JP6465345B2 - 研磨パッドの表面性状測定方法および装置 - Google Patents
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Description
例えば、特許文献1には、光ビームを研磨パッドに照射して研磨パッドの表面粗さを測定する方法が開示されている。
また、特許文献2には、研磨パッドにレーザ光を照射し、研磨パッドから反射散乱した散乱光から空間波長スペクトルを得ることで研磨パッドの表面性状を測定する方法が開示されている。
本発明者らは、レーザ光を研磨パッドに照射して研磨パッドの表面性状を評価する実験を繰り返し行うとともに実験結果の解析を進めた結果、複数の入射角を用いて研磨パッド表面性状を測定しない場合、真にCMP性能を反映した研磨パッド表面の性状を捉えられない場合がある、という課題を見い出したものである。
また、本発明は、研磨パッドの表面性状の測定結果に基づいて運転条件を設定して、研磨やドレッシングを行うCMP装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、複数の入射角で研磨パッドの表面性状を得ることで、単一の入射角で研磨パッドの表面性状を得る場合よりも、より強くCMP性能を反映した(CMP性能と相関の強い)研磨パッドの表面性状を得ることができる。
本発明によれば、ブリュースター角より入射角が小さいと、反射率が低く、十分な反射光量が得られない場合があるため、本発明においては、入射角をブリュースター角よりも大きくすることが望ましい。
本発明の好ましい態様によれば、前記複数のレーザ光の入射角は、光源と研磨パッドとの間に設置されたミラーの角度及び/又は位置を変化させることで調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記複数のレーザ光の入射角は、光源を動かすことで調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記複数のレーザ光の入射角は、異なる位置に複数の光源を設置することにより調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記複数のレーザ光の入射角は、投光する光ファイバーの角度によって調整することを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記光学系は、光源、投光部、ミラー、受光部の内、少なくとも一つが可動であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記光学系は、受光部がCCD素子もしくはCMOS素子を含むことを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記光学系は、投光部が光ファイバーであることを特徴とする。
本発明のCMP装置は、研磨対象物である基板を保持し前記研磨パッドに押圧するキャリアと、前記研磨パッドを保持し、回転させる研磨テーブルと、前記研磨パッドのドレッシングを行うドレッサーと、請求項10乃至15のいずれか一項に記載の研磨パッドの表面性状測定装置とを備えることを特徴とする。
(1)複数の入射角で研磨パッドの表面性状を得ることで、単一の入射角で研磨パッドの表面性状を得る場合よりも、より強くCMP性能を反映した(CMP性能と相関の強い)研磨パッドの表面性状を得ることができる。
(2)本発明によれば、研磨パッドの表面性状がリアルタイムで把握できるために、以下のCMPの安定運用が可能となる。
1)研磨パッドやドレッサーを無駄なく寿命の最後まで使い切ることでできるために消耗材コストを抑制できる。
2)何らかのドレッシング異常による研磨パッドの表面性状の非定常状態を即座に検知して発報することができるために、CMP性能不良による半導体デバイスの製造不良を最低限に抑えることができる。
3)研磨パッドの表面性状の変化に応じてドレッシング条件を変更することで、常に研磨パッドの表面性状をCMP性能の確保に必要な状態に維持できる。
受光部32は、CCD素子またはCMOS素子からなり、研磨パッド2の上方に配置されている。受光部32は、演算処理装置40に接続されている。演算処理装置40は、受光部で受光した反射光の強度分布(スペクトル)を特定の演算方法によりCMP性能と相関ある数値に換算する演算機能を具備している。また、演算処理装置40は、反射光強度分布やCMP性能と相関ある数値を表示する表示機能を備えている。演算処理装置40はCMPの制御装置に組み込んでもよい。演算処理装置40からの信号はCMPの制御装置へ入力される。
また、ミラー33および受光部32をともに二点鎖線で示す上昇位置にした場合、光源31から出射したレーザ光は、ミラー33で反射して光路が変更され、入射角=Bで研磨パッドに入射する。研磨パッド2の表面で反射した反射光は受光部32に受光される。
このように、ミラー33と受光部32を可動式にすることにより、固定された光源(投光部)31から出射されるレーザ光を研磨パッド2に対して複数の入射角で入射させることを可能にしている。
また、光源31を揺動させて二点鎖線で示す傾斜位置にした場合、光源31から出射したレーザ光は、ミラー33で反射して光路が変更され、入射角=Bで研磨パッド2に入射する。研磨パッド2の表面で反射した反射光は下方位置にある第2受光部32−2に受光される。
このように、光源(投光部)31を揺動させることで光源(投光部)31から出射されるレーザ光の角度を変更可能とし、固定されたミラー33を介して、研磨パッド2に対して複数の入射角で入射させることを可能にしている。
また、光源31を揺動させて二点鎖線で示す傾斜位置にした場合、光源31から出射したレーザ光は、ミラー33で反射して光路が変更され、入射角=Bで研磨パッド2に入射する。研磨パッド2の表面で反射した反射光は受光部32に受光される。
このように、光源(投光部)31を揺動させることで光源(投光部)31から出射されるレーザ光の角度を変更可能とし、固定されたミラー33を介して、研磨パッド2に対して複数の入射角で入射させることを可能にしている。そして、受光部32は、反射角が異なる全ての反射光を受光できるように、大きな受光面32aを有しており、固定された(可動でない)受光部32は一つでよい。
このように、複数の光源31−1,31−2と複数の受光部32−1,32−2とを設置することにより、レーザ光を研磨パッド2に対して複数の入射角で入射させることを可能にしている。各入射角に対応するように、受光部32−1,32−2は、それぞれ、大きさ,位置,角度が選定される。
このように、スプリッタ35を用いて、一つの光源31からのレーザ光を分岐して、二つのミラー33−1,33−2で異なる角度に反射させることにより、二つの入射角を一つの光源で実現している。
このように、形状が自在に変更可能な光ファイバー(投光部)36−1,36−2を用いて、レーザ光を研磨パッド2に対して複数の入射角で入射させることを可能にしている。そして、受光部32は、反射角が異なる全ての反射光を受光できるように、大きな受光面32aを有しており、固定された(可動でない)受光部32は一つでよい。なお、図6と同様に複数個の受光部を設けてもよい。
パッド表面性状として、主に表面粗さの成分を評価する。具体的には、空間波長スペクトルを取得後、まずある波長領域(領域1)の信号強度を積分し、次に特に研磨性能に寄与すると考えられる領域1の範囲内にあって、且つ、領域1より狭い特定波長領域(領域2)を選定し、更に領域2の信号強度を積分した上で、両者の信号強度の比率を評価指標とする。この指標を、波長構成比と定義し、パッド表面性状を評価する。
図9は、代表的な研磨パッド材料であるポリウレタンと空気の屈折率から求めた、入射光の入射角と反射率との関係を示すグラフである。図9から分かるように、ブリュースター角より入射角が小さいと、反射率が低く、十分な反射光量が得られない場合があるため、入射角をブリュースター角よりも大きくすることが望ましい。この場合、p波の反射率がゼロとなるブリュースター角は約56.3度であるから、ブリュースター角より大きな入射角は、56.3度以上である。
1a テーブル軸
2 研磨パッド
2a 研磨面
3 研磨液供給ノズル
10 キャリア
11 シャフト
12 キャリアアーム
20 ドレッシング装置
21 ドレッサーアーム
22 ドレッサー
22a ドレッシング部材
30 表面性状測定装置
31 光源
31−1 第1光源
31−2 第2光源
32 受光部
32−1 第1受光部
32−2 第2受光部
32a 受光面
33 ミラー
33−1 第1ミラー
33−2 第2ミラー
35 スプリッタ
36−1 第1光ファイバー
36−2 第2光ファイバー
40 演算処理装置
Claims (16)
- 研磨パッドの表面にレーザ光を照射し、研磨パッド表面で反射された光を受光してフーリエ変換することで、研磨パッドの表面性状を求める研磨パッドの表面性状測定方法であって、
複数の入射角で研磨パッドの表面にレーザ光を入射せしめ、前記複数の入射角にそれぞれ対応した研磨パッドの表面からの複数の反射光であって反射角が異なる複数の反射光を受光し、受光した複数の反射光をそれぞれフーリエ変換することで複数の研磨パッドの表面性状を求め、
前記複数の入射角は、60°と80°の入射角であることを特徴とする研磨パッドの表面性状測定方法。 - 前記複数のレーザ光の入射角は、測定対象である研磨パッド材料に対するブリュースター角より大きな角度範囲から選択されることを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、測定対象である研磨パッド材料、研磨パッド表面のドレッシング条件、研磨パッドのドレッシングを行うドレッサー部材の種類に応じて選択されることを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、光源と研磨パッドとの間に設置されたミラーの角度及び/又は位置を変化させることで調整することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、光源と研磨パッドとの間において異なる位置に設置されたミラーに反射させることで決定することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、光源を動かすことで調整することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、異なる位置に複数の光源を設置することにより調整することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、光源と研磨パッドとの間に設置されたスプリッタで調整することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 前記複数のレーザ光の入射角は、投光する光ファイバーの角度によって調整することを特徴とする請求項1記載の研磨パッドの表面性状測定方法。
- 研磨パッドに対して少なくとも二つの角度でレーザ光を入射可能な光学系と、前記光学系で得られた研磨パッドからの反射光をフーリエ変換することで研磨パッドの表面性状を求める演算処理装置とを備え、
前記光学系は、複数の入射角で研磨パッドの表面にレーザ光を入射せしめ、前記複数の入射角にそれぞれ対応した研磨パッドの表面からの複数の反射光であって反射角が異なる複数の反射光を受光し、
前記演算処理装置は、受光した複数の反射光をそれぞれフーリエ変換することで複数の研磨パッドの表面性状を求め、
前記複数の入射角は、60°と80°の入射角であることを特徴とする研磨パッドの表面性状測定装置。 - 前記光学系は、光源、投光部、ミラー、受光部の内、少なくとも一つが可動であることを特徴とする請求項10記載の研磨パッドの表面性状測定装置。
- 前記光学系は、光源、投光部、ミラー、受光部の内、少なくとも一つが複数個備えられたことを特徴とする請求項10記載の研磨パッドの表面性状測定装置。
- 前記光学系は、受光部がCCD素子もしくはCMOS素子を含むことを特徴とする請求項10記載の研磨パッドの表面性状測定装置。
- 前記光学系は、投光部が光ファイバーであることを特徴とする請求項10記載の研磨パッドの表面性状測定装置。
- 研磨パッドに対して少なくとも二つの角度でレーザ光を入射可能な光学系と、前記光学系で得られた研磨パッドからの反射光をフーリエ変換することで研磨パッドの表面性状を求める演算処理装置とを備え、
前記光学系は、光源とミラーと受光部とを有し、前記光源からレーザ光の照射中に、前記ミラーを固定し且つ前記光源を揺動させるか、又は前記光源を固定し且つ前記ミラーを動かすことで複数の入射角で研磨パッドの表面にレーザ光を入射せしめ、前記複数の入射角にそれぞれ対応した研磨パッドの表面からの複数の反射光であって反射角が異なる複数の反射光を前記受光部で受光し、
前記演算処理装置は、前記受光部で受光した複数の反射光をそれぞれフーリエ変換することで複数の研磨パッドの表面性状を求めることを特徴とする研磨パッドの表面性状測定装置。 - 研磨対象物である基板を保持し前記研磨パッドに押圧するキャリアと、
前記研磨パッドを保持し、回転させる研磨テーブルと、
前記研磨パッドのドレッシングを行うドレッサーと、
請求項10乃至15のいずれか一項に記載の研磨パッドの表面性状測定装置とを備えることを特徴とするCMP装置。
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