JP6469435B2 - 構造体及び構造体製造方法 - Google Patents
構造体及び構造体製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6469435B2 JP6469435B2 JP2014251794A JP2014251794A JP6469435B2 JP 6469435 B2 JP6469435 B2 JP 6469435B2 JP 2014251794 A JP2014251794 A JP 2014251794A JP 2014251794 A JP2014251794 A JP 2014251794A JP 6469435 B2 JP6469435 B2 JP 6469435B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- conductive member
- film
- amorphous carbon
- carbon film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
11 被成膜体
12 被成膜体の表面
13 基板
14 導電部材
15 角部
16 基板の表面
17 導電部材の表面
18 非晶質炭素膜
19 孔
22 境界領域
23 隅部
25 応力緩和層
Claims (15)
- 基板と、
前記基板の表面から突出又は後退するように前記基板に設けられた導電部材と、
前記基板の表面の少なくとも一部及び前記導電部材の表面の少なくとも一部に形成された非晶質炭素膜と、
を含み、
前記基板が、前記導電部材より低い耐熱温度を有しており、
前記非晶質炭素膜はプラズマCVD法又はプラズマPVD法により形成される構造体。 - 基板と、
前記基板から一部が露出しており、前記基板に設けられた導電部材と、
前記基板の表面の少なくとも一部及び前記基板の表面から露出した前記導電部材の表面の少なくとも一部に形成された非晶質炭素膜と、
を含み、
前記導電部材のうち前記基板から露出している部分の隅部が平面視で曲線形状を有し、
前記基板が、前記導電部材より低い耐熱温度を有しており、
前記非晶質炭素膜はプラズマCVD法又はプラズマPVD法により形成されることを特徴とする構造体。 - 前記曲線の曲率半径が1mmから1mであることを特徴とする請求項2記載の構造体。
- 前記基板から露出している前記導電部材の上面が平面視で円形又は楕円形となることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の構造体。
- 前記基板の表面と前記導電部材の表面とが略面一となっていることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記導電部材は、金属、導電性を有する炭素素材、又は半導体を材料とすることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記基板は、基材層と、絶縁性及び弾力性を有する材料からなる応力緩和層と、を含み、
前記非晶質炭素膜は、前記応力緩和層の表面に形成される、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の構造体。 - 前記基板は半導体又は樹脂を材料とすることを特徴とする請求項1から請求項7に記載の構造体。
- 前記基板及び前記導電部材は、半導体デバイスであり、前記導電部材は電気配線又は/及び電気接続端子である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記基板及び導電部材は絶縁性を有する材料と導電性を有する材料からなるインターポーザ基板又は両面プリント配線版であることを特徴とする請求項1から請求項9に記載の構造体。
- 前記応力緩和層は樹脂を材料とすることを特徴とする請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記非晶質炭素膜と前記基板との間に前記応力緩和層と前記導電部材との密着性の高い混合膜がさらに設けられることを特徴とする請求項7から請求項11のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記混合膜の膜密度は、前記非晶質炭素膜の前記混合膜近傍の部分の膜密度より大きく、かつ、前記非晶質炭素膜の少なくとも内部の層の膜密度が、前記非晶質炭素膜の前記混合膜近傍の部分より大きいことを特徴とする請求項12に記載の構造体。
- 前記導電部材の少なくとも一部が形成された非晶質炭素膜から露出していることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記構造体は、さらに前記基板の表面及びその表面から露出する前記導電部材の表面に3nmから500μmの厚さを有する絶縁膜を有し、前記絶縁膜の上に前記非晶質炭素膜が形成される請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の構造体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014221744 | 2014-10-30 | ||
JP2014221744 | 2014-10-30 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019004919A Division JP6657435B2 (ja) | 2014-10-30 | 2019-01-16 | 構造体及び構造体製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016092385A JP2016092385A (ja) | 2016-05-23 |
JP6469435B2 true JP6469435B2 (ja) | 2019-02-13 |
Family
ID=56019001
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014251794A Active JP6469435B2 (ja) | 2014-10-30 | 2014-12-12 | 構造体及び構造体製造方法 |
JP2019004919A Active JP6657435B2 (ja) | 2014-10-30 | 2019-01-16 | 構造体及び構造体製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019004919A Active JP6657435B2 (ja) | 2014-10-30 | 2019-01-16 | 構造体及び構造体製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6469435B2 (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2748864B2 (ja) * | 1994-09-12 | 1998-05-13 | 日本電気株式会社 | 半導体装置及びその製造方法及び非晶質炭素膜の製造方法及びプラズマcvd装置 |
JPH09172067A (ja) * | 1995-10-16 | 1997-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP3228183B2 (ja) * | 1996-12-02 | 2001-11-12 | 日本電気株式会社 | 絶縁膜ならびにその絶縁膜を有する半導体装置とその製造方法 |
JP5848862B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2016-01-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | カプセル化膜の遮水性能の改善 |
JP4870426B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-02-08 | 中国砂輪企業股▲分▼有限公司 | 熱伝導効率の高い回路板 |
JP5374814B2 (ja) * | 2006-09-20 | 2013-12-25 | 富士通株式会社 | キャパシタ内蔵型配線基板およびその製造方法 |
US7923819B2 (en) * | 2006-11-09 | 2011-04-12 | National Iniversity Corporation Tohoku University | Interlayer insulating film, wiring structure and electronic device and methods of manufacturing the same |
JP4962228B2 (ja) * | 2006-12-26 | 2012-06-27 | 株式会社ジェイテクト | 多層回路基板およびモータ駆動回路基板 |
JP5154140B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US8241713B2 (en) * | 2007-02-21 | 2012-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices |
JP5256441B2 (ja) * | 2008-08-22 | 2013-08-07 | 株式会社ユーテック | 透明樹脂積層体及びその製造方法 |
-
2014
- 2014-12-12 JP JP2014251794A patent/JP6469435B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-16 JP JP2019004919A patent/JP6657435B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019096887A (ja) | 2019-06-20 |
JP2016092385A (ja) | 2016-05-23 |
JP6657435B2 (ja) | 2020-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20160014878A1 (en) | Thermal management circuit materials, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom | |
EP0778619B1 (en) | Structure and fabrication method for thin film capacitors | |
JP3208029B2 (ja) | 静電チャック装置およびその作製方法 | |
US7673970B2 (en) | Flexible circuit corrosion protection | |
TWI717542B (zh) | 基板保持裝置 | |
US8300420B2 (en) | Circuit substrate for mounting electronic component and circuit substrate assembly having same | |
US20140041906A1 (en) | Metal heat radiation substrate and manufacturing method thereof | |
WO2020004271A1 (ja) | 配線基板 | |
TW200832604A (en) | Electrostatic chuck device | |
US11328953B2 (en) | Wiring circuit and method for producing same | |
JP5164465B2 (ja) | 樹脂基板 | |
JP6469435B2 (ja) | 構造体及び構造体製造方法 | |
JP2006186334A (ja) | 被吸着物の処理方法及び静電吸着方法 | |
WO2019172123A1 (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
KR101045307B1 (ko) | 메탈코어 인쇄회로기판의 제조방법 | |
JP2022120066A (ja) | 配線構造体 | |
JP4946502B2 (ja) | 回路構造 | |
JPH05299820A (ja) | フレキシブルプリント配線板 | |
US20110232950A1 (en) | Substrate and method for manufacturing the same | |
JP2019160919A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
TW201838495A (zh) | 印刷配線板的製造方法以及保護膜 | |
JP6112857B2 (ja) | 配線基板及びその製造方法 | |
JP6531675B2 (ja) | 静電チャック装置 | |
JP5164464B2 (ja) | 樹脂基板 | |
JPH0655477B2 (ja) | セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171204 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20171215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180717 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180719 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180918 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6469435 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20190129 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |