JP2016527983A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 投射軸に沿ってＸ線ビームを投射するためのＸ線源を有するヘリカルコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムにおける使用のためのフィルタアセンブリであって、
   前記Ｘ線ビームの少なくとも一部分を減衰するための第１のフィルタエレメントであり、前記第１のフィルタエレメントは、Ｘ線を減衰するために、大きな開口を有しているバックグラウンドウェッジとして構成される、第１のフィルタエレメントと、
   前記Ｘ線ビームの少なくとも一部分を減衰するための第２のフィルタエレメントであり、前記第２のフィルタエレメントは、リッジを生成するように構成される、第２のフィルタエレメントと、
   を含み、
   前記第２のフィルタエレメントは、前記フィルタアセンブリに関して回転され、前記第２のフィルタエレメントの前記回転により、異なるらせん状ピッチ値に対して適合することができる、
   フィルタアセンブリ。
2. 前記第２のフィルタエレメントは、スキャンの最中には固定したまま留まるように、かつ、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するために、セットアップの最中には回転されるように適合されている、
   請求項１に記載のフィルタアセンブリ。
3. 前記第２のフィルタエレメントの前記リッジは、コーン角度とファン角度の関数として前記フィルタアセンブリのＸ線減衰プロフィールにおいて谷を生成するように適合されており、前記第２のフィルタエレメントの前記回転は、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するための前記Ｘ線減衰プロフィールの前記谷における前記コーン角度について傾きを決定する、
   請求項１に記載のフィルタアセンブリ。
4. 第１のフィルタエレメントは、静止したまま留まる、
   請求項２に記載のフィルタアセンブリ。
5. 前記第１のフィルタエレメントおよび前記第２のフィルタエレメントは、前記Ｘ線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために、前記Ｘ線源と検出器との間に配置される、
   請求項２に記載のフィルタアセンブリ。
6. 再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
   請求項５に記載のフィルタアセンブリ。
7. 前記第１のフィルタエレメントおよび前記第２のフィルタエレメントが組み合わされ、実質的にボウタイ形状のフィルタを形成する、
   請求項１に記載のフィルタアセンブリ。
8. 前記第１のフィルタエレメントおよび前記第２のフィルタエレメントは、対象物の上に投射される前記Ｘ線ビームの平均重み付けの分割を結果として生じる、
   請求項１に記載のフィルタアセンブリ。
9. ヘリカルコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムにおける使用のためのフィルタアセンブリであって、
   第１の形状を有する第１のフィルタレイヤと、
   前記第１の形状とは異なる第２の形状を有する第２のフィルタレイヤと、
   を含み、
   前記第２のフィルタレイヤは、異なるらせん状ピッチ値に適応するように、前記フィルタアセンブリに関して回転し、または、調整され、もしくは、取り外されるように、適合され、かつ、形成されている、
   フィルタアセンブリ。
10. 前記第１の形状は、ウェッジ形状であり、かつ、
    前記第２の形状は、実質的にリッジ形状である、
    請求項９に記載のフィルタアセンブリ。
11. 前記第１のフィルタレイヤは、静止したまま留まる、
    請求項９に記載のフィルタアセンブリ。
12. 前記第１のフィルタレイヤおよび前記第２のフィルタレイヤは、Ｘ線源からのＸ線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために使用される、
    請求項９に記載のフィルタアセンブリ。
13. 再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
    請求項１２に記載のフィルタアセンブリ。
14. 前記第１のフィルタレイヤおよび前記第２のフィルタレイヤが組み合わされ、実質的にボウタイ形状のフィルタを形成する、
    請求項９に記載のフィルタアセンブリ。
15. 前記第１のフィルタレイヤおよび前記第２のフィルタレイヤは、Ｘ線源から対象物の上に投射されるＸ線ビームの平均重み付けの分割を結果として生じる、
    請求項９に記載のフィルタアセンブリ。
16. ヘリカルコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムを使用する場合に放射線露出を低減するための方法であって、
    第１のフィルタエレメントおよび第２のフィルタエレメントを、フィルタアセンブリにおいて、患者と、Ｘ線ビームを放射するＸ線源との間に配置するステップと、
    前記第１のフィルタエレメントを介して前記Ｘ線ビームの一部分を減衰するステップであり、前記第１のフィルタエレメントは、Ｘ線ビームを減衰するために、大きな開口を有しているバックグラウンドウェッジである、ステップと、
    前記第２のフィルタエレメントを介して前記Ｘ線ビームの一部分を減衰するステップであり、前記第２のフィルタエレメントは、リッジを生成するように構成されている、ステップと、
    前記第２のフィルタエレメントを前記フィルタアセンブリに関して回転するステップであり、それによって、異なるらせん状ピッチ値に対して適合することができる、ステップと、
    を含む、方法。
17. 前記第１のフィルタエレメントは、静止したまま留まり、
    前記第２のフィルタエレメントは、スキャンの最中には固定したまま留まり、かつ、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するために、セットアップの最中には回転する、
    請求項１６に記載の方法。
18. 前記第２のフィルタエレメントは、コーン角度とファン角度の関数として前記フィルタアセンブリのＸ線減衰プロフィールにおいて谷を生成するように適合されており、前記第２のフィルタエレメントの前記回転は、前記異なるらせん状ピッチ値に適応するための前記Ｘ線減衰プロフィールの前記谷における前記コーン角度について傾きを決定する、
    請求項１６に記載の方法。
19. 前記第１のフィルタエレメントおよび前記第２のフィルタエレメントは、前記Ｘ線源から前記Ｘ線ビームが投射される対象物の画像を再構成するために使用され、
    前記再構成は、一つまたはそれ以上の再構成アルゴリズムを用いて行われる、
    請求項１６に記載の方法。
20. 前記第１のフィルタエレメントおよび前記第２のフィルタエレメントは、前記Ｘ線源から前記患者の上に投射される前記Ｘ線ビームの平均重み付けの分割を結果として生じる、
    請求項１６に記載の方法。