JP6447510B2 - 無アルカリガラス基板、および、無アルカリガラス基板の薄板化方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 166
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 109
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 47
- 239000003513 alkali Substances 0.000 title claims description 13
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010828 elution Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Description
(1)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
(2)薄膜形成工程で高温にさらされる際に、ガラスの変形およびガラスの構造安定化に伴う収縮(熱収縮)を最小限に抑えうるように、歪点が高いこと。
(4)内部および表面に欠点(泡、脈理、インクルージョン、ピット、キズ等)がないこと。
(5)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も密度の小さいガラスが望まれる。
(6)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス基板の薄板化が望まれる。
(8)液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降温速度を速くして、生産性を上げたり耐熱衝撃性を上げるために、ガラスの平均熱膨張係数の小さいガラスが求められる。
また、ガラス製造プロセス、特に溶解、成形における要請から、ガラスの粘性、特にガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4を低くすることが求められている。
前記無アルカリガラス基板における、比弾性率が31MNm/kg以上であり、光弾性定数が30nm/MPa/cm以下であり、
少なくとも一方の主面は、AFM測定における1μm四方の表面粗さRaが0.75nm以下である無アルカリガラス基板を提供する。
歪点が680〜735℃であって、50〜350℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜43×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1310℃以下であって、酸化物基準のモル%表示で
SiO2 63〜74、
Al2O3 11.5〜16、
B2O3 1.5超5以下、
MgO 5.5〜13、
CaO 1.5〜12、
SrO 1.5〜9、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2を含有し
MgO+CaO+SrO+BaO が15.5〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下である無アルカリガラス。
薄板化後の無アルカリガラス基板が下記の無アルカリガラスであり、前記無アルカリガラス基板の少なくとも一方の主面を、フッ酸(HF)を含有するエッチング液に浸漬して、前記無アルカリガラス基板を5μm以上薄板化する、無アルカリガラス基板の薄板化方法を提供する。
歪点が680〜735℃であって、50〜350℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜43×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1310℃以下であって、
25℃の5質量%フッ酸に浸漬したときの単位面積および単位時間当たりの溶出量が0.17(mg/cm 2 )/分以上であって、
酸化物基準のモル%表示で
SiO2 63〜74、
Al2O3 11.5〜16、
B2O3 1.5超5以下、
MgO 5.5〜13、
CaO 1.5〜12、
SrO 1.5〜9、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2を含有し
MgO+CaO+SrO+BaO が15.5〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下である無アルカリガラス。
本発明の無アルカリガラス基板の薄板化方法では、下記ガラス組成となるように調合したガラス原料を用いた無アルカリガラス基板を使用する。
歪点が680〜735℃であって、50〜350℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜43×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1310℃以下であって、酸化物基準のモル%表示で
SiO2 63〜74、
Al2O3 11.5〜16、
B2O3 1.5超5以下、
MgO 5.5〜13、
CaO 1.5〜12、
SrO 1.5〜9、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2を含有し
MgO+CaO+SrO+BaO が15.5〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下である無アルカリガラス。
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、0.37以上が好ましく、0.4以上がより好ましい。
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、0.48以下が好ましく、0.45以下がより好ましい。
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、0.40以下が好ましく、0.30以下がより好ましく、0.27以下がより好ましく、0.25以下がさらに好ましい。
なお、本発明の無アルカリガラス基板を用いたディスプレイ製造時にガラス表面に設ける金属ないし酸化物薄膜の特性劣化を生じさせないために、ガラス原料はP2O5を実質的に含有しないことが好ましい。不純物としての混入量は23モルppm以下が好ましく、18モルppm以下がより好ましく、11モルppm以下がさらに好ましく、5モルppm以下が特に好ましい。さらに、ガラスのリサイクルを容易にするため、ガラス原料はPbO、As2O3、Sb2O3は実質的に含有しないことが好ましい。
各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し、1500〜1800℃に加熱して溶融する。この溶融ガラスを成形装置にて、所定の板厚の板状のガラスリボンに成形し、このガラスリボンを徐冷後切断することによって、無アルカリガラス基板を得ることができる。
本発明では、フロート法にて板状のガラスリボンに成形することが好ましい。
エッチング処理により薄板化せずに、最初から薄板、すなわち、板厚が小さい無アルカリガラス基板を使用すると、ディスプレイ製造時に実施されるデバイス作製工程などで、大きな薄板をハンドリングする必要があるため、自重たわみによる搬送トラブル(例えば、搬送時の接触による基板へのキズの発生等。以下、同様)や基板の割れなどの問題が生じやすい。好ましくは10μm以上、さらに好ましくは100μm以上、特に好ましくは200μm以上薄板化される。
エッチング処理時には、無アルカリガラス基板の少なくとも一方の主面を、フッ酸を含む薬液に浸漬させる。薬液中のフッ素濃度に応じて、所定時間浸漬させることで、無アルカリガラス基板が所定量薄板化される。
エッチング処理において、薬液が撹拌、バブリング、超音波、シャワー、のうち少なくともいずれか1種類以上の方法で流動されていることが好ましい。薬液を流動する代わりに、無アルカリガラス基板を揺動、回転、のうち少なくともいずれか1種類以上の方法で移動させてもよい。
また、平均破壊荷重とは、BOR法による破壊荷重の測定を複数回実施し、それらによって得られた測定結果の平均値を意味する。なお、後述する実施例では、BOR法による破壊荷重の測定を5回実施し、それらの測定結果の平均値を平均破壊荷重とした。
BOR法で測定した平均破壊荷重が板厚0.4mm換算で300N未満だと、無アルカリガラス基板の表面強度が低く、ディスプレイ製造時におけるハンドリング時等にガラス基板が割れるなど(例えば、支持ピン等で、デバイス作製後の無アルカリガラス基板を持ち上げるような工程でガラス基板が割れるなど)、薄板化後の強度が問題となるおそれがある。より好ましくは350N以上である。
BOR法ではガラス基板表面に発生する応力は板厚の二乗に反比例するため、板厚0.4mm換算の破壊荷重W(N)は、ガラス基板の板厚をt(mm)とし、BOR法により得られる破壊荷重をw(N)とするとき、W=w×0.16/t2の関係式より求めることができる。
薄板化後の無アルカリガラス基板のエッチング処理された側の主面(評価したい側の面)の3点曲げによる面強度は以下のように測定する。評価面をシールで保護した状態で、ガラス基板をポイントスクライバーにてスクライブし、切断した後、評価面のシールをはがして非スクライブ側が下になるようにスパン10mm、R1.5mmの3点曲げジグの上に設置する。上面のスクライブ側からR1.5mmのジグにて押した際の破壊荷重から、3点曲げによる面強度を算出する。
評価面にキズが入ると低強度となるので、薄板後は評価面にはさわらない状態で維持する必要がある。曲げ試験において、端面に破壊起点がある場合は面強度ではなく端面強度を測定していることになるため、起点が面内にある場合の試験結果のみを採用し、平均破壊荷重を求める。
本発明の無アルカリガラス基板は、歪点が680℃以上であるため、パネル製造時の熱収縮を抑えられる。また、p−Si TFTの製造方法としてレーザーアニールによる方法を適用することができる。685℃以上がより好ましく、690℃以上がさらに好ましい。
また、本発明の無アルカリガラス基板は、歪点が680℃以上であるため、高歪点用途(例えば、板厚0.7mm以下、好ましくは0.5mm以下、より好ましくは0.3mm以下の有機EL用のディスプレイ用基板または照明用基板、あるいは板厚0.3mm以下、好ましくは0.1mm以下の薄板のディスプレイ用基板または照明用基板)に適している。
板厚0.7mm以下、さらには0.5mm以下、さらには0.3mm以下、さらには0.1mm以下の板ガラスの成形では、成形時の引き出し速度が速くなる傾向があるため、ガラスの仮想温度が上昇し、ガラスのコンパクションが増大しやすい。この場合、高歪点ガラスであると、コンパクションを抑制することができる。
一方、歪点が735℃以下であるため、フロートバス内及びフロートバス出口の温度をあまり高くする必要が無く、フロートバス内及びフロートバス下流側に位置する金属部材の寿命に影響を及ぼすことが少ない。725℃以下がより好ましく、715℃以下がさらに好ましく、710℃以下が特に好ましい。
また、ガラスの平面歪が改善するため、フロートバス出口から徐冷炉に入る部分で温度を高くする必要があるが、この際の温度をあまり高くする必要がない。このため、加熱に使用するヒータに負荷がかかることがなく、ヒータの寿命に影響を及ぼすことが少ない。
また、本発明の無アルカリガラス基板は失透温度が、1315℃以下であることがフロート法による成形が容易となることから好ましい。好ましくは1300℃以下、1300℃未満、1290℃以下、より好ましくは1280℃以下である。また、フロート成形性やフュージョン成形性の目安となる温度T4(ガラス粘度ηが104ポイズとなる温度、単位:℃)と失透温度との差(T4−失透温度)は、好ましくは−20℃以上、−10℃以上、さらには0℃以上、より好ましくは10℃以上、さらに好ましくは20℃以上、特に好ましくは30℃以上である。
本明細書における失透温度は、白金製の皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で17時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面及び内部に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値である。
液晶ディスプレイパネル製造工程や液晶ディスプレイ装置使用時に発生した応力によってガラス基板が複屈折性を有することにより、黒の表示がグレーになり、液晶ディスプレイのコントラストが低下する現象が認められることがある。光弾性定数を30nm/MPa/cm以下とすることにより、この現象を小さく抑えることができる。好ましくは29nm/MPa/cm以下、より好ましくは28.5nm/MPa/cm以下、さらに好ましくは28nm/MPa/cm以下である。
また、本発明の無アルカリガラス基板は、他の物性確保の容易性を考慮すると、光弾性定数が好ましくは23nm/MPa/cm以上、より好ましくは25nm/MPa/cm以上である。
なお、光弾性定数は円盤圧縮法により測定波長546nmにて測定できる。
日本国特開2011−70092号公報に記載されているような、インセル型のタッチパネル(液晶ディスプレイパネル内にタッチセンサを内蔵したもの)の場合、タッチセンサのセンシング感度の向上、駆動電圧の低下、省電力化の観点から、ガラス基板の比誘電率が高いほうがよい。比誘電率を5.6以上とすることにより、タッチセンサのセンシング感度が向上する。好ましくは5.8以上、より好ましくは6.0以上、さらに好ましくは6.2以上、特に好ましくは6.4以上である。
なお、比誘電率はJIS C−2141に記載の方法で測定できる。
各成分の原料を、表1に示す目標組成になるように調合し、連続溶融窯にて溶解を行い、フロート法にて板成形を行い、無アルカリガラス基板を得た。
得られたガラス基板を鏡面研磨後、8質量%フッ酸、10質量%塩酸による混酸にて、バブリングを行いながら板厚が0.7mmから0.4mmになるよう、ガラス基板の片面のエッチング処理を行い、薄板化を行った。
薄板化後のガラス基板を用いて、直径30mm、R=2.5mmのSUS製リングと直径10mmのSUS製ボールとを用いたボールオンリング(BOR)法にて破壊荷重の測定を5回実施し、それらの測定結果から得られた板厚0.4mm換算の平均破壊荷重を表2に示す。
また、上記と同様の手順で、板厚を30μmエッチング処理した場合の、エッチング処理面における表面粗さを下記手法で求めた。結果を下記表2に示す。
ガラス基板のエッチング処理面について、Park Systems社製XE−HDMにて、スキャンレートを1Hzとし、1μm四方の表面粗さRaを求める。
さらに、フッ酸エッチング処理時のエッチング速度の指標として、25℃、5質量%のフッ酸水溶液に無アルカリガラス基板を浸漬した際の、単位面積および単位時間当たりの溶出量を下記手順で評価した。結果を表2に示す。かっこは計算値を示す。
鏡面研磨された40mm四方に切断した無アルカリガラス基板を洗浄後、質量を測定する。25℃の5質量%フッ酸に20分間浸漬し、浸漬後の質量を測定する。サンプル寸法から表面積を算出し、質量減少量を表面積で割ったのち、さらに浸漬時間で割ることで、単位面積および単位時間当たりの溶出量を求める。
なお、上記の手順で得られた無アルカリガラス基板については、歪点、ヤング率、比弾性率、光弾性定数、比誘電率も測定した。結果を表2に示す。
本出願は、2013年11月28日出願の日本特許出願2013−246801に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
Claims (3)
- 板厚0.4mm以下の無アルカリガラス基板であって、前記無アルカリガラス基板が下記の無アルカリガラスであり、
前記無アルカリガラス基板における、比弾性率が31MNm/kg以上であり、光弾性定数が30nm/MPa/cm以下であり、
少なくとも一方の主面は、AFM測定における1μm四方の表面粗さRaが0.75nm以下である無アルカリガラス基板。
歪点が680〜735℃であって、50〜350℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜43×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1310℃以下であって、酸化物基準のモル%表示で
SiO2 63〜74、
Al2O3 11.5〜16、
B2O3 1.5超5以下、
MgO 5.5〜13、
CaO 1.5〜12、
SrO 1.5〜9、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2を含有し
MgO+CaO+SrO+BaO が15.5〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下である無アルカリガラス。 - 前記無アルカリガラス基板は、直径が30mmでRが2.5mmのリングと直径10mmのボールを用いたボールオンリング(BOR)法で測定した平均破壊荷重が板厚0.4mm換算で300N以上である、請求項1に記載の無アルカリガラス基板。
- 無アルカリガラス基板の薄板化方法であって、
薄板化後の無アルカリガラス基板が下記の無アルカリガラスであり、前記無アルカリガラス基板の少なくとも一方の主面を、フッ酸(HF)を含有するエッチング液に浸漬して、前記無アルカリガラス基板を5μm以上薄板化する、無アルカリガラス基板の薄板化方法。
歪点が680〜735℃であって、50〜350℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜43×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1310℃以下であって、
25℃の5質量%フッ酸に浸漬したときの単位面積および単位時間当たりの溶出量が0.17(mg/cm 2 )/分以上であって、
酸化物基準のモル%表示で
SiO2 63〜74、
Al2O3 11.5〜16、
B2O3 1.5超5以下、
MgO 5.5〜13、
CaO 1.5〜12、
SrO 1.5〜9、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2を含有し
MgO+CaO+SrO+BaO が15.5〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.35以上であり、CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下であり、SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.50以下である無アルカリガラス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013246801 | 2013-11-28 | ||
JP2013246801 | 2013-11-28 | ||
PCT/JP2014/081293 WO2015080171A1 (ja) | 2013-11-28 | 2014-11-26 | 無アルカリガラス基板、および、無アルカリガラス基板の薄板化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015080171A1 JPWO2015080171A1 (ja) | 2017-03-16 |
JP6447510B2 true JP6447510B2 (ja) | 2019-01-09 |
Family
ID=53199110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015550970A Active JP6447510B2 (ja) | 2013-11-28 | 2014-11-26 | 無アルカリガラス基板、および、無アルカリガラス基板の薄板化方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6447510B2 (ja) |
KR (1) | KR102249898B1 (ja) |
CN (1) | CN105992749B (ja) |
TW (1) | TWI639571B (ja) |
WO (1) | WO2015080171A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016084952A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2017-10-05 | 旭硝子株式会社 | 液晶ディスプレイパネル |
EP3442244B1 (en) * | 2016-04-05 | 2020-04-15 | Agc Inc. | Glass sheet composite |
CN106746601B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-06-04 | 东旭集团有限公司 | 用于制备玻璃的组合物、玻璃制品及用途 |
US11554984B2 (en) * | 2018-02-22 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5116789A (en) | 1991-08-12 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays |
JP3800657B2 (ja) * | 1996-03-28 | 2006-07-26 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル |
JP3804112B2 (ja) | 1996-07-29 | 2006-08-02 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル |
DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
CN103172259B (zh) * | 2006-02-10 | 2015-10-21 | 康宁股份有限公司 | 具有高的热稳定性和化学稳定性的玻璃组合物及其制备方法 |
KR20090066624A (ko) | 2007-12-20 | 2009-06-24 | 주식회사 엘지화학 | 내스크래치성이 향상된 열가소성 난연수지 조성물 |
WO2009157378A1 (ja) * | 2008-06-25 | 2009-12-30 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板のエッチング方法及び表示デバイス |
EP2450319A4 (en) * | 2009-07-02 | 2015-01-28 | Asahi Glass Co Ltd | ALKALIFREE GLASS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
TWI478889B (zh) * | 2010-10-06 | 2015-04-01 | Corning Inc | 具有高熱與化學穩定性的無鹼玻璃組合物 |
JP5849965B2 (ja) * | 2010-12-07 | 2016-02-03 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
WO2013099970A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | AvanStrate株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
WO2014100432A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Corning Incorporated | Glass with improved total pitch stability |
JP2017007870A (ja) * | 2013-11-13 | 2017-01-12 | 旭硝子株式会社 | 板ガラスの製造方法 |
JP2017030976A (ja) * | 2013-12-04 | 2017-02-09 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の仕上げ研磨方法、および、該方法で仕上げ研磨された無アルカリガラス基板 |
-
2014
- 2014-11-26 CN CN201480065338.3A patent/CN105992749B/zh active Active
- 2014-11-26 KR KR1020167013811A patent/KR102249898B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-26 JP JP2015550970A patent/JP6447510B2/ja active Active
- 2014-11-26 WO PCT/JP2014/081293 patent/WO2015080171A1/ja active Application Filing
- 2014-11-28 TW TW103141495A patent/TWI639571B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102249898B1 (ko) | 2021-05-11 |
KR20160091332A (ko) | 2016-08-02 |
TW201529518A (zh) | 2015-08-01 |
TWI639571B (zh) | 2018-11-01 |
CN105992749B (zh) | 2020-11-03 |
WO2015080171A1 (ja) | 2015-06-04 |
JPWO2015080171A1 (ja) | 2017-03-16 |
CN105992749A (zh) | 2016-10-05 |
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Legal Events
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