JP6466329B2 - イオンビーム試料調製装置及び方法 - Google Patents
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Description
本出願は、既に出願済みの2012年7月27日付けで出願された米国仮特許出願第61/676,368号明細書の利益を主張するものである。米国仮特許出願第61/676,368号明細書は、引用により、本明細書に包含される。本出願は、既に出願済みの2013年7月24日付けで出願された米国特許出願第13/949,369号明細書の利益を主張するものである。米国特許出願第13/949,369号明細書は、引用により、本明細書に包含される。
6 試料
8 試料周辺エッジ
9 試料表面
9a、9b 第1、第2試料表面
10 真空チャンバ
16 装填チャンバ
18 チャンバカバー
20 イオンビーム照射手段
20a、20b 第1、第2イオンビーム照射手段
22 中心イオンビーム軸
22a、22b 第1、第2中心イオンビーム軸
24 イオンビーム強度制御手段
24a、24b 第1、第2イオンビーム強度制御手段
26 イオンビーム傾斜制御手段
26a、26b 第1、第2イオンビーム傾斜制御手段
40 回転ステージ
42 回転ドライブ
44 回転軸
45 調節自在の位置決めステージ
46a、46b 第1、第2調節軸
47 位置決めステージカバー
48a、48b 第1、第2位置調節手段
49 試料ホルダ保持手段
50 試料ホルダ
51 試料ホルダ保持部分
52 試料支持アーム
52a、52b 第1、第2試料支持アーム
54 試料ホルダボア
60 照明源
60a、60b 第1、第2照明源
70 試料観察ウィンドウ
71 試料観察手段
72 シャッタ手段
73 シャッタ作動手段
74 試料撮像手段
76 光軸
80 回転ステージリフト手段
86 上昇位置
88 処理位置
90 真空ポンプ手段
92 ポンピングマニホルド
92a、92b 第1、第2ポンピングマニホルド
100 インスツルメントコントローラ
102a、102b、102c、102d、102e 第1、第2、第3、第4、第5通信チャネル
200、202、204、206、208、210、212、214、216、218 プロセスステップ
300、302、304、306、308、310、312、314、316 プロセスステップ
400、402、404、406、408、410 プロセスステップ
Claims (13)
- イオンビーム試料調製方法において、
a)前記試料の少なくとも一部分が真空チャンバ内においてイオンビームによって調製されるように、所定の強度を有すると共に第1傾斜角度を有するイオンビームを前記試料に向かって導くステップと、
b)光源により前記試料の少なくとも一部分を照明するステップと、
c)前記イオンビームの一部分と実質的に交差する回転軸を有する回転ステージを使用して前記試料を回転させるステップと、
d)前記試料の少なくとも一部分の実質的に合焦された画像を撮像するステップと、
e)前記撮像された画像から1つ又は複数の特徴を機器制御装置内において抽出するステップであって、前記抽出された特徴のうちの少なくとも1つは、前記撮像された画像の一部分における色、前記撮像された画像の一部分における形状、及び前記撮像された画像の一部分における光学干渉リングの一部分、のうちの少なくとも1つである抽出するステップと、
f)(i)前記イオンビームの前記傾斜角度を第2傾斜角度に変更すること、(ii)前記イオンビームの強度を第2の強度に変更することであって、ゼロよりも大きい第2の強度に変更すること、および(iii)前記回転ステージの前記回転角度を変更すること、のうちの少なくとも1つを実行することにより、前記1つ又は複数の特徴の前記抽出に対して前記機器制御装置内において応答するステップと、
前記イオンビームを前記試料に向かって導くことを継続するステップであって、前記イオンビームまたは前記回転ステージが、(i)前記傾斜角度が変更された状態、(ii)前記第2の強度である状態、および(iii)前記回転角度が変更された状態、のうちの少なくとも1つであるステップと、
を有することを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、d)前記試料の少なくとも一部分の実質的に合焦された画像を撮像するステップの前に、前記回転ステージを既定の位置に回転させるステップが行われることを更に特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、d)前記試料の少なくとも一部分の実質的に合焦された画像を撮像するステップの前に、既定の時点まで待機するステップが行われることを更に特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、(i)前記イオンビームの前記傾斜角度を第2傾斜角度に変更することと、(ii)前記イオンビームの前記強度を第2の強度に変更することと、(iii)前記回転ステージの前記回転角度を変更することと、を含む群のうちの少なくとも1つを実行するための将来時点を前記機器制御装置内において推定するステップを更に有することを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法において、前記撮像された画像から抽出される前記特徴のうちの1つ又は複数は、停止条件を表すことを更に特徴とする方法。
- 請求項1に記載のイオンビーム試料調製方法が、さらに、
g)前記試料の一連の画像を撮像するステップであって、一連の各画像は、実質的に合焦されている、ステップと、
h)前記撮像された一連の画像から1つ又は複数の特徴を前記機器制御装置内において抽出するステップと、
i)(i)前記イオンビームの傾斜角度を変更すること、(ii)前記イオンビームの強度を変更すること、(iii)および前記回転ステージの位置を変更すること、のうちの少なくとも1つを実行することにより、前記撮像された一連の画像からの1つ又は複数の特徴の抽出に対して、前記機器制御装置において応答するステップと、
を有することを特徴とする方法。 - 請求項6に記載の方法において、前記複数の画像のシーケンスから抽出される前記特徴のうちの少なくとも1つは、前記撮像された画像の一部分のサイズの時間に対する変化、前記撮像された画像の一部分における色の時間に対する変化、前記撮像された画像の一部分における形状の時間に対する変化、前記撮像された画像の一部分における強度の時間に対する変化、及び前記撮像された画像の一部分における光学干渉リングの一部分の時間に対する変化からなる群からのものであることを更に特徴とする方法。
- 請求項6に記載の方法において、それぞれの画像は、前記回転ステージが実質的に同一の回転角度において位置決めされた状態において撮像されることを更に特徴とする方法。
- 請求項8に記載の方法において、前記一連の画像が撮像された順序と同一の順序において前記複数の画像のシーケンスを表示するステップを更に有することを特徴とする方法。
- 請求項6に記載の方法において、
a)1つ又は複数の撮像された前記画像のそれぞれが撮像される回転角度が異なってもよいことを更に特徴とする1つ又は複数の撮像された画像を前記機器制御装置内において処理するステップと、
b)1つ又は複数のプログラムにより回転された画像を生成するステップであって、前記1つ又は複数のプログラムにより回転された画像のそれぞれが前記1つ又は複数の撮像された画像に対応していることを更に特徴とし、且つ、前記1つ又は複数のプログラムにより回転された画像のそれぞれが実質的に同一の既定の回転角度において撮像されたように見えることを更に特徴とするステップと、
を更に有することを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法において、前記プログラムにより回転された一連の画像を表示するステップを更に有することを特徴とする方法。
- 請求項10に記載の方法において、
a)前記プログラムにより回転された一連の画像から1つ又は複数の特徴を機器制御装置内において抽出するステップと、
b)(i)前記イオンビームの前記傾斜角度を第2傾斜角度に変更すること、(ii)前記イオンビームの前記強度を変更すること、および(iii)前記回転ステージの位置を変更すること、のうちの少なくとも1つを実行することにより、前記プログラムにより回転された一連の画像からの前記1つ又は複数の特徴の前記抽出に対して前記機器制御装置内において応答するステップと、
を更に有することを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法において、
a)前記1つ又は複数のプログラムにより回転された画像を保存するステップと、
b)前記1つ又は複数のプログラムにより回転された画像を取得するステップと、
c)前記1つ又は複数のプログラムにより回転された画像を表示するステップと、
を更に有することを特徴とする方法。
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