話機に比べるとその複雑さが大きく異なる。
(関連技術の問題点)
スマートメータでは、小型化、低コスト化のために、部品の集積度向上が継続的に検討されている。特にスマートメータに用いる通信装置では、単一周波数バンドの単一の通信方式に対応すればよいことから、集積化を進めることで装置構成を大幅に簡略化できる。例えば、図17に示す通信装置101_2は集積化を進めた構成を示しており、図16に示した半導体集積回路113_1(RF−IC)とMCU(102)とを1つの半導体集積回路113_2(つまり、半導体チップRF−SoC(Radio Frequency System on Chip))で構成した場合を示している。
このような集積化を進めた際に、最後まで集積化することができない部品がスイッチ回路117である。その理由は主に2つある。1つ目の理由は、スイッチ回路117が挿入される部分の特性インピーダンスはアンテナのインピーダンス(典型的には50Ω)であるため、送受信信号の電圧振幅が大きくなるからである。例えば、スマートメータで一般的に用いられている920MHz帯の特定小電力無線の場合、パワーアンプからの送信電力の上限は13dBmである。このとき、アンテナのインピーダンスを50Ωとすると、電圧振幅は約2.8Vppとなる。更に、アンテナに何らかの物体が触れるなどして信号の反射が生じるケースまで考慮すると、最大でこの2倍の電圧振幅まで考慮する必要がある。この電圧振幅は、RF−ICやRF−SoCに用いるプロセス、つまり半導体チップの微細化・低電圧化を実現するためのプロセスで製造されたMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)の許容印加電圧の数倍に相当する。このため、このような電圧振幅の大きな送受信信号の切り替えを扱うスイッチ回路には、後述するような専用のプロセスを用いて作製された半導体ICが必要となる。
2つ目の理由は、アンテナはスマートメータの表面付近、またはスマートメータの外部に突出して形成されているため、強固な静電気放電(ESD)に対する耐性(サージ耐性)が求められるからである。微細化・低電圧化を実現するプロセスで製造されたRF−ICやRF−SoCにおいて強固なサージ耐性を確保することは容易ではない。
このような理由から、通信装置101_1、101_2のスイッチ回路117には、特殊な製造プロセスを用いて製造されたスイッチ回路が用いられている。図18は、関連技術で用いられているスイッチ回路の一例を示す図である。図18に示すスイッチ回路117_1は、GaAs系の化合物半導体プロセスを用いて製造されたスイッチIC(123)と、スイッチIC(123)から漏れてくる直流バイアス成分を遮断する容量素子C101〜C103と、を用いて構成されている。上記で説明したRF−ICやRF−SoCはシリコンプロセス技術を用いて形成されているため、このような化合物半導体プロセスを用いて形成したスイッチIC(123)をそのままRF−ICやRF−SoCに集積化することはできない。
また、近年、SOI(Silicon On Insulator)−CMOS技術を用いて製造した高性能なスイッチ回路も用いられている。図19は、関連技術で用いられているスイッチ回路の他の構成例を示す図である。図19に示すスイッチ回路117_2は、複数のN型MOSFETが直列に接続されたスイッチ群125と、複数のN型MOSFETが直列に接続されたスイッチ群126と、を備える。スイッチ回路117_2は、SPDT(Single Pole Dual Throw)スイッチとして機能する。図19に示すスイッチ回路117_2では、複数のN型MOSFETを切り替えるために、正と負のバイアス電圧を生成するためのチャージポンプ回路CPと、生成した電圧をスイッチ群125、126に適宜供給するためのドライブ回路DRVとを備える。このスイッチ回路117_2は、RF−ICやRF−SoCと同じシリコンプロセス技術を用いて形成することができるが、以下に述べる理由により集積化は困難である。
すなわち、RF−ICやRF−SoCではバルク基板を用いているが、図19に示したスイッチ回路117_2ではSOI基板を用いる必要がある。また、RF−ICやRF−SoCでは微細化・低電圧化を実現するための微細化プロセスを用いている。しかし、図19に示したスイッチ回路117_2では、扱う信号の電圧振幅が大きいために、高い電圧を扱えるようなプロセス(微細化が数世代遅れたプロセス)を用いて製造される。更に、図19に示したスイッチ回路117_2ではチャージポンプ回路CPおよびドライブ回路DRVを必要とする。しかし、チャージポンプ回路CPやドライブ回路DRVをRF−ICやRF−SoCに混載すると、チャージポンプ回路CPやドライブ回路DRVの動作雑音が高周波送信特性や高周波受信特性に悪影響を及ぼす。
このような困難性を認識した上で、RF−ICやRF−SoCに用いる微細化・低電圧化プロセスを用いてスイッチ回路117を集積化すると、扱える信号の電圧振幅が制限されたり、サージ耐性が不足したりするおそれがある。一方、信号の電圧振幅やサージ耐性の制約を回避するために、一般的にI/O用途に用いられる高耐圧MOSFETを用いると、RF特性の劣化、チップ面積の増加、消費電力の増加などの悪影響が生じる。
以上で説明したように、関連技術にかかる通信装置101_1、101_2では、送受信回路とアンテナとの接続を切り換えるスイッチ回路は、スイッチ回路が扱う高周波信号の電圧振幅の大きさや静電気放電に対する耐性等の理由から十分に小型化されていない。このため、無線通信装置に使用される半導体集積回路の小型化が不十分であるという問題があった。以下で、このような問題を解決することができる半導体集積回路について説明する。
(半導体集積回路の構成:図2)
図2は、実施の形態1にかかる半導体集積回路の一例を示す回路図である。図2に示すように、本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、巻線L1と巻線L2とを備えるトランスT1、容量素子C2、スイッチSW1、低雑音アンプ回路LNA、及び制御回路10を備える。例えば、これらの構成要素はRF−ICやRF−SoCに集積化されている。アンテナノードN_ANTと半導体集積回路1の入力端子TM1との間には容量素子C1が設けられている。本実施の形態にかかる半導体集積回路1は、上記で説明したスマートメータ100の通信装置101に用いることができる。
半導体集積回路1のこれ以外の要素、つまり、低雑音アンプ回路LNA以降の回路等は、図16に示した関連技術にかかる通信装置101_1と同様であり、また本実施の形態にかかる半導体集積回路1の特徴部分ではないため説明を省略する。また、アンテナノードN_ANTには半導体集積回路1とは別の他の回路(典型的には送信回路)が並列に接続される。なお、半導体集積回路に送信回路が含まれる構成(図6)については、後述する。
図2に示すように、トランスT1の巻線L1の一端は入力端子TM1に接続され、他端は接地(交流的に接地)されている。トランスT1の巻線L2の一端(ノードN1)および他端(ノードN2)はそれぞれ低雑音アンプ回路LNAの入力端子に接続されている。トランスT1の巻線L2の一端と他端との間には、容量素子C2およびスイッチSW1がそれぞれ並列に接続されている。なお、容量素子C2は、低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンスの値によっては省略することができる。
図3は、スイッチSW1の一例を示す回路図である。スイッチSW1は、例えばN型のMOSFET(Tr10)と抵抗R10、R11とを用いて構成することができる。MOSFET(Tr10)のドレインおよびソースはそれぞれ、トランスT1の巻線L2のノードN1およびノードN2に接続されている。MOSFET(Tr10)のボディには、抵抗R11を介して0VのDCバイアスが印加される。MOSFET(Tr10)のゲートには、抵抗R10を介して制御信号SW1_CTR(電圧VDDまたは0V)が印加される。
つまり、MOSFET(Tr10)のゲートに電圧VDDが印加されている場合、MOSFET(Tr10)はオン状態(スイッチSW1は閉状態)となる。一方、MOSFET(Tr10)のゲートに0Vが印加されている場合、MOSFET(Tr10)はオフ状態(スイッチSW1は開状態)となる。なお、スイッチSW1はRF信号に対して開閉できればよいので、MOSFET(Tr10)のソースおよびドレインはそれぞれ、トランスT1の巻線L2のノードN1およびノードN2と容量結合されていてもよい。また、N型のMOSFET(Tr10)の代わりに、P型のMOSFETを用いてもよい。
制御回路10は、スイッチSW1の制御信号SW1_CTRとして、NMOSトランジスタTr10のゲートに電圧VDDまたは0Vの電圧を印加する。また、制御回路10は、半導体集積回路1に含まれる各々の回路(不図示)に制御信号CTRを供給する。例えば、制御回路10には、図1に示したMCU(102)から制御信号MCU_SIGが供給される。
(半導体集積回路の動作)
次に、半導体集積回路1の動作について説明する。
本実施の形態にかかる半導体集積回路1では、アンテナANT(所定のノード)からトランスT1の巻線L1に受信信号が供給される期間、スイッチSW1を開状態としてトランスT1を低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンス整合回路として機能させる。図2に示す半導体集積回路1では、トランスT1に加えて、容量素子C1および容量素子C2が低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンス整合回路を構成する。
一方、アンテナANT(所定のノード)に接続されている他の回路が動作する期間は、スイッチSW1を閉状態とする。この場合は、アンテナANT側から容量素子C1の側を見たときのインピーダンスが、十分小さい容量素子のインピーダンスと等価になる。なお、アンテナANTに接続されている他の回路が送信回路である場合、半導体集積回路1(受信回路)および他の回路(送信回路)の動作は、図7、図8に示すタイミングチャートの動作と同様になる(図7、図8に示す動作については後述する)。
このとき、トランスT1、容量素子C1、C2の回路定数を適切に選ぶことで、スイッチSW1を開いた状態では低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンスを整合することができ、また、スイッチSW1を閉じた状態では、アンテナANT側から半導体集積回路1を見たときのインピーダンスが、十分小さい容量と等価になるように設定することができる。
すなわち、スイッチSW1を開いた状態ではトランスT1を含む受信受動回路を受信動作に適した状態にすることができる。一方、スイッチSW1を閉じた状態では、アンテナANTに接続されている他の回路から見て、トランスT1を含む受信受動回路の影響を無視できるか、またはアンテナANT側から半導体集積回路1を見た際の等価容量(十分に小さい容量)を、他の回路のインピーダンス整合回路の構成要素の一つに含めて機能させることができる。
具体的に説明すると、図2に示す半導体集積回路1において、低雑音アンプ回路LNAの複素入力インピーダンス、容量素子C1の容量C1、巻線L1のインダクタンスL1、トランスT1の結合係数kの値がそれぞれ先に与えられている状態を仮定すると、残された自由度は巻線L2のインダクタンスL2の値と容量素子C2の容量C2の値の2つである。したがって、このような制約条件下でも、低雑音アンプ回路LNAの複素インピーダンス(=自由度2)に対するインピーダンス整合を図ることができる。
また、スイッチSW1を閉じると、スイッチSW1と並列接続されている容量素子C2および低雑音アンプ回路LNAは無視して考えることができる。すなわち、スイッチSW1を閉じた場合は、図4に示すような回路を考慮すればよい。この場合、アンテナANT側からみた等価回路は、図5のようになる。つまり、アンテナANT側から見たインピーダンスは、1/jωC1+jωL1(1−k)である。ここで、RF信号の角周波数において1/jωC3=1/jωC1+jωL1(1−k)とする。C1、L1、kの値は、低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンス整合とは関係なく任意に決定することができる値であるから、これらの値を適切に選ぶことで、C3の値を十分に小さい所定の値に設定することができる。
つまり、アンテナANTに接続されている他の回路から見ると、スイッチSW1を閉じた場合の半導体集積回路1の入力端子TM1は、容量C3と等価に見える。このとき、容量C3の値を十分に小さい値に設定した場合は、他の回路に対する影響を無視することができる。また、容量C3を他の回路のインピーダンス整合回路の構成要素の1つとして取り込むこともできる。
このように、本実施の形態にかかる半導体集積回路1では、RF信号経路に直列に挿入するスイッチ回路(図16〜図19参照)を用いずに、半導体集積回路1の入力部(入力端子TM1)をアンテナANTから切り離したのと同じ状態を実現することができる。
また、半導体集積回路1(RF−IC)の入力端子TM1には、トランスT1の1次側の巻線L1の一端が直接接続され、かつトランスT1の巻線L1の他端は接地される。ここで、トランスT1の1次側のインダクタンスは典型的には数nH程度である。トランスT1の巻線には太い配線が用いられることから、サージ耐量を確保するためにESD保護回路を別途設ける必要はなく、また、必要とされる場合でも簡易なもので済ませることができる。すなわち、半導体集積回路1(RF−IC)の入力端子TM1をトランスT1の1次側の巻線L1に直接接続することで、強固なサージ耐性を確保することができる。また、ESD保護回路を設ける必要がないので、その分だけ半導体集積回路1のチップ面積を小さくすることができる。また、ESD保護回路に起因する寄生容量を削減することができる。
また、トンランスT1の2次側の巻線L2に接続されているスイッチSW1が開状態になるのは、半導体集積回路1が受信動作をするときである。半導体集積回路1の受信電力の最大値は、典型的には−20dBm程度と小さいため、スイッチSW1が開状態のときに印加される電圧振幅は、スイッチSW1を構成するMOSFET(図3参照)でも十分に扱える程度である。また、アンテナANTに接続されている他の回路が送信回路である場合、送信状態では半導体集積回路1(RF−IC)の入力端子TM1に大きな電圧振幅が印加される。しかし、この時はスイッチSW1は閉状態であるため、スイッチSW1に印加される電圧振幅はほぼゼロである。以上のことから、スイッチSW1として、微細化・低電圧化を実現するための微細化プロセスで形成されたMOSFETを用いることができる。
また、半導体集積回路1が受信動作をするとき以外は、スイッチSW1を閉状態にすることが好ましい。一般に、低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンスはアンテナ系のインピーダンス(典型的には50Ω)よりも高いため、トランスT1はアンテナANT側から低雑音アンプ回路LNA側に向かってインピーダンスを上げるように設計される。したがって、スイッチSW1に要求されるON抵抗は、関連技術で用いられているアンテナANTの直近に配置されているスイッチ回路117(図16参照)の場合よりも高くすることができる。更に、RF−ICやRF−SoCを製造する際は微細化プロセスを用いることから、MOSFETの面積が小さい場合でも十分低いON抵抗を実現することができる。結果として、関連技術と比べて、スイッチSW1の面積を小さくすることができる。また、スイッチSW1に起因する寄生容量も小さくすることができる。
以上で説明したように、本実施の形態にかかる半導体集積回路1は上記構成を備えるので、関連技術で用いられていたスイッチ回路117(図18、図19)を用いる必要がない。このため、無線通信装置に使用される半導体集積回路の小型化を実現することができる。
(半導体集積回路の他の構成例:図6)
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路の他の構成例について説明する。図6は、本実施の形態にかかる半導体集積回路の他の構成例を示す回路図である。図6に示す半導体集積回路2は、図2に示した半導体集積回路1と比べて、送信受動回路12や送信アンプPA等の送信系の回路を備えている点が異なる。これ以外は、図2に示した半導体集積回路1と同様であるので重複した説明は省略する。
図6に示すように、半導体集積回路2は、巻線L1と巻線L2とを備えるトランスT1、容量素子C2、スイッチSW1、低雑音アンプ回路LNA、制御回路11、送信受動回路12、及び送信アンプPAを備える。例えば、これらの構成要素はRF−ICやRF−SoCに集積化されている。
トランスT1、容量素子C2、スイッチSW1、及び低雑音アンプ回路LNAを含む受信系の回路は、入力端子TM1を介してアンテナANTと接続されている。アンテナノードN_ANTと入力端子TM1との間には容量素子C1が設けられている。また、送信受動回路12および送信アンプPAを含む送信系の回路は出力端子TM2を介してアンテナノードN_ANTと接続されている。例えば、図6に示す半導体集積回路2は、上記で説明した関連技術の通信装置101に用いることができる。
半導体集積回路2のこれ以外の要素、つまり、低雑音アンプ回路LNA以降の回路および送信アンプPAよりも手前の回路は、図16に示した関連技術にかかる通信装置101_1と同様であり、また本実施の形態にかかる半導体集積回路2の特徴部分ではないため説明を省略する。また、図6に示す半導体集積回路2では、制御回路11が送信系の回路にも制御信号を供給している。なお、本実施の形態では、送信アンプPAが送信受動回路12に差動の送信信号を供給するように構成してもよく、また送信アンプPAが送信受動回路12に単相の送信信号を供給するように構成してもよい。
(図6に示す半導体集積回路の動作)
図6に示す半導体集積回路2は、アンテナANTからトランスT1の巻線L1に受信信号が供給される期間(受信動作期間)、スイッチSW1を開状態としてトランスT1を低雑音アンプ回路LNAの入力インピーダンス整合回路として機能させる。図6に示す半導体集積回路2では、トランスT1に加えて、容量素子C1および容量素子C2が低雑音アンプ回路LNAに対する入力インピーダンス整合回路を構成する。
一方、送信受動回路12および送信アンプPAを含む送信系の回路が動作する期間(送信動作期間)は、スイッチSW1を閉状態とする。この場合は、アンテナANT側から容量素子C1の側を見たときのインピーダンスが、十分小さい容量素子のインピーダンスと等価になる。このため、送信受動回路12および送信アンプPAを含む送信系の回路は、正常に送信動作を実行することができる。
次に、図6に示す半導体集積回路2の動作について具体的に説明する。図7は、半導体集積回路2の動作を説明するためのタイミングチャートである。図7に示すタイミングチャートでは、半導体集積回路2のスイッチSW1にノーマリonのスイッチを用いた場合を示している。スイッチSW1にノーマリonのスイッチを用いた場合は、制御回路11から出力された制御信号SW1_CTRがロウレベルの場合、スイッチSW1がオン状態(閉状態)となる。このとき、半導体集積回路2は送信動作が可能な状態となる。一方、制御回路11から出力された制御信号SW1_CTRがハイレベルの場合、スイッチSW1がオフ状態(開状態)となる。このとき、半導体集積回路2は受信動作が可能な状態となる。
つまり、スイッチSW1にノーマリonのスイッチを用いた場合は、半導体集積回路2が受信動作を行う直前のタイミングt1、t3に、スイッチSW1をオフ状態(開状態)として、半導体集積回路2が受信動作可能な状態とする。そして、半導体集積回路2が受信動作を終了した後のタイミングt2、t4において、スイッチSW1をオン状態(閉状態)として、半導体集積回路2が送信動作可能な状態とする。なお、半導体集積回路2が受信動作および送信動作の両方を実施しない場合は、スイッチSW1がノーマリonであるので、スイッチSW1をオン状態(閉状態)とする(例えば、タイミングt4〜t5参照)。
また、図8は、半導体集積回路2の動作を説明するためのタイミングチャートであり、半導体集積回路2のスイッチSW1としてノーマリoffのスイッチを用いた場合を示している。スイッチSW1にノーマリoffのスイッチを用いた場合は、制御回路11から出力された制御信号SW1_CTRがロウレベルの場合、スイッチSW1がオフ状態(開状態)となる。このとき、半導体集積回路2は受信動作が可能な状態となる。一方、制御回路11から出力された制御信号SW1_CTRがハイレベルの場合、スイッチSW1がオン状態(閉状態)となる。このとき、半導体集積回路2は送信動作が可能な状態となる。
つまり、スイッチSW1にノーマリoffのスイッチを用いた場合は、半導体集積回路2が送信動作を行う直前のタイミングt11、t13に、スイッチSW1をオン状態(閉状態)として、半導体集積回路2が送信動作可能な状態とする。そして、半導体集積回路2が送信動作を終了した後のタイミングt12、t14において、スイッチSW1をオフ状態(開状態)として、半導体集積回路2が受信動作可能な状態とする。なお、半導体集積回路2が受信動作および送信動作の両方を実施しない場合は、スイッチSW1がノーマリoffであるので、スイッチSW1をオフ状態(開状態)とする(例えば、タイミングt14〜t15参照)。
(半導体集積回路の実装例:図9〜図12)
次に、図9、図10を用いて本実施の形態にかかる半導体集積回路の実装例について説明する。図9に示すように、半導体集積回路2は半導体チップ(RF−IC)を用いて構成されており、各々の構成要素が半導体チップに集積化されている。半導体集積回路2の入力端子TM1と容量素子(チップ容量)23の一端は、高周波用の配線21を用いて接続されている。半導体集積回路2の出力端子TM2と容量素子23の他端は、配線22を用いて接続されている。配線22は、アンテナノードN_ANTに接続される配線である。
図10は、図9に示した半導体集積回路2(半導体チップ)を実装基板に実装した通信モジュール20を示す図である。図10に示すように、半導体集積回路2(半導体チップ)は実装基板に実装されている。半導体集積回路2と接続されている配線22は、アンテナコネクタ25と接続されている。実装基板には複数の容量素子(チップ容量)26が配置されている。また、実装基板の裏側にはMCU(102)(図1参照)と接続されるコネクタ27が配置されている。図10に示すように、通信モジュール20では、半導体集積回路2(半導体チップ)に機能の大半が集約されているため、半導体集積回路2以外に必要な構成要素は、アンテナコネクタ25、容量素子(チップ容量)26、及びコネクタ27のように少数にすることができる。なお、図9、図10では、電源配線、接地配線、制御配線等の図示を省略している。
図11、図12は、比較例にかかる半導体集積回路113の実装例を示す図である。半導体集積回路113は、図16に示した半導体集積回路113_1に対応している。このため、半導体集積回路113を用いる場合は、図16に示したスイッチ回路117が必要になる。また、GaAs技術を用いてスイッチ回路117を構成した場合は、スイッチ回路117から漏れてくる直流成分を遮断するために、3つの容量素子(チップ容量)が必要になる(詳細は、図18参照)。
図11に示すように、半導体集積回路113は半導体チップ(RF−IC)を用いて構成されており、各々の構成要素が半導体チップに集積化されている。半導体集積回路113の入力端子TM1およびスイッチ回路117は、配線131を用いて接続されている。入力端子TM1とスイッチ回路117との間には容量素子C101(チップ容量)が設けられている。半導体集積回路113の出力端子TM2およびスイッチ回路117は、配線132を用いて接続されている。出力端子TM2とスイッチ回路117との間には容量素子C102(チップ容量)が設けられている。スイッチ回路117およびアンテナノードN_ANTは、配線133を用いて接続されている。スイッチ回路117とアンテナノードN_ANTとの間には容量素子C103(チップ容量)が設けられている。
図12は、図11に示した半導体集積回路113(半導体チップ)を実装基板に実装した通信モジュール101を示す図である。図12に示すように、半導体集積回路113(半導体チップ)は実装基板に実装されている。配線133は、アンテナコネクタ135と接続されている。実装基板には複数の容量素子(チップ容量)136が配置されている。また、実装基板の裏側にはMCU(102)(図1参照)と接続されるコネクタ137が配置されている。なお、図11、図12では、電源配線、接地配線、制御配線等の図示を省略している。
図12に示した通信モジュール101ではスイッチ回路117が必要であり、また、スイッチ回路117から漏れてくる直流成分を遮断するために、3つの容量素子(チップ容量)が必要になる。このため、通信モジュール101が大面積化する。一方、図10に示した通信モジュール20では、スイッチ回路117および2つの容量素子を省略することができるので、その分だけ通信モジュール20を小型化することができる。なお、図9に示すように、半導体集積回路2ではスイッチ回路117を省略する代わりにスイッチSW1が必要なる。しかし、スイッチSW1は、例えばCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等を用いて構成することができるので、スイッチSW1の面積は受信回路を構成する他の回路構成要素に比べて十分小さくすることができる。
(半導体集積回路の他の実装例:図13)
次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路の汎用性について説明する。例えば、送信信号の不要波に関する規定が厳しい場合や、受信信号帯域の近傍に強い妨害波の存在が想定される場合には、送信側または受信側、若しくはその両方にSAW(Surface Acoustic Wave)フィルタを設けるのが一般的である。
図13は、本実施の形態にかかる半導体集積回路の他の実装例を示す図であり、送信側と受信側の両方にSAWフィルタを設けた構成を示している。図13に示す構成では、送信側とアンテナノードN_ANTとの接続、及び受信側とアンテナノードN_ANTとの接続を切り替えるために、スイッチ回路117が必要になる。受信側の入力端子TM1とスイッチ回路117との間にはSAWフィルタ141が設けられている。また、送信側の出力端子TM2とスイッチ回路117との間にはSAWフィルタ142が設けられている。
ここで、図6に示した半導体集積回路2(半導体チップ)では、受信信号の経路にスイッチSW1が設けられているが、スイッチSW1のサイズは小さい。このため、図6に示した半導体集積回路2(半導体チップ)を、図13に示したSAWフィルタを備える構成の通信装置に用いても、特性、コスト、回路面積において何らデメリットは生じない。すなわち、図6に示した通信装置(SAWフィルタがない構成)と図13に示した通信装置(SAWフィルタを備える構成)とで、同一の半導体集積回路2(半導体チップ)を用いることができる。
近年のRF−ICやRF−SoCなどの半導体チップは機能が複雑化してきている。このため、半導体チップを製造する側および半導体チップを使用する側にとって、このように複数の用途に同じ半導体チップを用いることができる利点は大きい。具体的には、半導体チップを製造する側にとっては製品設計時の検証、品質保証の為の信頼性テスト、生産量の管理、生産後の在庫管理、各種ドキュメント類の整備に要する費用、時間等を少なくすることができる。また、半導体チップを使用する側にとっては、半導体チップを導入する際の基本性能検証、ソフトウェアとの組み合わせ動作評価、信頼性検証、生産時の手持ち在庫の管理などに要する費用、時間を少なくすることができる。
以上で説明したように、本実施の形態にかかる半導体集積回路2は、様々な構成を備える通信装置に用いることができるので汎用性がある。この場合でも、通信装置の特性、コスト、回路面積において何らデメリットは生じない。よって、例えば、本実施の形態にかかる技術を用いたスマートメータと、関連技術にかかるスマートメータとで、使用する半導体集積回路の共通化を図ることができる。これにより、スマートメータを構成する際のトータルコスト、開発等に要する時間等を節約することができる。
(半導体集積回路の他の構成例:図14)
次に、図14を用いて本実施の形態にかかる半導体集積回路の他の構成例について説明する。図2に示した半導体集積回路1では、アンテナノードN_ANTと入力端子TM1との間に容量素子C1を設けた構成を示した。しかし、本実施の形態では、図14に示した半導体集積回路3のように、端子TM1’と接地電位との間に容量素子C1’を設けてもよい。ここで、端子TM1’は巻線L1の他端と接続されている端子である。また、容量素子C1’は半導体集積回路3の外に設けられている。
つまり、図2、図14に示したように、本実施の形態にかかる半導体集積回路では、トランスT1の巻線L1と直列に接続された容量素子C1(C1’)を設ければよく、この容量素子を設ける位置は任意に決定することができる。このとき、巻線L1と容量素子C1(C1’)とを含む回路の一端にはアンテナANTから受信信号が供給され、他端は交流的に接地される。なお、図14に示した半導体集積回路3の容量素子C1’以外の構成については、図2に示した半導体集積回路1と同様であるので重複した説明は省略する。
(半導体集積回路の他の構成例:図15)
また、図2に示した半導体集積回路1では、トランスT1の巻線L2の一端(ノードN1)および他端(ノードN2)がそれぞれ低雑音アンプ回路LNAの入力端子に接続されている構成、つまり低雑音アンプ回路LNAに差動信号が供給される構成を示した。しかし、本実施の形態では、図15に示した半導体集積回路4のように、トランスT1の巻線L2の一端(ノードN1)のみを低雑音アンプ回路LNAの入力端子に接続し、巻線L2の他端(ノードN2)を交流的に接地するように構成してもよい。つまり、低雑音アンプ回路LNAの入力を単相入力としてもよい。なお、図15に示した半導体集積回路4の他の構成については、図2に示した半導体集積回路1と同様であるので重複した説明は省略する。
<実施の形態2>
次に、実施の形態2について説明する。図20は、実施の形態2にかかる半導体集積回路5の一例を示す回路図である。図20に示す半導体集積回路5では、図6に示した半導体集積回路2が備える送信受動回路12および送信アンプ回路PAの具体的な構成例を示している。これ以外については、実施の形態1で説明した半導体集積回路と同様であるので、重複した説明は省略する。
(半導体集積回路の構成:図20)
図20に示すように、半導体集積回路5は、巻線L1と巻線L2とを備えるトランスT1、容量素子C2、スイッチSW1、低雑音アンプ回路LNA、巻線L4と巻線L5とを備えるトランスT2、容量素子C5、送信アンプ回路PA、及び制御回路11を備える。なお、受信系の回路要素、つまりトランスT1、容量素子C2、スイッチSW1、及び低雑音アンプ回路LNAについては実施の形態1で説明した場合と同様であるので重複した説明は省略する。
図20に示すように、トランスT2の巻線L5の一端および他端はそれぞれ送信アンプ回路PAの出力端子に接続されている。つまり、トランスT2の巻線L5の一端および他端には送信アンプ回路PAから送信信号が供給される。トランスT2の巻線L4の一端は出力端子TM2に接続され、他端は接地(交流的に接地)されている。トランスT2の巻線L4の一端と他端との間には、容量素子C5が接続されている。なお、容量素子C5は、送信アンプ回路PAの出力インピーダンスの値によっては省略することができる。
半導体集積回路5の入力端子TM1とアンテナANTとの間には容量素子C1が接続されている。また、半導体集積回路5の出力端子TM2とアンテナANTとの間には容量素子C4が接続されている。
例えば、送信アンプ回路PAはCMOS型の差動パワーアンプ回路であり、PMOSトランジスタTr1、Tr3、及びNMOSトランジスタTr2、Tr4を備える。PMOSトランジスタTr1のドレインおよびNMOSトランジスタTr2のドレインはトランスT2の巻線L5の一端と接続されており、PMOSトランジスタTr3のドレインおよびNMOSトランジスタTr4のドレインはトランスT2の巻線L5の他端と接続されている。各々のトランジスタTr1〜Tr4のゲートには、制御回路11から制御信号PA_CTR(駆動電圧)が供給される。
(半導体集積回路の動作)
次に、半導体集積回路5の動作について説明する。
半導体集積回路5が送信動作をする際、制御回路11はスイッチSW1を閉状態とする(実施の形態1参照)。また、送信アンプ回路PAは、トランスT2の巻線L5に送信信号を供給する。このときの送信アンプ回路PAの動作モードを送信モードと称す。
具体的には、制御回路11は送信アンプ回路PAの各々のトランジスタTr1〜Tr4に制御信号PA_CTRを供給し、送信アンプ回路PAから送信信号(差動信号)が出力されるように制御する。このとき、トランスT2は送信アンプ回路PAのインピーダンス整合回路として機能する。図20に示す半導体集積回路5では、トランスT2に加えて、容量素子C4および容量素子C5が送信アンプ回路PAのインピーダンス整合回路を構成する。
一方、半導体集積回路5が受信動作をする際、制御回路11はスイッチSW1を開状態とする(実施の形態1参照)。また、送信アンプ回路PAは、トランスT2の巻線L5の両端を短絡する。このときの送信アンプ回路PAの動作モードを短絡モードと称す。
具体的には、制御回路11は、送信アンプ回路PAが備えるNMOSトランジスタTr2およびNMOSトランジスタTr4をオン状態とし、PMOSトランジスタTr1およびPMOSトランジスタTr3をオフ状態とする。これにより、トランスT2の巻線L5の両端が接地電位に接続される。よって、トランスT2の巻線L5の両端が短絡される。または、制御回路11は、送信アンプ回路PAが備えるNMOSトランジスタTr2およびNMOSトランジスタTr4をオフ状態とし、PMOSトランジスタTr1およびPMOSトランジスタTr3をオン状態とする。これにより、トランスT2の巻線L5の両端が電源電位に接続される。よって、トランスT2の巻線L5の両端が短絡される。このように、トランスT2の巻線L5の両端を短絡することで、アンテナANT側から容量素子C4の側を見たときのインピーダンスを、十分小さい容量素子のインピーダンスと等価にすることができる。
図20に示すように、送信側の整合回路の素子数は、受信側の整合回路の素子数と同じである。つまり、送信側の整合回路の設計上の自由度は受信側の整合回路の設計上の自由度と同じであり、実施の形態1で説明した受信回路と同様の設計が可能となる。つまり、トランスT2、容量素子C4、C5の回路定数を適切に選ぶことで、半導体集積回路5が送信動作をする際は、送信アンプ回路PAの出力インピーダンスを整合することができる。また、受信動作をする際は、トランスT2の巻線L5の両端を短絡することで、アンテナANT側から容量素子C4の側を見たときのインピーダンスを、十分小さい容量素子のインピーダンスと等価にすることができる。つまり、トランスT2を含む送信受動回路の影響を無視できるか、またはアンテナANT側から半導体集積回路5を見た際の等価容量(十分に小さい容量)を、受信回路のインピーダンス整合回路の構成要素の一つに含めて機能させることができる。
<実施の形態3>
(半導体集積回路の構成:図21)
次に、実施の形態3について説明する。図21は、実施の形態3にかかる半導体集積回路6の一例を示す回路図である。図21に示す半導体集積回路6では、容量素子C1を半導体集積回路6(半導体チップ)の内部に形成している点が、図2に示した半導体集積回路1と異なる。これ以外については、実施の形態1で説明した半導体集積回路と同様であるので、重複した説明は省略する。
図21に示すように、容量素子C1は半導体集積回路6(半導体チップ)の内部に形成されている。ここで、容量素子C1はサージ耐量を備えるように構成されている。例えば、容量素子C1は隣接配線間容量を利用して構成することができる。このように、容量素子C1を半導体集積回路6(半導体チップ)の内部に設けて集積化することで、無線通信装置に使用される半導体集積回路の更なる小型化やコスト低減を実現することができる。
(半導体集積回路の構成:図22)
更に本実施の形態では、図22に示す半導体集積回路7のように、トランスT1の巻線L1(つまり、受信系回路の入力側)と送信受動回路12の出力側(つまり、送信系回路の出力側)とが半導体集積回路7(半導体チップ)の内部において互いに接続されるように構成してもよい。この場合は、半導体集積回路7の入出力端子TM3に受信系回路の入力側と送信系回路の出力側とが接続される。このような構成とすることで、半導体集積回路7からアンテナANTまでの配線を1本にすることができ、半導体集積回路7を実装基板に実装した際の実装面積を削減することができる。
<その他の実施の形態>
次に、その他の実施の形態について説明する。
本実施の形態では、上記で説明した半導体集積回路に使用するスイッチSW1を下記のようにして構成してもよい。
(スイッチSW1の構成例:図23)
図23は、スイッチSW1の構成例を示す回路図である。スイッチSW1は、例えばN型のMOSFET(Tr11)、抵抗R12〜R15、及び容量素子C11、C12を用いて構成することができる。MOSFET(Tr11)のドレインおよびソースにはそれぞれ、容量素子C11および容量素子C12が設けられている。換言すると、MOSFET(Tr11)のドレインおよびソースはそれぞれ、容量素子C11および容量素子C12を介して、トランスT1の巻線L2の一端(ノードN1)および他端(ノードN2)に接続されている。また、MOSFET(Tr11)のドレインおよびソースにはそれぞれ抵抗R13および抵抗R15を介して0VのDCバイアスが印加される。また、MOSFET(Tr11)のボディには、抵抗R14を介して0VのDCバイアスが印加される。MOSFET(Tr11)のゲートには、抵抗R12を介して制御信号SW1_CTR(電圧VDDまたは0V)が印加される。
スイッチSW1をこのような構成とすることで、スイッチSW1を挿入するトランスT1の2次側の巻線L2のDCバイアス電位を自由に設定することができる。なお、図23に示したスイッチSW1において、N型のMOSFET(Tr11)の代わりにP型のMOSFETを用いてもよい。
(スイッチSW1の構成例:図24)
図24は、スイッチSW1の構成例を示す回路図である。図24に示すスイッチSW1は、図23に示したスイッチSW1と同様の構成を備える。しかし、図24に示すスイッチSW1では、N型のMOSFET(Tr11)のドレインおよびソースに与えるDCバイアスを、ゲートに与える電圧と逆位相の電圧(0Vまたは電圧VDD)としている。つまり、MOSFET(Tr11)のゲートに0Vが印加されている場合、MOSFET(Tr11)のドレインおよびソースにはVDDが印加される。一方、MOSFET(Tr11)のゲートに電圧VDDが印加されている場合、MOSFET(Tr11)のドレインおよびソースには0Vが印加される。換言すると、MOSFET(Tr11)のゲートには制御信号SW1_CTR_1が印加され、ドレインおよびソースには制御信号SW1_CTR_1と逆位相の制御信号SW1_CTR_2が印加される。
このような構成とすることで、MOSFET(Tr11)がオフ状態のときのゲート・ソース間電圧を−VDDとすることができる。よって、半導体集積回路に大きな電圧振幅を有する受信信号が供給されたとしても、スイッチSW1をオフ状態に保つことができる。
(スイッチSW1の構成例:図25)
本実施の形態では、図24に示したスイッチSW1におけるMOSFET(Tr11)を2段直列に接続してもよい。つまり、図25に示すように、N型のMOSFET(Tr11)と直列にN型のMOSFET(Tr11’)を接続してもよい。このとき、追加されたMOSFET(Tr11’)のボディには、抵抗R14’を介して0VのDCバイアスが印加される。また、追加されたMOSFET(Tr11’)のゲートには、抵抗R12’を介して制御信号SW1_CTR_1(電圧VDDまたは0V)が印加される。これ以外の構成については図24に示したスイッチSW1と同様である。なお、直列に接続するMOSFETの数は3つ以上であってもよい。
このように、複数のMOSFETを直列に接続することで、半導体集積回路により大きな電圧振幅を有する受信信号が供給されたとしても、スイッチSW1をオフ状態に保つことができる。
なお、上記では本実施の形態にかかる半導体集積回路をスマートメータに適用する場合を示したが、本実施の形態にかかる半導体集積回路は、スマートメータ以外の通信回路を備える装置にも適用することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1、2、3、4、5、6、7 半導体集積回路
10、11 制御回路
12 送信受動回路
21、22 配線
23 容量素子
25 アンテナコネクタ
26 容量素子
27 コネクタ

Claims (14)

  1. 第1および第2の巻線を備え、所定の結合係数を有する第1のトランスと、
    前記第1のトランスの前記第2の巻線の少なくとも一端が入力端子に接続された、無線信号を増幅するための低雑音アンプ回路と、
    前記第1のトランスの前記第2の巻線の前記一端と他端との間に設けられたスイッチと、を備え、
    前記第1のトランスの前記第1の巻線の一端に、第1の容量素子を介して受信信号が供給され、
    受信動作期間である第1の期間、前記スイッチを開状態として前記第1のトランスを前記低雑音アンプ回路の入力インピーダンス整合回路として機能させ、
    前記第1の容量素子の前記受信信号が供給される側のノードである所定のノードに接続された他の回路が動作する第2の期間、前記スイッチを閉状態とする、
    半導体集積回路。
  2. 前記第1のトランスの前記第2の巻線の前記一端と前記他端との間に、前記スイッチと並列に設けられた第2の容量素子を更に備える、請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 前記第1の容量素子は前記半導体集積回路に内蔵され、前記第1の巻線と前記第1の容量素子とを含む回路の一端に前記受信信号が供給され、他端は交流的に接地されている、
    請求項1に記載の半導体集積回路。
  4. 前記第1のトランスの前記第2の巻線の前記一端および前記他端が前記低雑音アンプ回路の前記入力端子に接続されている、請求項1に記載の半導体集積回路。
  5. 少なくとも前記第1のトランスと前記低雑音アンプ回路と前記スイッチとが1つの半導体チップに集積化されている、請求項1に記載の半導体集積回路。
  6. 前記半導体集積回路は、前記所定のノードに接続された他の回路として送信回路を備え、
    前記第1の期間は前記半導体集積回路が受信動作をする期間であり、
    前記第2の期間は前記半導体集積回路が送信動作をする期間である、
    請求項1に記載の半導体集積回路。
  7. 前記送信回路は、
    第1および第2の巻線を備える第2のトランスと、
    前記第2のトランスの前記第1の巻線の少なくとも一端が出力端子に接続された送信アンプ回路と、を備え、
    前記第2のトランスの前記第2の巻線の一端は前記所定のノードに電気的に接続されており、他端は交流的に接地されており、
    前記第2のトランスは、前記第2の期間、前記送信アンプ回路のインピーダンス整合回路として機能する、
    請求項6に記載の半導体集積回路。
  8. 前記送信アンプ回路は、前記第2のトランスの前記第1の巻線に送信信号を供給する送信モードと、前記第2のトランスの前記第1の巻線の両端を短絡する短絡モードとを備え、
    前記第1の期間、前記送信アンプ回路は前記短絡モードで動作し、
    前記第2の期間、前記送信アンプ回路は前記送信モードで動作する、
    請求項7に記載の半導体集積回路。
  9. 前記第2のトランスの前記第2の巻線と接続された出力端子と前記所定のノードとの間に接続された第3の容量素子を更に備える、
    請求項7に記載の半導体集積回路。
  10. 少なくとも前記第1のトランスと前記低雑音アンプ回路と前記スイッチと前記第1の容量素子とが1つの半導体チップに集積化されている、請求項3に記載の半導体集積回路。
  11. 少なくとも前記第1のトランスと前記低雑音アンプ回路と前記スイッチと前記送信回路とが1つの半導体チップに集積化されており、
    前記第1のトランスの前記第1の巻線と前記送信回路の出力側とが前記半導体チップ内において前記半導体チップが備える入出力端子と接続されている、
    請求項6に記載の半導体集積回路。
  12. 請求項9に記載の前記半導体集積回路が備える前記第1および第2のトランス、前記低雑音アンプ回路、前記スイッチ、前記送信アンプ回路、並びに前記第1および第3の容量素子が少なくとも集積化されている通信モジュール。
  13. 請求項12に記載の通信モジュールを備えるスマートメータ。
  14. 第1および第2の巻線を備え、所定の結合係数を有する第1のトランスと、
    前記第1のトランスの前記第2の巻線の少なくとも一端が入力端子に接続された、無線信号を増幅するための低雑音アンプ回路と、
    前記第1のトランスの前記第2の巻線の前記一端と他端との間に設けられたスイッチと、
    前記第1のトランスの前記第1の巻線の一端と接続された入力端子と、
    送信回路が接続されている出力端子と、が集積化された半導体チップと、
    前記入力端子に接続された容量素子と、
    前記半導体チップを実装する実装基板と、を備え、
    前記半導体チップが受信動作をする期間、前記スイッチを開状態として前記第1のトランスを前記低雑音アンプ回路の入力インピーダンス整合回路として機能させ、
    前記半導体チップが送信動作をする期間、前記スイッチを閉状態とする、
    通信モジュール。
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