JP6467420B2 - ヘリカルコンピュータ断層撮影における最適snrを達成するための調整可能なボウタイフィルタ及びボウタイフィルタを用いて調整する方法 - Google Patents
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Description
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- 投射軸に沿ってX線ビームを投射するためのX線源を有するヘリカルコンピュータ断層撮影(CT)システムにおける使用のためのフィルタアセンブリであって、
前記X線ビームの少なくとも一部分を減衰するための第1のフィルタエレメントであり、前記第1のフィルタエレメントは、X線を減衰するために、大きな開口を有しているバックグラウンドウェッジとして構成される、第1のフィルタエレメントと、
前記X線ビームの少なくとも一部分を減衰するための第2のフィルタエレメントであり、前記第2のフィルタエレメントは、リッジを生成するように構成される、第2のフィルタエレメントと、
を含み、
前記第2のフィルタエレメントは、前記フィルタアセンブリに関して回転され、前記第2のフィルタエレメントの前記回転により、前記第1のフィルタエレメントとの組み合わせにおいて、複数の異なるらせん状ピッチ値に対して適合することができる、
フィルタアセンブリ。 - 前記第2のフィルタエレメントは、スキャンの最中には固定したまま留まるように、かつ、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するために、セットアップの最中には回転されるように適合されている、
請求項1に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第2のフィルタエレメントの前記リッジは、コーン角度とファン角度の関数として前記フィルタアセンブリのX線減衰プロフィールにおいて谷を生成するように適合されており、前記第2のフィルタエレメントの前記回転は、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するための前記X線減衰プロフィールの前記谷における前記コーン角度について傾きを決定する、
請求項1に記載のフィルタアセンブリ。 - 第1のフィルタエレメントは、固定されている、
請求項2に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタエレメントおよび前記第2のフィルタエレメントは、前記X線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために、前記X線源と検出器との間に配置される、
請求項2に記載のフィルタアセンブリ。 - 再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
請求項5に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタエレメントおよび前記第2のフィルタエレメントが組み合わされ、実質的にボウタイ形状のフィルタを形成する、
請求項1に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタエレメントおよび前記第2のフィルタエレメントは、対象物の上に投射される前記X線ビームの区分化された重み付けを結果として生じる、
請求項1に記載のフィルタアセンブリ。 - ヘリカルコンピュータ断層撮影(CT)システムにおける使用のためのフィルタアセンブリであって、
第1の形状を有する第1のフィルタレイヤと、
前記第1の形状とは異なる第2の形状を有する第2のフィルタレイヤと、
を含み、
前記第2のフィルタレイヤは、前記第1のフィルタレイヤとの組み合わせにおいて、複数の異なるらせん状ピッチ値に対して適応するように、前記フィルタアセンブリに関して回転し、または、調整されるように、適合され、かつ、形成されている、
フィルタアセンブリ。 - 前記第1の形状は、ウェッジ形状であり、かつ、
前記第2の形状は、実質的にリッジ形状である、
請求項9に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタレイヤは、固定されている、
請求項9に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタレイヤおよび前記第2のフィルタレイヤは、X線源からのX線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために使用される、
請求項9に記載のフィルタアセンブリ。 - 再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
請求項12に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタレイヤおよび前記第2のフィルタレイヤが組み合わされ、実質的にボウタイ形状のフィルタを形成する、
請求項9に記載のフィルタアセンブリ。 - 前記第1のフィルタレイヤおよび前記第2のフィルタレイヤは、X線源から対象物の上に投射されるX線ビームの区分化された重み付けを結果として生じる、
請求項9に記載のフィルタアセンブリ。 - ヘリカルコンピュータ断層撮影(CT)システムを使用する場合に放射線露出を低減するための方法であって、
第1のフィルタエレメントおよび第2のフィルタエレメントを、フィルタアセンブリにおいて、患者と、X線ビームを放射するX線源との間に配置するステップと、
前記第1のフィルタエレメントを介して前記X線ビームの一部分を減衰するステップであり、前記第1のフィルタエレメントは、X線ビームを減衰するために、大きな開口を有しているバックグラウンドウェッジである、ステップと、
前記第2のフィルタエレメントを介して前記X線ビームの一部分を減衰するステップであり、前記第2のフィルタエレメントは、リッジを生成するように構成されている、ステップと、
前記第2のフィルタエレメントを前記フィルタアセンブリに関して回転するステップであり、それによって、前記第1のフィルタエレメントとの組み合わせにおいて、複数の異なるらせん状ピッチ値に対して適合することができる、ステップと、
を含む、方法。 - 前記第1のフィルタエレメントは、固定されており、
前記第2のフィルタエレメントは、スキャンの最中には固定したまま留まり、かつ、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するために、セットアップの最中には回転する、
請求項16に記載の方法。 - 前記第2のフィルタエレメントは、コーン角度とファン角度の関数として前記フィルタアセンブリのX線減衰プロフィールにおいて谷を生成するように適合されており、前記第2のフィルタエレメントの前記回転は、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するための前記X線減衰プロフィールの前記谷における前記コーン角度について傾きを決定する、
請求項16に記載の方法。 - 前記第1のフィルタエレメントおよび前記第2のフィルタエレメントは、前記X線源から前記X線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために使用され、
前記再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
請求項16に記載の方法。 - 前記第1のフィルタエレメントおよび前記第2のフィルタエレメントは、前記X線源から前記患者の上に投射される前記X線ビームの区分化された重み付けを結果として生じる、
請求項16に記載の方法。
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