JP6473294B2 - 穿孔薄膜及びそれを用いた蓄電装置、並びに穿孔薄膜の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、穿孔薄膜及び穿孔薄膜を用いた蓄電装置に関する。

近年、プラスチック薄膜、紙、金属箔等の基材に対して樹脂、溶液等をコーティングすることにより、基材の耐熱性、耐腐食性等を向上することが行われる。この時、基材にコーティングされた塗工物の剥離を抑制するために、接着剤を基材表面に塗布すること、基材表面に微細な凹凸を施すこと等が行われる。基材表面に微細な凹凸を施す方法として、例えば特許文献１にはコロナ処理が挙げられ、特許文献２にはサンドブラスト処理が挙げられる。

特開平９−２４４５１９号公報 特開２００６−３１９１３０号公報

基材にコーティングされた塗工物の剥離を確実に抑制するため、上述のような凹凸加工を基材に施すだけでなく、基材表面に接着剤を塗布した後にコーティングを施すことが一般的である。しかしながら、例えば当該基材がリチウムイオンキャパシタ等の蓄電装置に用いられる電極の場合、接着剤が用いられることによって電極の電気特性が低下してしまう問題がある。このため、塗工物に対する接着性がよいことにより、接着剤を用いる必要がない基材が求められている。

そこで、本発明は、塗工物との接着性を向上することが可能な穿孔薄膜及び穿孔薄膜を用いた蓄電装置を提供することを課題とする。

本発明の一態様に係る穿孔薄膜は、第１面と、第１面に対向する第２面とを備え、第１面から第２面に貫通する貫通孔が設けられる穿孔薄膜であって、貫通孔は第１面に開口して第２面側から第１面に向かって広がる第１領域と、第２面に開口して第１面側から第２面に向かって広がる第２領域と、を有する。

本発明の一態様に係る穿孔薄膜では、例えば第１面に塗工物となる流動性物質をコーティングすると、当該流動性物質は、貫通孔の第１領域から第２領域へ侵入する。第２領域は、第２面に開口して第１面側から第２面に向かって広がることから、第２領域に充填された塗工物は、第１面にコーティングされた塗工物に対してアンカー効果を発揮する。したがって、上記第１領域及び第２領域を有する貫通孔が設けられることによって、塗工物との接着性を向上することが可能になる。

本発明の一態様に係る穿孔薄膜において、貫通孔は、厚さ方向において、第１領域と第２領域との間に断面略矩形状の第３領域を有してもよい。第３領域が第１領域又は第２領域に対して流動性物質の流速を増加するノズルとして設けられることによって、一方の領域にコーティングされた流動性物質が貫通孔を介して他方の領域により侵入しやすくなる。

本発明の一態様に係る穿孔薄膜において、第１領域と第２領域との少なくとも一つは、断面略円弧形状であってもよい。例えば流動性物質がコーティングされる面が第１面であり、第１領域が断面略円弧形状となる場合、第１面における第１領域の開口面積が大きくなることから、流動性物質が貫通孔に侵入する際の圧力損失が低減される。

本発明の一態様に係る穿孔薄膜において、穿孔薄膜の厚さは、１〜２００μｍであってもよい。当該厚さを有する穿孔薄膜は、例えば蓄電装置に好適に用いられる。

本発明の他の一態様に係る蓄電装置は、上記段落に記載したいずれかの穿孔薄膜と、穿孔薄膜の少なくとも一方の面上に電極ペーストを塗布し、電極ペーストを乾燥させることによって形成される塗工物と、を有する電極を備えていてもよい。この蓄電装置では、上記段落に記載したいずれかの穿孔薄膜を有する電極が用いられることにより、良好な電気特性が発揮される。

本発明によれば、塗工物との接着性を向上することが可能な穿孔薄膜及び穿孔薄膜を用いた蓄電装置を提供できる。

図１は、第１実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。 図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線矢視部分断面図を示す。 図３は、第１実施形態に係る穿孔薄膜に対するコーティング方法を説明する図である。 図４は、薄膜に貫通孔を形成する方法を示す概略図である。 図５は、蓄電装置の概略断面図を示す。 図６は、第２実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。 図７は、穿孔薄膜における種々の貫通孔の配置を示す図である。 図８は、第３施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。 図９は、第４実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。 図１０は、実施例１〜４の穿孔薄膜における貫通孔の配置を示す図である。

以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態に係る穿孔薄膜を詳細に説明する。以下の実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明は以下の内容に限定されない。また、添付図面は実施形態の一例を示したものであり、形態はこれに限定して解釈されるものではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。図面の寸法及び比率は図示されたものに限られるものではない。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。図１に示されるように、穿孔薄膜１は、方向Ａに延びる長尺の薄膜であって、複数の貫通孔１１が設けられている。方向Ａは長手方向（ＭＤ）である。方向Ａに直交する方向Ｂは、幅方向（ＴＤ）である。穿孔薄膜１は、例えば電池の電極用薄膜、防虫成分透過膜等の気化物質透過膜、ＥＴＯガス透過膜等の減菌ガス透過膜、芳香成分透過膜等の芳香物質透過膜、発酵食品ガス透過膜等の内容物発生ガス透過膜、フレキシブル基板等の様々な用途に用いられる。

穿孔薄膜１は、切断片であってもよく、ロール状の捲回体であってもよい。穿孔薄膜１の長さ及び幅は特に規定されるものではなく、ロール状の捲回体で製造、使用されるような、製膜機、ラミネート機、スリット機及び充填機等の設備において巻き取りやセットすることが可能な長さ及び幅であることが好ましい。一例としてスリット機を用いたＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌでの加工が行われるのであれば、穿孔薄膜１の長さは２０００ｍ以下が好ましく、穿孔薄膜１の幅は１５００ｍｍ以下が好ましい。また、穿孔薄膜１の厚さは、例えば１μｍ〜２００μｍであり、５μｍ〜１５０μｍであり、１０μｍ〜１００μｍである。穿孔薄膜１の厚さが１μｍ未満の場合、穿孔薄膜１に破断が生じやすくなる。穿孔薄膜１の厚さが２００μｍより大きい場合、穿孔薄膜１の貫通孔１１内にコーティングされる物質が十分に充填されなくなる。穿孔薄膜１の規定面積当たりの貫通孔１１の面積の割合（穿孔率）は、用途に応じて設定可能であり、例えば１×１０^−６〜１×１０^−１％程度である。

穿孔薄膜１として、例えばアルミ箔、銅箔、ニッケル箔等の金属箔、又はステンレス等の合金箔が用いられる。また、穿孔薄膜１を構成する薄膜の材質として、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、二軸延伸ナイロン（ＯＮｙ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）、アルミニウム箔、ポリイミド、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、又はリニアローデンシティポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）等が用いられてもよい。この他にも、穿孔薄膜１として、セロハン、紙、又は不織布等も用いられ得る。本実施形態に係る穿孔薄膜１では、アルミ箔が用いられる。

穿孔薄膜１は、第一面１ａと、第一面１ａと反対側の面である第二面１ｂと、を有している。穿孔薄膜１は、方向Ｂにおいて互いに対向する辺１ｃと辺１ｄとを有している。辺１ｃ及び辺１ｄは、方向Ａに沿って延びている。穿孔薄膜１の膜表面には、方向Ａに沿って延びる複数の仮想線ＶＬ１と、方向Ｂに沿って延びる複数の仮想線ＶＬ２（第２仮想線）とが示されている。複数の仮想線ＶＬ１は、一定のピッチＰ１で配列されており、そのピッチＰ１は例えば０．５ｍｍ以上程度である。複数の仮想線ＶＬ２は、一定のピッチＰ２で配列されており、そのピッチＰ２は例えば０．５ｍｍ以上程度である。図１の例では、ピッチＰ１とピッチＰ２とが同一であるので、仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とによって複数の正方形が形成されている。仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とは、直交している。

貫通孔１１は、穿孔薄膜１を貫通する孔であって、穿孔薄膜１の厚さ方向から見て例えば円形状、楕円形状、方形形状、又は多角形形状を呈している。穿孔薄膜１の厚さ方向に沿った貫通孔１１の直径は一定ではなく、貫通孔１１における最も大きい直径は例えば１０μｍ〜２００μｍ程度である。貫通孔１１は規則的に配置されている。貫通孔１１の各々は、例えば、複数の仮想線ＶＬ１（第１仮想線）と複数の仮想線ＶＬ２（第２仮想線）との交点に配置されている。

図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線矢視部分断面図を示す。図２に示されるように、貫通孔１１は、穿孔薄膜１の第一面１ａ側に位置する第一領域１１ａと、第二面１ｂ側に位置する第二領域１１ｂと、第一領域１１ａと第二領域１１ｂとの間に位置する第三領域１１ｃとを有する。第一領域１１ａと、第二領域１１ｂと、第三領域１１ｃとは、互いに連通している。穿孔薄膜１の厚さ方向を方向Ｃとすると、第一領域１１ａの中心と、第二領域１１ｂの中心と、第三領域１１ｃの中心とは、方向Ｃに沿って互いに重なっていてもよい。

第一領域１１ａは、第一面１ａに開口して第二面１ｂ側から第一面１ａに向かって広がる形状を有する。第一領域１１ａにおける少なくとも一つの断面は、第二面１ｂ側から第一面１ａに向かって断面略円弧形状を描くように広がっている。第一領域１１ａは、穿孔薄膜１の厚さ方向中心側よりも第一面１ａ側に位置してもよい。第一領域１１ａの深さは、例えば０．５μｍ〜１００μｍ程度である。方向Ｂに沿った第一領域１１ａの最大径である径ｄ１は、例えば１００μｍ〜６０００μｍ程度である。方向Ｂに沿った第一領域１１ａの最小径である径ｄ２は、例えば０．５μｍ〜５００μｍ程度である。

第二領域１１ｂは、第二面１ｂに開口して第一面１ａ側から第二面１ｂに向かって広がる形状を有する。第二領域１１ｂにおける少なくとも一つの断面は、第一面１ａ側から第二面１ｂに向かって断面略台形形状を描くように広がっている。第二領域１１ｂは、穿孔薄膜１の厚さ方向中心側よりも第二面１ｂ側に位置してもよい。第二領域１１ｂの深さは、例えば０．５μｍ〜１００μｍ程度である。方向Ｂに沿った第二領域１１ｂの最大径である径ｄ３は、例えば５０μｍ〜３０００μｍ程度であり、第一領域１１ａの径ｄ１よりも短い。方向Ｂに沿った第二領域１１ｂの最小径である径ｄ４は、例えば０．５μｍ〜５００μｍ程度である。

第三領域１１ｃは、方向Ｃにおいて第一領域１１ａと第二領域１１ｂとの間に位置しており、断面略矩形状を有する。第三領域１１ｃは、例えば直方体形状、立方体形状、又は種々の多面体である。第３領域の深さは、例えば０．１μｍ〜１００μｍ程度である。方向Ｂに沿った第三領域１１ｃの径ｄ５は、例えば２μｍ〜５００μｍ程度である。第三領域１１ｃの径ｄ３は、第一領域１１ａの径ｄ２及び第二領域１１ｂの径ｄ４と略同一である。

本実施形態に係る穿孔薄膜１は、種々の流動性物質によってコーティングされてもよい。ここでコーティングは、塗布された物質が硬化処理等を通じて穿孔薄膜に接着及び固定化することを指す。以下、図３を用いながら穿孔薄膜１上に塗工物を形成する方法の一例について説明する。図３の（ａ）〜（ｄ）は、本実施形態に係る穿孔薄膜に対するコーティング方法を説明する図である。

図３の（ａ）に示されるように、穿孔薄膜１の第一面１ａに流動性物質２１をコーティングする。流動性物質２１は、貫通孔１１における第一領域１１ａを埋めるように穿孔薄膜１にコーティングされる。流動性物質２１は、ある程度の流動性を有するペースト状、液体状、ゲル状等の物質である。流動性物質２１としては、例えば導電性物質若しくは活物質を含有する溶液、導電性高分子、又は耐熱性樹脂等が挙げられる。導電性物質としては、例えば金属（金、銀等）微粒子又は合金材料等が挙げられる。活物質としては、例えばコバルト酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸マンガンリチウム、リン酸コバルトリチウム、又は炭素系材料（カーボンブラック、グラファイト（黒鉛）、グラフェン）等が挙げられる。導電性高分子としては、例えばポリアセチレン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、又はポリアニリンなどが挙げられる。耐熱性樹脂としては、例えばポリイミド、ポリエステル、又はポリベンゾイミダゾール等が挙げられる。

次に、図３の（ｂ）に示されるように、流動性物質２１の一部は第一領域１１ａを介して第三領域１１ｃに侵入する。第一領域１１ａは、第一面１ａから第三領域１１ｃに向かって開口面積が減少するため、第一面１ａ側から第三領域１１ｃに向かう流動性物質２１の流速は増加する。また、第三領域１１ｃの径ｄ３は、第一領域１１ａの最小径である径ｄ４程度と小さいため、第三領域１１ｃ内における流動性物質２１の流れは、層流になりやすい。したがって、流動性物質２１は第一領域１１ａから第三領域１１ｃに良好に侵入する。

次に、図３の（ｃ）に示されるように、第三領域１１ｃに侵入した流動性物質２１は、第二領域１１ｂに侵入する。上述のように第三領域１１ｃに侵入した流動性物質２１の流れは層流になりやすいため、第三領域１１ｃが流動性物質２１の流速を増加するノズルとして機能し、流動性物質２１は、第三領域１１ｃから第二領域１１ｂへ良好に侵入する。また、第二領域１１ｂは、第三領域１１ｃから第二面１ｂに向かって開口面積が増加する。したがって、第二領域１１ｂにおいて、第二面１ｂ側に向かう流動性物質２１の流速は減少する。この流動性物質２１の速度減少と、第二面１ｂにおける流動性物質２１の表面張力とにより、第二領域１１ｂに侵入した流動性物質２１が穿孔薄膜１から飛散することが抑制される。

最後に、図３の（ｄ）に示されるように、流動性物質２１が第二領域１１ｂに侵入した後、流動性物質２１に例えば硬化処理を施すことによって、穿孔薄膜１の第一面１ａ上に塗工物２２を形成する。硬化処理としては、例えば熱処理、光（可視光、赤外線、紫外線）照射処理等が挙げられる。塗工物２２は、第一面１ａを覆うと共に、貫通孔１１の第一領域１１ａ、第二領域１１ｂ及び第三領域１１ｃを充填するように形成される。第二領域１１ｂに充填された塗工物２２の第１部分２２ａは、第一面１ａ上を覆う第２部分２２ｂに対して引っかかり部となり、アンカー効果が発揮される。これにより、塗工物２２が第一面１ａから剥離することが抑制され、穿孔薄膜１と塗工物２２との接着性が向上する。

次に、図１に係る穿孔薄膜の貫通孔の形成方法の一例について図４を用いながら説明する。図４は、薄膜に貫通孔を形成する方法を示す概略図である。図４に示されるように、アルミ箔である薄膜３０の厚さ方向（方向Ｃ）において互いに対向する第１カッター３１と第２カッター３２とが用いられることによって、貫通孔１１を有する穿孔薄膜１を設ける。すなわち、第１カッター３１によって貫通孔１１における第一領域１１ａが形成されると同時に、第２カッター３２によって貫通孔１１における第二領域１１ｂが形成される。第一領域１１ａ及び第二領域１１ｂが形成されることにより、第一領域１１ａと第二領域１１ｂとの間に位置する膜厚の薄い部分が弾性破断し、第三領域１１ｃが形成される。これにより、第一領域１１ａ、第二領域１１ｂ及び第三領域１１ｃを有する貫通孔１１が形成される。なお、第１カッター３１の先端３１ａと第２カッター３２の先端３２ａとの方向Ｃにおける間隔は、例えば１μｍ〜５００μｍ程度である。

第１カッター３１は、穿孔薄膜１における第一面１ａ側に配置されており、先端３１ａに向かうにつれて薄くなる形状を有する。第１カッター３１は、例えば図１における方向Ｂに沿って回転する。第１カッター３１が回転しながら薄膜３０に接触し、薄膜３０の一部を切削することにより、貫通孔１１における断面略円弧形状の第一領域１１ａが設けられる。

第２カッター３２は、穿孔薄膜１における第二面１ｂ側に配置されており、先端３１ａに向かうにつれて薄くなる形状を有する。第２カッター３２は、第１カッター３１の回転方向と交差する方向に沿って回転する。第２カッター３２は、例えば図１における方向Ａに沿って回転する。第２カッター３２が回転しながら薄膜３０に接触し、薄膜３０の一部を切削することにより、貫通孔１１における第二領域１１ｂが設けられる。穿孔薄膜１の第二面１ｂにおける切削される部分は、第２カッター３２によって押圧されることにより窪む。したがって、図４に示されるように、第二領域１１ｂは断面略台形形状となる。

上述のように第１カッター３１及び第２カッター３２を用いることによって、穿孔薄膜１の厚さ方向中心側から第一面１ａに向かって広がる第一領域１１ａと、穿孔薄膜１の厚さ方向中心側から第二面１ｂに向かって広がる第二領域１１ｂとを容易に形成することができる。また、方向Ｃにおいて両側から薄膜３０を切削することにより、貫通孔１１付近にバリが発生することを効果的に抑制できる。

以下では、図３の（ｄ）に示される塗工物２２が設けられた穿孔薄膜１の使用例の一つである蓄電装置について、図５を用いながら説明する。なお、蓄電装置としては、例えばリチウムイオン二次電池、リチウムイオンキャパシタ、その他種々の電池、又は電気二重層キャパシタ等が挙げられる。図５は、蓄電装置の概略断面図を示す。図５に示されるように、蓄電装置４０は、筐体Ｐと、正極４１と、負極４２と、正極４１と負極４２との間に位置するセパレータ４３と、第一電極４４と、第二電極４５とを有する。

正極４１は、集電体４６と、集電体４６の両方の主面上に設けられる正極活物質層４７と、を備える。集電体４６としては、例えばアルミ箔又はステンレス箔等が挙げられる。正極活物質層４７に含まれる正極活物質としては、例えばコバルト酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸マンガンリチウム、リン酸コバルトリチウム、活性炭、導電性高分子、又はポリアセン系物質等が挙げられる。正極活物質層４７は、例えば、集電体４６の両方の主面上に正極活物質を含むペースト（正極用電極ペースト）を塗布し、当該正極用電極ペーストを乾燥させることによって形成される塗工物である。集電体４６には複数の貫通孔４６ａが設けられており、当該貫通孔４６ａ内には正極活物質層４７の一部が充填されている。貫通孔４６ａの形状は、図２に示される貫通孔１１の形状と同一である。貫通孔４６ａの形状により、集電体４６と正極活物質層４７との接着性が良好であるため、集電体４６と正極活物質層４７との間に接着剤が設けられていない。これにより、集電体４６と正極活物質層４７との電気的接続が良好になるため、正極４１における電気的損失が低減する。したがって、蓄電装置４０の電気特性が向上する。

また、負極４２は、集電体４８と、集電体４８の両方の主面上に設けられる負極活物質層４９と、を備える。集電体４８としては、例えば銅箔、ニッケル箔、又はステンレス箔等が挙げられる。負極活物質層４９に含まれる負極活物質としては、例えば活性炭若しくは黒鉛のような炭素系材料、チタン酸リチウム、スズ、又はシリコン系の合金等が挙げられる。負極活物質層４９は、例えば、集電体４８の両方の主面上に負極活物質を含むペースト（負極用電極ペースト）を塗布し、当該負極用電極ペーストを乾燥させることによって形成される塗工物である。集電体４８には複数の貫通孔４８ａが設けられており、当該貫通孔４８ａ内には負極活物質層４９の一部が充填されている。貫通孔４８ａの形状は、図２に示される貫通孔１１の形状と同一である。つまり、負極においても、集電体４８と負極活物質層４９との間に接着剤を設けなくてもよい。これにより、集電体４８と負極活物質層４９との電気的接続が良好になるため、負極４２における電気的損失が低減する。したがって、蓄電装置４０の電気特性が向上する。

集電体４６の片面に正極活物質層４７を設ける場合、集電体４６に複数の貫通孔４６ａが設けられた状態で塗工してもよい。集電体４６の両面に正極活物質層４７を設ける場合、集電体４６に複数の貫通孔４６ａが設けられた状態で塗工してもよい。あるいは、予め集電体４６の一方の面に正極活物質層４７が設けられたものに複数の貫通孔４６ａを設け、その後、他方の面に正極活物質層４７を設けてもよい。なお、集電体４８の片面又は両面に負極活物質層４９を設ける場合、上述の方法にて設けてもよい。

以上説明したように、本実施形態に係る穿孔薄膜１では、例えば第一面１ａに塗工物２２となる流動性物質２１をコーティングすると、当該流動性物質２１は、貫通孔１１の第一領域１１ａから第二領域１１ｂへ侵入する。第二領域１１ｂは、第二面１ｂに開口して第一面１ａ側から第二面１ｂに向かって広がることから、第二領域１１ｂに充填された塗工物２２の第１部分２２ａは、第一面１ａにコーティングされた塗工物２２の第２部分２２ｂに対してアンカー効果を発揮する。したがって、第一領域１１ａ及び第二領域１１ｂを有する貫通孔１１が設けられることによって、塗工物２２との接着性を向上することが可能になる。

また、穿孔薄膜１において、貫通孔１１は、方向Ｃにおいて、第一領域１１ａと第二領域１１ｂとの間に断面略矩形状の第三領域１１ｃを有している。第三領域１１ｃの開口面積は第一領域１１ａの開口面積よりも小さいため、第三領域１１ｃを通過する流動性物質２１の流速は増加する。したがって、第三領域１１ｃは第二領域１１ｂに対するノズルとして設けられることによって、第一領域１１ａにコーティングされた流動性物質２１が、貫通孔１１を介して第二領域１１ｂにより侵入しやすくなる。

また、第一領域１１ａは、断面略円弧形状である。流動性物質２１がコーティングされる面が第一面１ａであり、第一領域１１ａが断面略円弧形状となる場合、第一面１ａにおける第一領域１１ａの開口面積が大きくなることから、流動性物質２１が貫通孔１１に侵入する際の圧力損失が低減される。

また、穿孔薄膜１の厚さは、１〜２００μｍであってもよい。この蓄電装置４０では、穿孔薄膜１を有する電極が用いられることにより、良好な電気特性が発揮される。また、電極の材料の種類及び電極に要求される特性等によって変わるが、蓄電装置４０の穿孔薄膜１の厚さが５〜５０μｍである場合、一層良好な電気特性が発揮される。例えば、蓄電装置４０が小さな充放電電流を求められる場合、エネルギー密度を向上させるため、電極の厚みを薄く設計してもよい。また、蓄電装置４０が大きな充放電電流を求められる場合、電極の内部抵抗を小さくするため、電極の厚みを厚く設計してもよい。

また、蓄電装置４０は、穿孔薄膜１と、穿孔薄膜１の少なくとも一方の面に電極ペーストを塗布し、電極ペーストを乾燥させることによって形成される塗工物を有する電極を備えていてもよい。この蓄電装置４０では、穿孔薄膜１を有する電極が用いられることにより、良好な電気特性が発揮される。

［第２実施形態］
図６は、第２実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。図６に示されるように、穿孔薄膜１Ａは、複数の仮想線ＶＬ１が延びる方向と、複数の仮想線ＶＬ２が延びる方向において、上述した第１実施形態の穿孔薄膜１と相違している。具体的には、複数の仮想線ＶＬ１は方向Ｄ１に沿って延び、複数の仮想線ＶＬ２は方向Ｄ２に沿って延びる。穿孔薄膜１Ａの貫通孔１１の形状は、第１実施形態の穿孔薄膜１における貫通孔１１の形状と同一である。

方向Ｄ１は、方向Ａ及び方向Ｂとは異なっており、方向Ｂに対して角度θ_１（第１角度）で傾斜している。つまり、仮想線ＶＬ１は、方向Ｂに対して角度θ_１で傾斜している。方向Ｄ２は、方向Ａ及び方向Ｂとは異なっており、方向Ｂに対して方向Ｄ１が傾斜する方向とは反対側に角度θ_２（第２角度）で傾斜している。つまり、仮想線ＶＬ２は、方向Ｂに対して角度θ_２で傾斜している。角度θ_１及び角度θ_２は、０°より大きく、９０°より小さい。また、角度θ_１及び角度θ_２は同一または略同一であり、角度θ_１と角度θ_２との差は、例えば−５°以上＋５°以下程度である。図６の例では、角度θ_１は４５°であり、角度θ_２は４５°である。したがって、仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とは、直交している。

複数の仮想線ＶＬ１は、一定のピッチＰ１で配列されており、そのピッチＰ１は例えば０．５ｍｍ以上程度である。複数の仮想線ＶＬ２は、一定のピッチＰ２で配列されており、そのピッチＰ２は例えば０．５ｍｍ以上程度である。図６の例では、ピッチＰ１とピッチＰ２とが同一であるので、仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とによって複数の正方形が形成されている。この正方形の一方の対角線は方向Ａに沿っており、他方の対角線は方向Ｂに沿っている。貫通孔１１は、各正方形の頂点に位置している。なお、ピッチＰ１及びピッチＰ２は、０．５ｍｍ以上に限られず、必要に応じて０．５ｍｍ未満に設定され得る。

次に、穿孔薄膜１Ａにおける貫通孔の配置による作用効果を説明する。図７の（ａ）は図１の穿孔薄膜１における貫通孔１１の配置を示す図、図７の（ｂ）は穿孔薄膜１Ａにおける貫通孔１１の配置の一例を示す図、図７の（ｃ）は穿孔薄膜１Ａにおける貫通孔１１の配置の他の例を示す図である。

図７の（ａ）に示されるように、穿孔薄膜１では、複数の仮想線ＶＬ１と複数の仮想線ＶＬ１との交点に貫通孔１１が配置されている。複数の仮想線ＶＬ１は、穿孔薄膜１の長手方向である方向Ａに沿って延び、複数の仮想線ＶＬ１は、穿孔薄膜１の幅方向である方向Ｂに沿って延びている。また、仮想線ＶＬ１のピッチ及び仮想線ＶＬ１のピッチは互いに等しく、Ｓである。この穿孔薄膜１では、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離はＳとなり、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離はＳとなる。

図７の（ｂ）に示されるように、穿孔薄膜１Ａでは、複数の仮想線ＶＬ１は、穿孔薄膜１の長手方向である方向Ａ及び穿孔薄膜１の幅方向である方向Ｂとは異なる方向Ｄ１に沿って延び、複数の仮想線ＶＬ２は方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向Ｄ２に沿って延びている。仮想線ＶＬ１は、方向Ｂに対して４５°で傾斜している。仮想線ＶＬ２は、方向Ｂに対して仮想線ＶＬ１が傾斜する方向とは反対側に４５°で傾斜している。仮想線ＶＬ１及び仮想線ＶＬ２は直交している。また、仮想線ＶＬ１のピッチＰ１及び仮想線ＶＬ２のピッチＰ２は互いに等しく、Ｓである。この穿孔薄膜１Ａでは、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は２^１／２×Ｓとなり、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は２^１／２×Ｓとなる。したがって、この穿孔薄膜１Ａでは、穿孔薄膜１と比較して、方向Ａ及び方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離を大きくすることができる。このため、穿孔薄膜１Ａでは、穿孔薄膜１と比較して、長手方向及び幅方向の引張強度を向上することが可能となる。一方、穿孔薄膜１Ａの規定面積当たりの貫通孔１１の面積の割合（穿孔率）は、穿孔薄膜１の穿孔率と同じである。したがって、穿孔薄膜１Ａは、穿孔薄膜１と同等の接着性を有する。

図７の（ｃ）に示されるように、穿孔薄膜１Ａにおいて、仮想線ＶＬ１が方向Ｂに対して角度θ（０°＜θ＜９０°）で傾斜しており、仮想線ＶＬ２が方向Ｂに対して仮想線ＶＬ１が傾斜する方向とは反対側に角度θで傾斜している場合、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は２Ｓｓｉｎθとなる。また、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は２Ｓｃｏｓθとなる。角度θが３０°よりも大きい場合、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離はＳよりも大きくなるので、穿孔薄膜１と比較して、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離を大きくすることができる。このため、穿孔薄膜１と比較して、長手方向の引張強度を向上することが可能となる。

また、角度θが６０°よりも小さい場合、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離はＳよりも大きくなるので、穿孔薄膜１と比較して、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離を大きくすることができる。このため、穿孔薄膜１と比較して、幅方向の引張強度を向上することが可能となる。以上のことから、穿孔薄膜１Ａでは、角度θが３０°よりも大きく、６０°よりも小さい場合には、穿孔薄膜１と比較して、方向Ａ及び方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離を大きくすることができ、長手方向及び幅方向の引張強度を向上することが可能となる。一方、穿孔薄膜１Ａの穿孔率は、穿孔薄膜１の穿孔率の１／ｓｉｎ２θ（＞１）倍となる。このため、穿孔薄膜１では、穿孔薄膜１に対して穿孔率が増加するので、接着性の向上が可能となる。

また、穿孔薄膜１Ａの接着性を穿孔薄膜１の接着性と同程度になるようにピッチＰ１及びピッチＰ２を調整した場合、ピッチＰ１及びピッチＰ２は、穿孔薄膜１の仮想線ＶＬ１のピッチ及び仮想線ＶＬ２のピッチよりも大きくなる。このため、互いに隣り合う貫通孔１１の距離をさらに大きくすることができるので、長手方向及び幅方向の引張強度をさらに向上することが可能となる。

以上説明したように、本実施形態に係る穿孔薄膜１Ａにおいては、上述した穿孔薄膜１と同様の効果が奏されることに加えて、長手方向及び幅方向の引張強度が向上する効果が奏される。具体的には、穿孔薄膜１Ａでは、複数の貫通孔１１は、仮想線ＶＬ１及び仮想線ＶＬ２に沿って配列される。仮想線ＶＬ１が方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向Ｄ１に延び、仮想線ＶＬ２が方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向Ｄ２に延びているので、仮想線ＶＬ１に沿った貫通孔１１の配列及び仮想線ＶＬ２に沿った貫通孔１１の配列は、方向Ａ及び方向Ｂに対して傾斜している。また、方向Ａに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は、図７の（ａ）に示された穿孔薄膜１の貫通孔１１同士の距離よりも大きく、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は、穿孔薄膜１の貫通孔１１同士の距離よりも大きい。このため、穿孔薄膜１Ａでは方向Ａ及び方向Ｂにおける引張強度が向上される。その結果、方向Ａ及び方向Ｂにテンションが加えられた場合、破断の発生を抑えることができ、加工性の向上が可能となる。

穿孔薄膜１Ａでは、仮想線ＶＬ１の方向Ｂに対する傾斜角である角度θ_１と、仮想線ＶＬ２の方向Ｂに対する傾斜角である角度θ_２との差は、−５°以上＋５°以下である。この場合、貫通孔１１が方向Ｂに対して対称的に配置されるので、穿孔薄膜１Ａの引張強度の安定性が向上する。その結果、穿孔薄膜１Ａに対して方向Ａにテンションが加えられた場合、穿孔薄膜１Ａの変形を低減することが可能となる。

［第３実施形態］
図８は、第３実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。図８に示されるように、穿孔薄膜１Ｂは、複数の仮想線ＶＬ２が延びる方向Ｄ２において、上述した第２実施形態の穿孔薄膜１Ａと相違している。

図８に示されるように、方向Ｄ２は、方向Ｂと同じ方向である。つまり、複数の仮想線ＶＬ２は、方向Ｂに沿って延びている。仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とは、角度θ_１で交差している。角度θ_１は、０°より大きく、９０°より小さい。角度θ_１は、長手方向の引張強度を向上するために、１０°以上としてもよく、幅方向の引張強度を向上するために、８０°以下としてもよい。このため、仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とによって複数の平行四辺形が形成されている。貫通孔１１は、各平行四辺形の頂点に位置している。

穿孔薄膜１Ｂでは、仮想線ＶＬ１が方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向Ｄ１に延びているので、仮想線ＶＬ１に沿った貫通孔１１の配列は、方向Ａ及び方向Ｂに対して傾斜している。このため、穿孔薄膜１Ｂにおける貫通孔１１の配列は、方向Ａに対して傾斜しているので、図１に示された穿孔薄膜１と比較して、方向Ａにおける引張強度が向上される。その結果、方向Ａにテンションが加えられた場合、破断の発生を抑えることができ、加工性の向上が可能となる。

具体的に説明すると、穿孔薄膜１Ｂでは、穿孔薄膜１Ｂにおける仮想線ＶＬ１のピッチＰ１及び仮想線ＶＬ２のピッチＰ２が、穿孔薄膜１における仮想線ＶＬ１のピッチ及び仮想線ＶＬ１のピッチと等しい場合、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離は、Ｓ／ｓｉｎθ_１となる。このため、穿孔薄膜１Ｂでは、穿孔薄膜１と比較して、方向Ｂに沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離を大きくすることができ、幅方向の引張強度を向上することが可能となる。

以上説明したように、本実施形態に係る穿孔薄膜１Ｂにおいては、上述した穿孔薄膜１と同様の効果が奏されることに加えて、長手方向の引張強度が向上する効果が奏される。具体的には、穿孔薄膜１Ｂでは、貫通孔１１は方向Ａに沿って配列されないので、長手方向にテンションが加えられた場合、互いに隣り合う２つの貫通孔１１に作用する力が分散される。このため、長手方向の引張強度を向上することが可能となる。

さらに、穿孔薄膜１Ｂの穿孔率は、穿孔薄膜１の穿孔率の１／ｓｉｎθ_１倍（＞１）である。このため、穿孔薄膜１Ｂでは、穿孔薄膜１に対して穿孔率が増加するので、接着性の向上が可能となる。

［第４実施形態］
図９は、第４実施形態に係る穿孔薄膜の構成を概略的に示す平面図である。図９に示されるように、穿孔薄膜１Ｃは、複数の仮想線ＶＬ１が延びる方向Ｄ１、複数の仮想線ＶＬ２が延びる方向Ｄ２、ピッチＰ１及びピッチＰ２において、上述した第２実施形態の穿孔薄膜１Ａと相違している。

方向Ｄ１は、方向Ａ及び方向Ｂとは異なっており、方向Ｂに対して角度θ_１で傾斜している。つまり、仮想線ＶＬ１は、方向Ｂに対して角度θ_１で傾斜している。方向Ｄ２は、方向Ａ及び方向Ｂとは異なっており、方向Ｂに対して方向Ｄ１が傾斜する方向とは反対側に角度θ_２で傾斜している。つまり、仮想線ＶＬ２は、方向Ｂに対して角度θ_２で傾斜している。角度θ_１及び角度θ_２は、０°より大きく、９０°より小さい。角度θ_１及び角度θ_２は、長手方向の引張強度を向上するために、１０°以上としてもよく、幅方向の引張強度を向上するために、８０°以下としてもよい。また、角度θ_１及び角度θ_２は互いに異なった角度である。

複数の仮想線ＶＬ１は、一定の間隔で配列されており、そのピッチＰ１は例えば０．５ｍｍ以上程度である。複数の仮想線ＶＬ２は、一定の間隔で配列されており、そのピッチＰ２は例えば０．５ｍｍ以上程度である。ピッチＰ１及びピッチＰ２は互いに異なっている。このため、仮想線ＶＬ１と仮想線ＶＬ２とによって複数の平行四辺形が形成されている。貫通孔１１は、各平行四辺形の頂点に位置している。なお、ピッチＰ１及びピッチＰ２は、０．５ｍｍ以上に限られず、必要に応じて０．５ｍｍ未満に設定され得る。

以上説明したように、本実施形態に係る穿孔薄膜１Ｃにおいても、上述した穿孔薄膜１Ａと同様の効果が奏される。

なお、本発明に係る穿孔薄膜は上記実施形態に限定されない。例えば、穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃにおける貫通孔１１は、第三領域１１ｃを有しておらず、第一領域１１ａと第二領域１１ｂとが互いに直接連通していてもよい。また、第一領域１１ａは断面略台形形状でもよく、第二領域１１ｂは断面略円弧形状でもよい。また、第一領域１１ａ及び第二領域１１ｂは、互いに断面略台形形状でもよく、互いに略円弧形状でもよい。また、当該貫通孔１１は、両刃を用いて形成することに限られず、例えばレーザ照射により形成されてもよい。

また、例えば、穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃにおいて、複数の貫通孔１１のうち最も近くに配置された２つの貫通孔１１は、方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向に沿って並ぶように配列されてもよい。穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂにおける引張強度は、テンションが加えられる方向に沿って互いに隣り合う２つの貫通孔１１の距離が小さいほど、低下する。このため、最も近くに配置された２つの貫通孔１１が、方向Ａ及び方向Ｂとは異なる方向に沿って配列されるようにすることにより、方向Ａ及び方向Ｂにおける引張強度の低下を抑制できる。

また、穿孔薄膜１Ｂ及び穿孔薄膜１Ｃにおいて、ピッチＰ１とピッチＰ２とは同じでもよいし、異なっていてもよい。また、穿孔薄膜１Ｃにおいて、角度θ_１と角度θ_２とは同じ角度でもよい。穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃをラミネート加工することにより、複層薄膜としてもよい。つまり、穿孔薄膜１を非穿孔薄膜に貼り合わせることにより、複層薄膜としてもよい。

また、上記実施形態を適宜組み合わせてもよい。例えば、第１実施形態に係る蓄電装置４０は、穿孔薄膜１の代わりに穿孔薄膜１Ａ，１Ｂ，１Ｃの少なくとも何れかを有していてもよい。また、蓄電装置４０は、正極４１、負極４２及びセパレータ４３を複数備えた積層電極構造としてもよい。正極４１に含まれる正極活物質層４７は集電体４６のいずれか一方の主面上に設けられてもよく、負極４２に含まれる負極活物質層４９は集電体４８のいずれか一方の主面上に設けられてもよい。

また、穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂ又は１Ｃが例えばリチウムイオンキャパシタの電極に用いられた場合、リチウムイオンのプレドープが容易に、且つ、短時間で行うことが可能になる。このため、リチウムイオンキャパシタにおけるセルの低抵抗化が可能となる。穿孔薄膜１，１Ａ，１Ｂ又は１Ｃが例えばリチウムイオン電池の電極に使用される場合、電極の単位体積当たりの活物質量が増加する。このため、リチウムイオン電池の容量が増大する。

（実施例）
次に、本発明の実施例について説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。

図１０の（ａ）は実施例１の穿孔薄膜の孔の配置を示す図、図１０の（ｂ）は実施例２の穿孔薄膜の孔の配置を示す図、図１０の（ｃ）は実施例３の穿孔薄膜の孔の配置を示す図、図１０の（ｄ）は実施例４の穿孔薄膜の孔の配置を示す図である。

［実施例１］
図１０の（ａ）に示されるように、実施例１の穿孔薄膜として、ＴＤに対して角度θ_１で傾斜した仮想線ＶＬ１と、ＴＤに対して仮想線ＶＬ１が傾斜する方向とは反対側に角度θ_２で傾斜した仮想線ＶＬ２と、の交点に貫通孔１１を設けた金属薄膜を準備した。金属薄膜として、厚さ２５μｍのアルミ箔、及び厚さ１５μｍの銅箔を用いた。仮想線ＶＬ１のピッチＰ１は５ｍｍ、仮想線ＶＬ２のピッチＰ２は５ｍｍ、角度θ_１は４５°、角度θ_２は４５°とした。実施例１では、図４に示される第１カッター３１と第２カッター３２とを用い、金属薄膜に対して穿孔加工を行うことによって、貫通孔１１を設けた。また、実施例１において、図２における径ｄ５に相当する径の大きさが５０μｍになるように貫通孔１１を設けた。

［実施例２］
図１０の（ｂ）に示されるように、実施例２の穿孔薄膜として、ＭＤに沿って延びる仮想線ＶＬ１と、ＴＤに対して角度θ_２で傾斜した仮想線ＶＬ２と、の交点に貫通孔１１を設けた金属薄膜を準備した。金属薄膜として、厚さ２５μｍのアルミ箔、及び厚さ１５μｍの銅箔を用いた。仮想線ＶＬ１のピッチＰ１は５ｍｍ、仮想線ＶＬ２のピッチＰ２は５ｍｍ、角度θ_２は４５°とした。つまり、仮想線ＶＬ１とＴＤとが成す角度θ_１は９０°である。実施例２では、金属薄膜に対して実施例１と同様の穿孔加工を行うことによって、貫通孔１１を設けた。また、実施例２において、図２における径ｄ５に相当する径の大きさが５０μｍになるように貫通孔１１を設けた。

［実施例３］
図１０の（ｃ）に示されるように、実施例３の穿孔薄膜として、ＴＤに対して角度θ_１で傾斜した仮想線ＶＬ１と、ＴＤに対して仮想線ＶＬ１が傾斜する方向とは反対側に角度θ_２で傾斜した仮想線ＶＬ２と、の交点に貫通孔１１を設けた金属薄膜を準備した。金属薄膜として、厚さ２５μｍのアルミ箔、及び厚さ１５μｍの銅箔を用いた。仮想線ＶＬ１のピッチＰ１は５ｍｍ、仮想線ＶＬ２のピッチＰ２は５ｍｍ、角度θ_１は４５°、角度θ_２は６０°とした。実施例３では、金属薄膜に対して実施例１，２と同様の穿孔加工を行うことによって、貫通孔１１を設けた。また、実施例３において、図２における径ｄ５に相当する径の大きさが５０μｍになるように貫通孔１１を設けた。

［実施例４］
図１０の（ｄ）に示されるように、実施例４の穿孔薄膜として、ＭＤに沿って延びる仮想線ＶＬ１と、ＴＤに沿って延びる仮想線ＶＬ２と、の交点に貫通孔１１を設けた金属薄膜を準備した。金属薄膜として、厚さ２５μｍのアルミ箔、及び厚さ１５μｍの銅箔を用いた。仮想線ＶＬ１のピッチＰ１は５ｍｍ、仮想線ＶＬ２のピッチＰ２は５ｍｍとした。つまり、仮想線ＶＬ１とＴＤとが成す角度θ_１は９０°、仮想線ＶＬ２とＴＤとが成す角度θ_２は０°である。実施例４では、金属薄膜に対して実施例１〜３と同様の穿孔加工によって、貫通孔１１を設けた。また、実施例４において、図２における径ｄ５に相当する径の大きさが５０μｍになるように貫通孔１１を設けた。

[比較例１]
比較例１の穿孔薄膜として、実施例１と同様の位置に貫通孔１１を設けた金属薄膜を準備した。金属薄膜として、実施例１〜４と同様に、厚さ２５μｍのアルミ箔、及び厚さ１５μｍの銅箔を用いた。比較例１では、細長い円錐状の釘を有したニップロールを用いて、金属薄膜の一方の表面に当該ニップロールを押し当てることによって、断面台形状の貫通孔１１を設けた。

（１）穿孔加工適正評価
実施例１〜実施例４、及び比較例１の条件で金属薄膜に穿孔加工を行い、加工時のスピード及び薄膜の破断の有無を確認した。判定方法は、次の通りとする。
◎：５０ｍ／ｍｉｎ以上の加工スピードで加工可能
○：５０ｍ／ｍｉｎ未満の加工スピードで加工可能
△：３０ｍ／ｍｉｎ未満の加工スピードで加工可能
×：１０ｍ／ｍｉｎ未満の加工スピードで加工可能、または、破断により加工不可

表１に示されるように、実施例１〜実施例３では、いずれの薄膜を用いた場合であっても、５０ｍ／ｍｉｎ以上の加工スピードで、薄膜中に破断が発生せずに穿孔加工が可能であった。実施例４では、金属薄膜がアルミ箔である場合、５０ｍ／ｍｉｎ未満の加工スピードでは、薄膜中に破断が発生せずに穿孔加工が可能であった。また、実施例４では、金属薄膜が銅箔である場合、３０ｍ／ｍｉｎ未満の加工スピードでは、薄膜中に破断が発生せずに穿孔加工が可能であった。一方、比較例１では、釘を薄膜の片側から押し付けて穿孔するために薄膜の変形が大きい。このため比較例１では、いずれの薄膜を用いた場合であっても、１０ｍ／ｍｉｎ以上の加工スピードで、薄膜中に破断が発生した。

（２）塗工物接着性評価
実施例１〜４及び比較例１の穿孔薄膜の各々に対して、電極ペーストを塗布及び乾燥させることによって、塗工物を有する電極を作製した。また、参考例として、平坦な金属薄膜に対して、電極ペーストを塗布及び乾燥させることによって、塗工物を有する電極を作製した。そして、実施例１〜４及び比較例１においての金属薄膜に対する塗工物の接着性と、参考例においての金属薄膜に対する塗工物の接着性とをそれぞれ比較した。なお、電極の作製は以下の手順で行った。
[正極の作製]
（１）で作製した厚さ２５μｍのロール状のアルミ箔に、ロールコーター装置を使用して、平均粒径２μｍの活性炭粒子を主成分とした電極ペーストを塗布した。当該電極ペーストを乾燥させることによって、正極を作製した。
[負極の作製]
（１）で作製した厚さ１５μｍのロール状の銅箔に、ロールコーター装置を使用して、平均粒径５μｍの黒鉛粒子を主成分とした電極ペーストを塗布した。当該電極ペーストを乾燥させることによって、正極を作製した。

表２は、参考例においての金属薄膜に対する塗工物の接着力を１．０倍とした場合の、実施例１〜４及び比較例１においての金属薄膜に対する塗工物の接着力を示す。表２に示されるように、実施例１〜４では、穿孔加工を行わなかった金属薄膜を使用した場合（参考例の場合）に比べ、約２倍以上も金属薄膜に対する塗工物の接着性が向上した。また、比較例１においても、参考例と比べて、金属薄膜に対する塗工物の接着性が向上した。しかしながら、比較例１では、穿孔加工の効果が小さく、実施例１〜４よりも塗工物が金属薄膜から剥離し易かった。

以上の評価結果によれば、実施例１〜４のいずれにおいても金属薄膜の穿孔加工適正が高く、参考例に対して約２倍以上の金属薄膜に対する塗工物の接着性の向上が確認された。金属薄膜に対する塗工物の更なる接着性向上のため、孔と孔の間隔を実施例１〜４よりも小さくすることも可能である。

１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…穿孔薄膜、１ａ…第一面、１ｂ…第二面、１１，４６ａ，４８ａ…貫通孔、１１ａ…第一領域、１１ｂ…第二領域、１１ｃ…第三領域、２１…流動性物質、２２…塗工物、４０…蓄電装置、４１…正極、４２…負極、４３…セパレータ、Ａ…方向、Ｂ…方向（幅方向）、Ｃ…方向（厚さ方向）、Ｄ１…方向、Ｄ２…方向、ＶＬ１…仮想線、ＶＬ２…仮想線、θ_１…角度、θ_２…角度。

Claims (7)

1. 第１面と、前記第１面に対向する第２面とを備え、
   前記第１面から前記第２面に貫通する貫通孔が設けられる穿孔薄膜であって、
   前記貫通孔は、
   複数の第１仮想線と複数の第２仮想線との交点に配置され、
   前記第１仮想線と前記第２仮想線とは、０°より大きく、９０°より小さい角度θで交差しており、
   前記第１面に開口して前記第２面側から前記第１面に向かって広がる第１領域と、
   前記第２面に開口して前記第１面側から前記第２面に向かって広がる第２領域と、
   を有し、
   前記第２領域の最大径は、前記第１領域の最大径よりも短い、穿孔薄膜。
2. 前記貫通孔は、前記穿孔薄膜の厚さ方向において、前記第１領域と前記第２領域との間に断面略矩形状の第３領域を有する、請求項１に記載の穿孔薄膜。
3. 前記第１領域と前記第２領域との少なくとも一つは、断面略円弧形状である、請求項１又は２に記載の穿孔薄膜。
4. 前記第１領域の最大径は、１００〜６０００μｍであり、
   前記第２領域の最大径は、５０〜３０００μｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の穿孔薄膜。
5. 前記穿孔薄膜の厚さは、１〜２００μｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の穿孔薄膜。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の穿孔薄膜と、
   前記穿孔薄膜の少なくとも一方の面上に電極ペーストを塗布し、前記電極ペーストを乾燥させることによって形成される塗工物と、を有する電極を備える蓄電装置。
7. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の穿孔薄膜の製造方法であって、
   前記穿孔薄膜の厚さ方向において互いに対向する第１カッター及び平面視にて当該第１カッターに対して０°より大きく９０°より小さい角度θで交差する第２カッターを含む一対のカッターを用いて、前記貫通孔の前記第１領域を前記第１カッターによって形成すると同時に前記貫通孔の前記第２領域を前記第２カッターによって形成することで前記貫通孔を形成する、
   穿孔薄膜の製造方法。

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