JP6431998B1 - Conductive adhesive layer - Google Patents

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Abstract

【課題】導電性接着剤層の、被着体に対する仮止め工程後の密着性を向上させ、仮止め工程後の位置ずれが生じない導電性接着剤層を提供する。
【解決手段】バインダ樹脂110と、導電性フィラー120とを含有する導電性接着剤からなり、表面におけるスキューネスSskが−3.5以上、2.7以下であることを特徴とする。表面における最大山高さSpが1.3μm以上、30μm以下であり、前記導電性フィラーは、平均粒径D50が3μm以上、20μm以下であり、かつ前記導電性接着剤における含有率が10質量%以上、80質量%以下であることが好ましい。
【選択図】図1
An object of the present invention is to provide a conductive adhesive layer that improves the adhesion of a conductive adhesive layer to an adherend after a temporary fixing step and does not cause a positional shift after the temporary fixing step.
The present invention is characterized by comprising a conductive adhesive containing a binder resin 110 and a conductive filler 120, and having a skewness Ssk on the surface of −3.5 or more and 2.7 or less. The maximum peak height Sp on the surface is 1.3 μm or more and 30 μm or less, the conductive filler has an average particle diameter D50 of 3 μm or more and 20 μm or less, and the content in the conductive adhesive is 10% by mass or more. 80% by mass or less is preferable.
[Selection] Figure 1

Description

本開示は、導電性接着剤層、電磁波シールドフィルムおよびシールド配線基板に関する。   The present disclosure relates to a conductive adhesive layer, an electromagnetic wave shielding film, and a shield wiring board.

プリント配線基板には導電性接着剤が多用されている。この種の導電性接着剤は、例えば、絶縁保護層の表面に形成された導電性接着剤層の原料として、電磁波シールドフィルムなどに使用されている。この電磁波シールドフィルムは、例えば、プリント配線基板に接着させて、導電性接着剤層とプリント配線基板のグランド回路とを導通させる。   A conductive adhesive is frequently used for printed wiring boards. This type of conductive adhesive is used, for example, as an electromagnetic shielding film as a raw material for the conductive adhesive layer formed on the surface of the insulating protective layer. This electromagnetic wave shielding film is bonded to, for example, a printed wiring board to conduct the conductive adhesive layer and the ground circuit of the printed wiring board.

ところで、電磁波シールドフィルムをプリント配線基板などに接着する際、通常、所定の位置に仮止め固定した後、仮止め固定時よりも厳しい加圧加熱条件でプレスする。   By the way, when the electromagnetic wave shielding film is bonded to a printed wiring board or the like, it is usually temporarily fixed at a predetermined position and then pressed under conditions of pressure and heating that are stricter than those when temporarily fixing.

しかし、従来の電磁波シールドフィルムでは、加圧加熱後の接着強度を改良することに主眼がおかれているものが多く、加圧加熱後の接着強度は高いものの、仮止め固定後の接着強度に劣り、一度仮止めしても基板を動かすと電磁波シールドフィルムが剥がれてしまい、作業がやり直しになるおそれがある。   However, many conventional electromagnetic shielding films focus on improving the adhesive strength after pressure heating, and the adhesive strength after pressure heating is high, but the adhesive strength after temporary fixing is high. Inferior, if the substrate is moved even if temporarily fixed, the electromagnetic wave shielding film may be peeled off and the operation may be reworked.

そのため、プリント配線基板などの被着体との接着強度を改良するために、導電性接着剤層の表面性状を表面粗さRaで規定したものが開示されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, in order to improve the adhesive strength with an adherend such as a printed wiring board, the surface property of the conductive adhesive layer is defined by the surface roughness Ra (for example, see Patent Document 1). .

特開2017−25280号公報JP 2017-25280 A

しかし、導電性接着剤層の表面粗さRaが特定の範囲であっても、仮止め工程後の接着強度に劣り、仮止め工程後に導電性接着剤層の位置ずれが生じるおそれがある。   However, even if the surface roughness Ra of the conductive adhesive layer is in a specific range, the adhesive strength after the temporary fixing process is inferior, and the conductive adhesive layer may be displaced after the temporary fixing process.

本開示は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被着体に対する仮止め工程後の密着性を向上させることで、仮止め工程後の導電性接着剤層の位置ずれを防止することにある。   This indication is made in view of this point, and the object of the present disclosure is to improve the adhesion after the temporary fixing process to the adherend, so that the conductive adhesive layer after the temporary fixing process is improved. The purpose is to prevent displacement.

本開示の導電性接着剤層の一態様は、バインダ樹脂と、導電性フィラーとを含有する導電性接着剤からなり、表面におけるスキューネスSskが−3.5以上、2.7以下であることを特徴とする。   One aspect of the conductive adhesive layer of the present disclosure is composed of a conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler, and the skewness Ssk on the surface is −3.5 or more and 2.7 or less. Features.

本開示の導電性接着剤層の一態様において、表面における最大山高さSpが1.3μm以上、30μm以下とすることができる。   In one embodiment of the conductive adhesive layer of the present disclosure, the maximum peak height Sp on the surface can be set to 1.3 μm or more and 30 μm or less.

本開示の導電性接着剤層の一態様において、平均粒径D50が3μm以上、20μm以下であり、かつ前記導電性接着剤における含有率が10質量%以上、80質量%以下とすることができる。   In one embodiment of the conductive adhesive layer of the present disclosure, the average particle diameter D50 may be 3 μm or more and 20 μm or less, and the content in the conductive adhesive may be 10% by mass or more and 80% by mass or less. .

本開示の電磁波シールドフィルムの一態様は、絶縁保護層と、該絶縁保護層の表面に設けられた本開示の導電性接着剤層とを備えたことを特徴とする。   One aspect of the electromagnetic shielding film of the present disclosure includes an insulating protective layer and the conductive adhesive layer of the present disclosure provided on the surface of the insulating protective layer.

本開示のシールド配線基板の一態様は、グランド回路が設けられたプリント配線基板と、前記グランド回路と導通するように前記プリント配線基板に接着された本開示の電磁波シールドフィルムとを備えたことを特徴とする。   One aspect of the shielded wiring board of the present disclosure includes a printed wiring board provided with a ground circuit, and an electromagnetic wave shielding film of the present disclosure bonded to the printed wiring board so as to be electrically connected to the ground circuit. Features.

本開示によれば、被着体に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の導電性接着剤層の位置ずれを防止することができる。   According to this indication, it is excellent in the adhesiveness after the temporary fixing process with respect to a to-be-adhered body, and position shift of the conductive adhesive layer after a temporary fixing process can be prevented.

基層上に形成された導電性接着剤層の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the conductive adhesive layer formed on the base layer. 一実施形態に係る電磁波シールドフィルムの断面図である。It is sectional drawing of the electromagnetic wave shielding film which concerns on one Embodiment. 電磁波シールドフィルムの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of an electromagnetic wave shield film. 一実施形態に係るシールド配線基板の断面図である。It is sectional drawing of the shield wiring board which concerns on one Embodiment.

以下、本開示の実施形態を詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物あるいはその用途を制限することを意図するものでは全くない。   Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail. The following description of the preferred embodiments is merely exemplary in nature and is in no way intended to limit the present disclosure, its application, or its application.

<導電性接着剤層>
(スキューネスSsk)
本実施形態に係る導電性接着剤層は、その表面におけるスキューネスSskが−3.5以上、2.7以下であることを特徴とする。本実施形態に係る導電性接着剤層100は、図1に示すように、凸部100a(山)および凹部100b(谷)からなる凹凸表面を有し、その表面性状を特定するパラメータとして、スキューネスSskが特定の範囲に制御されているので、被着体(図示せず)に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれを防止することができる。
<Conductive adhesive layer>
(Skewness Ssk)
The conductive adhesive layer according to this embodiment is characterized in that the skewness Ssk on the surface thereof is −3.5 or more and 2.7 or less. As shown in FIG. 1, the conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment has a concavo-convex surface composed of convex portions 100 a (mountains) and concave portions 100 b (valleys), and skewness is used as a parameter for specifying the surface properties. Since Ssk is controlled within a specific range, it has excellent adhesion after the temporary fixing process to the adherend (not shown), and can prevent displacement of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing process. it can.

スキューネスSskは、凹凸表面の平均面を基準とした高さ分布の対称性を示し、スキューネスSskが0の場合には高さ分布が上下に対称(正規分布)な表面となる一方、0よりも小さい場合には細かい谷が多い表面となり、0よりも大きい場合には細かい山が多い表面となる。   The skewness Ssk indicates the symmetry of the height distribution with respect to the average surface of the concavo-convex surface. When the skewness Ssk is 0, the height distribution is a surface that is symmetrical in the vertical direction (normal distribution). When it is small, the surface has many fine valleys, and when it is larger than 0, the surface has many fine peaks.

導電性接着剤層100の表面におけるスキューネスSskの絶対値が大きい場合、すなわち山または谷が多い凹凸表面であると、被着体との接着面積が小さくなり、被着体に対する仮止め工程後の接着強度が不十分となる。   When the absolute value of the skewness Ssk on the surface of the conductive adhesive layer 100 is large, that is, an uneven surface with many peaks or troughs, the adhesion area with the adherend becomes small, and after the temporary fixing process to the adherend Adhesive strength is insufficient.

そのため、導電性接着剤層100の表面を、スキューネスSskが0を中心とする特定の範囲である、高さ分布が上下に比較的対称な表面にすることにより、被着体との接着面積を増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性を向上させることできる。   Therefore, by making the surface of the conductive adhesive layer 100 a surface having a skewness Ssk in a specific range centered at 0 and having a relatively symmetrical height distribution, the adhesion area with the adherend is increased. The adhesion after the temporary fixing step to the adherend can be improved.

したがって、スキューネスSskは、谷を少なくして高さ分布が上下に対称な表面に近付けることにより、被着体との接着面積を増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性を向上させる観点から、−3.5以上、好ましくは−3以上、より好ましくは−2.5以上、さらに好ましくは−2以上である。また、山を少なくして高さ分布が上下に対称な表面に近付けることにより、被着体との接着面積を増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性を向上させる観点から、2.7以下、好ましくは2.5以下、より好ましくは2以下、さらに好ましくは1.5以下である。   Therefore, the skewness Ssk increases the adhesion area with the adherend and improves the adhesion after the temporary fixing process to the adherend by reducing the valleys and bringing the height distribution closer to a vertically symmetrical surface. From the viewpoint, it is −3.5 or more, preferably −3 or more, more preferably −2.5 or more, and further preferably −2 or more. Further, from the viewpoint of increasing the adhesion area with the adherend and improving the adhesion after the temporary fixing step to the adherend by reducing the ridges and bringing the height distribution closer to the surface symmetrical in the vertical direction, 2 0.7 or less, preferably 2.5 or less, more preferably 2 or less, and even more preferably 1.5 or less.

なお、本明細書において、「被着体」とは、例えば、プリント配線基板のベース層を形成するポリイミドフィルムなどの樹脂フィルム、グランド回路を形成する銅箔などの金属層などを意味する。   In the present specification, the “adherent” means, for example, a resin film such as a polyimide film that forms a base layer of a printed wiring board, a metal layer such as a copper foil that forms a ground circuit, and the like.

また、本明細書において、「仮止め工程」とは、最終的な固定工程の前に行なう、例えば、120℃に加熱した2枚の加熱板(図示せず)により、導電性接着剤層100と被着体とを、上下方向から挟んで圧力0.5MPaで5秒間押圧する工程を意味する。   In the present specification, the “temporary fixing step” refers to the conductive adhesive layer 100 formed by, for example, two heating plates (not shown) heated to 120 ° C. before the final fixing step. And the adherend are sandwiched from above and below and pressed at a pressure of 0.5 MPa for 5 seconds.

さらに、本明細書において、「被着体に対する仮止め工程後の密着性に優れ」るとは、仮止め工程後における導電性接着剤層100と被着体との180°ピール強度が0.5N/cm以上であることを意味する。この場合、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれを防止することができる。なお、ピール強度の具体的な測定方法は以下の実施例にて説明する。   Further, in this specification, “excellent adhesion after the temporary fixing process to the adherend” means that the 180 ° peel strength between the conductive adhesive layer 100 and the adherend after the temporary fixing process is 0. It means 5 N / cm or more. In this case, displacement of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing step can be prevented. In addition, the specific measuring method of peel strength is demonstrated in a following example.

(最大山高さSp)
また、本実施形態に係る導電性接着剤層100は、表面における最大山高さSpが1.3μm以上、30μm以下であることが好ましい。このように、本実施形態に係る導電性接着剤層100は、その表面性状を特定するパラメータとして、最大山高さSpを特定の範囲に制御することで、被着体に対する仮止め工程後の密着性をより向上させ、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれをより防止することができる。
(Maximum mountain height Sp)
In addition, the conductive adhesive layer 100 according to this embodiment preferably has a maximum peak height Sp on the surface of 1.3 μm or more and 30 μm or less. As described above, the conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment controls the maximum peak height Sp to a specific range as a parameter for specifying the surface property, thereby allowing the adherend to adhere to the adherend after the temporary fixing step. The position of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing step can be further prevented.

最大山高さSpは、凹凸表面の平均面からの山高さの最大値を示し、最大山高さSpが大きいほど高い山を有する表面となる。   The maximum peak height Sp indicates the maximum peak height from the average surface of the concavo-convex surface, and the larger the maximum peak height Sp, the higher the surface.

導電性接着剤層100の表面における最大山高さSpが大きい場合、すなわち高い山を有する表面であると、その高い山が障害となって被着体との接着面積が小さくなり、このことで被着体に対する仮止め工程後の接着強度が不十分となる。   When the maximum peak height Sp on the surface of the conductive adhesive layer 100 is large, that is, when the surface has a high peak, the high peak causes an obstacle and the adhesion area with the adherend is reduced. Adhesive strength after the temporary fixing process to the adherend becomes insufficient.

そのため、導電性接着剤層100の表面を、最大山高さSpが特定の範囲である、最も高い山の山高さが比較的低い表面にすることにより、被着体との接着面積をより増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性をより向上させることできる。   Therefore, by making the surface of the conductive adhesive layer 100 a surface where the maximum peak height Sp is a specific range and the peak height of the highest peak is relatively low, the adhesion area with the adherend is further increased. The adhesion after the temporary fixing process to the adherend can be further improved.

したがって、最大山高さSpは、被着体との接着面積をより増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性をより向上させる観点から、好ましくは1.3μm以上、より好ましくは1.6μm以上である。また、最も高い山の山高さが比較的低い表面に近付けることにより、被着体との接着面積をより増加させ、被着体に対する仮止め工程後の密着性をより向上させる観点から、好ましくは30μm以下、より好ましくは25μm以下である。   Therefore, the maximum peak height Sp is preferably 1.3 μm or more, more preferably 1. from the viewpoint of further increasing the adhesion area with the adherend and further improving the adhesion after the temporary fixing process to the adherend. 6 μm or more. Moreover, from the viewpoint of increasing the adhesion area with the adherend and further improving the adhesion after the temporary fixing step to the adherend by approaching the surface where the height of the highest mountain is relatively low, preferably It is 30 μm or less, more preferably 25 μm or less.

(その他のパラメータ)
なお、導電性接着剤層100の表面性状を特定するパラメータとしては、スキューネスSskおよび最大山高さSp以外に、例えば、最大谷深さSv、最大山高さSpと最大谷深さSvとの和を示す最大高さSzなどが挙げられるが、本開示はかかる例示のみに限定されるものではない。
(Other parameters)
In addition to the skewness Ssk and the maximum peak height Sp, for example, the parameter for specifying the surface property of the conductive adhesive layer 100 is the sum of the maximum valley depth Sv, the maximum peak height Sp, and the maximum peak depth Sv. Although the maximum height Sz shown etc. are mentioned, this indication is not limited only to this illustration.

一方、算術平均Saは、後述する各実施例および各比較例で示すように、被着体に対する仮止め工程後の密着性とは相関がないことを本発明の発明者によって見出された。この理由として、算術平均Saは、凹凸表面の平均面に対して、各点(山と谷)の高さの差の絶対値の平均を表わすので、その値が小さい場合であっても、高い山と深い谷とが同程度有する凹凸表面が含まれる場合がある。この場合、その高い山と深い谷とが障害となって被着体との接着面積が小さくなり、被着体に対する仮止め工程後の接着強度が不十分となるものと考えられる。したがって、算術平均Saは、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれを防止することができる接着強度を得るための、導電性接着剤層100の表面性状を特定するパラメータとして適当ではない。   On the other hand, the inventor of the present invention found that the arithmetic average Sa does not correlate with the adhesion after the temporary fixing process to the adherend as shown in Examples and Comparative Examples described later. The reason for this is that the arithmetic mean Sa represents the average of the height difference of each point (mountain and valley) with respect to the average surface of the concavo-convex surface, so even if the value is small, it is high. There may be a case where the uneven surface which the mountain and the deep valley have to the same extent is included. In this case, it is considered that the high peaks and deep valleys obstruct the adhesive area with the adherend, and the adhesive strength after the temporary fixing process to the adherend becomes insufficient. Therefore, the arithmetic average Sa is not suitable as a parameter for specifying the surface property of the conductive adhesive layer 100 in order to obtain an adhesive strength that can prevent the displacement of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing step. Absent.

なお、本開示における表面性状は、ISO 25178−6:2010に準拠して測定される値であり、具体的な測定方法は以下の実施例にて説明する。   In addition, the surface property in this indication is a value measured based on ISO 25178-6: 2010, and a specific measuring method is demonstrated in a following example.

本実施形態に係る導電性接着剤層100は、バインダ樹脂110と、導電性フィラー120とを含有する導電性接着剤により形成される。   The conductive adhesive layer 100 according to this embodiment is formed of a conductive adhesive containing a binder resin 110 and a conductive filler 120.

(バインダ樹脂)
バインダ樹脂110は、特に限定されず、導電性接着剤に用いられる種々の樹脂を用いることができる。このような樹脂として、例えば、ポリスチレン系、酢酸ビニル系、ポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリアミド系、ゴム系、またはアクリル系などの熱可塑性樹脂;フェノール系、エポキシ系、ウレタン系、メラミン系、またはアルキッド系などの熱硬化性樹脂などを用いることができる。これらのバインダ樹脂110は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
(Binder resin)
The binder resin 110 is not particularly limited, and various resins used for conductive adhesives can be used. Examples of such resins include thermoplastic resins such as polystyrene, vinyl acetate, polyester, polyethylene, polypropylene, polyamide, rubber, and acrylic; phenol, epoxy, urethane, and melamine Alternatively, an alkyd-based thermosetting resin or the like can be used. These binder resins 110 may be used alone or in combination of two or more.

また、バインダ樹脂110には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、導電性接着剤層100の表面性状(スキューネスSskおよび最大山高さSp)を所定の状態に調整する観点から、樹脂微粒子または無機微粒子を添加することができる。樹脂微粒子としては、例えば、アクリル樹脂微粒子、ポリアクリロニトリル微粒子、ポリウレタン微粒子、ポリアミド微粒子、またはポリイミド微粒子などが挙げられる。また、無機微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム微粒子、珪酸カルシウム微粒子、クレー、カオリン、タルク、シリカ微粒子、ガラス微粒子、珪藻土、雲母粉、アルミナ微粒子、酸化マグネシウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、硫酸バリウム微粒子、硫酸アルミニウム微粒子、硫酸カルシウム微粒子、または炭酸マグネシウム微粒子などが挙げられる。これらの樹脂微粒子および無機微粒子は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   In addition, the binder resin 110 includes resin fine particles or a resin fine particle from the viewpoint of adjusting the surface properties (skewness Ssk and maximum peak height Sp) of the conductive adhesive layer 100 to a predetermined state within a range that does not impair the effects of the present invention. Inorganic fine particles can be added. Examples of the resin fine particles include acrylic resin fine particles, polyacrylonitrile fine particles, polyurethane fine particles, polyamide fine particles, and polyimide fine particles. Examples of the inorganic fine particles include calcium carbonate fine particles, calcium silicate fine particles, clay, kaolin, talc, silica fine particles, glass fine particles, diatomaceous earth, mica powder, alumina fine particles, magnesium oxide fine particles, zinc oxide fine particles, barium sulfate fine particles, sulfuric acid. Examples include aluminum fine particles, calcium sulfate fine particles, and magnesium carbonate fine particles. These resin fine particles and inorganic fine particles may be used alone or in combination of two or more.

(導電性フィラー)
導電性フィラー120は、特に限定されず、導電性接着剤に用いられる金属フィラー、金属被覆樹脂フィラー、カーボンフィラーおよびそれらの混合物などを使用することができる。金属フィラーとしては、例えば、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コ−ト銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、または金コートニッケル粉などを挙げることができる。これらの金属粉は、例えば、電解法、アトマイズ法、または還元法などにより作製することができる。これらの導電性フィラー120は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらのなかでは、銀粉、銀コート銅粉および銅粉が好ましく、銀コート銅粉がより好ましい。
(Conductive filler)
The conductive filler 120 is not particularly limited, and a metal filler, a metal-coated resin filler, a carbon filler, a mixture thereof, and the like used for the conductive adhesive can be used. Examples of the metal filler include copper powder, silver powder, nickel powder, silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. These metal powders can be produced by, for example, an electrolytic method, an atomizing method, or a reducing method. These conductive fillers 120 may be used alone or in combination of two or more. Among these, silver powder, silver-coated copper powder and copper powder are preferable, and silver-coated copper powder is more preferable.

導電性フィラー120の形状は、球状、楕円状、フレーク状、繊維状、または樹枝状(デンドライト状)などが挙げられる。また、金属ナノ粒子とすることもできる。金属ナノ粒子としては、例えば、銀ナノ粒子、または金ナノ粒子などを挙げることができる。   Examples of the shape of the conductive filler 120 include a spherical shape, an elliptical shape, a flake shape, a fiber shape, and a dendritic shape (dendritic shape). Moreover, it can also be set as a metal nanoparticle. Examples of the metal nanoparticles include silver nanoparticles and gold nanoparticles.

導電性フィラー120の平均粒径D50(メジアン径)は、好ましくは3μm以上、より好ましくは5μm以上であり、また好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下である。なお、導電性フィラー120の平均粒径D50は、例えば、レーザ回折式粒子径分布測定装置、またはフロー式粒子像分析装置などの一般に使用される方法により測定することができる。   The average particle diameter D50 (median diameter) of the conductive filler 120 is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, and preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less. The average particle diameter D50 of the conductive filler 120 can be measured by a generally used method such as a laser diffraction type particle size distribution measuring device or a flow type particle image analyzer.

また、導電性フィラー120の平均粒径D50は、導電性接着剤層100の厚さなどに応じて適宜設定すればよい。具体的には、導電性接着剤層100の厚さが5μm程度の場合、好ましくは3μm程度、より好ましくは5μm程度である。また、導電性接着剤層100の厚さが15〜60μm程度の場合、好ましくは20μm程度、より好ましくは15μm程度である。   In addition, the average particle diameter D50 of the conductive filler 120 may be appropriately set according to the thickness of the conductive adhesive layer 100 and the like. Specifically, when the thickness of the conductive adhesive layer 100 is about 5 μm, it is preferably about 3 μm, more preferably about 5 μm. Moreover, when the thickness of the conductive adhesive layer 100 is about 15 to 60 μm, it is preferably about 20 μm, more preferably about 15 μm.

導電性接着剤における導電性フィラー120の含有率は、特に限定されないが、導電性接着剤の用途に応じて適宜設定すればよく、好ましくは10質量%以上であり、また好ましくは80質量%以下、より好ましくは75質量%以下、さらに好ましくは70質量%以下である。なお、導電性接着剤層100は、異方導電性接着剤層、等方導電性接着剤層のいずれであってもよく、異方導電性接着剤層として使用する場合には、導電性接着剤における導電性フィラー120の含有率は、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上、さらに好ましくは20質量%以上であり、また好ましくは45質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは35質量%以下である。等方導電性接着剤層として使用する場合には、導電性接着剤における導電性フィラー120の含有率は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは55質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上であり、また好ましくは80質量%以下、より好ましくは75質量%以下、さらに好ましくは70質量%以下である。   The content of the conductive filler 120 in the conductive adhesive is not particularly limited, but may be appropriately set according to the use of the conductive adhesive, preferably 10% by mass or more, and preferably 80% by mass or less. More preferably, it is 75 mass% or less, More preferably, it is 70 mass% or less. The conductive adhesive layer 100 may be either an anisotropic conductive adhesive layer or an isotropic conductive adhesive layer. When used as an anisotropic conductive adhesive layer, the conductive adhesive layer 100 The content of the conductive filler 120 in the agent is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, further preferably 20% by mass or more, and preferably 45% by mass or less, more preferably 40% by mass. Hereinafter, it is more preferably 35% by mass or less. When used as an isotropic conductive adhesive layer, the content of the conductive filler 120 in the conductive adhesive is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, and further preferably 60% by mass or more. It is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and still more preferably 70% by mass or less.

導電性フィラー120の平均粒径D50と、導電性接着剤における導電性フィラー120の含有率とを、それぞれ上述した特定の範囲にすることで、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれを防止することができるのに適したスキューネスSskを有する、導電性接着剤層100を実現することができる。   By setting the average particle diameter D50 of the conductive filler 120 and the content of the conductive filler 120 in the conductive adhesive to the specific ranges described above, the position of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing step The conductive adhesive layer 100 having the skewness Ssk suitable for preventing the shift can be realized.

(任意成分)
導電性接着剤には、本発明の効果を阻害しない範囲で、例えば、消泡剤、酸化防止剤、粘度調整剤、希釈剤、沈降防止剤、レベリング剤、カップリング剤、着色剤、または難燃剤などを添加することができる。これらの任意成分は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらのなかでは、特に、導電性接着剤に難燃性を付与させる観点から、難燃剤を添加することが好ましい。
(Optional component)
For the conductive adhesive, for example, an antifoaming agent, an antioxidant, a viscosity modifier, a diluent, an anti-settling agent, a leveling agent, a coupling agent, a coloring agent, or a difficult agent, as long as the effects of the present invention are not impaired. A flame retardant etc. can be added. These optional components may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is particularly preferable to add a flame retardant from the viewpoint of imparting flame retardancy to the conductive adhesive.

このような難燃剤としては、例えば、メラミンシアヌレートまたはポリリン酸メラミンなどの窒素系難燃剤;水酸化マグネシウムまたは水酸化アルミニウムなどの金属水和物;燐酸エステル、赤リン、またはリン酸塩化合物などのリン系難燃剤などが挙げられる。これらの難燃剤のなかでは、リン酸塩化合物が好ましい。   Examples of such a flame retardant include nitrogen-based flame retardants such as melamine cyanurate or melamine polyphosphate; metal hydrates such as magnesium hydroxide or aluminum hydroxide; phosphate esters, red phosphorus, or phosphate compounds. And phosphorus-based flame retardants. Of these flame retardants, phosphate compounds are preferred.

導電性接着剤に難燃剤を加える場合には、バインダ樹脂110の量100質量部に対し、10質量部〜60質量部を添加することが好ましい。   When adding a flame retardant to the conductive adhesive, it is preferable to add 10 parts by mass to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin 110.

<導電性接着剤層の形成方法>
次に、バインダ樹脂110と、導電性フィラー120とを含有する導電性接着剤を用いて、本実施形態に係る導電性接着剤層100を形成する方法について説明する。
<Method for forming conductive adhesive layer>
Next, a method of forming the conductive adhesive layer 100 according to this embodiment using a conductive adhesive containing the binder resin 110 and the conductive filler 120 will be described.

(導電性接着剤の調製工程)
まず、所定濃度となるようにバインダ樹脂110を溶剤に溶解させたバインダ樹脂溶液を調製する。溶剤としては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、またはジメチルホルムアミドなどが挙げられるが、本開示はかかる例示のみに限定されるものではない。なお、溶液中のバインダ樹脂110の濃度は、導電性接着剤層100の厚さなどに応じて適宜設定すればよい。
(Process for preparing conductive adhesive)
First, a binder resin solution in which the binder resin 110 is dissolved in a solvent so as to have a predetermined concentration is prepared. Examples of the solvent include toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, and dimethylformamide, but the present disclosure is not limited to such examples. Note that the concentration of the binder resin 110 in the solution may be set as appropriate according to the thickness of the conductive adhesive layer 100 and the like.

次いで、前記で調製したバインダ樹脂溶液に、導電性フィラー120、必要に応じて任意成分を添加した混合懸濁液を撹拌混合することにより、導電性接着剤を調製する。   Next, the conductive adhesive 120 is prepared by stirring and mixing the conductive filler 120 and, if necessary, a mixed suspension added to the binder resin solution prepared above.

(導電性接着剤の塗工工程)
次に、前記で調製した導電性接着剤を基層130の上に塗工する。基層130としては、例えば、樹脂製のシートまたはフィルムなどを用いることができる。シートやフィルムを構成する材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂などの熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂などを使用することができる。基層130の表面には、一般に使用されるエンボス加工によって凹凸の微細パターンが施されていてもよい。なお、電磁波シールドフィルムを形成する場合、後述する絶縁保護層またはシールド層の上に導電性接着剤を塗工する。
(Coating process for conductive adhesive)
Next, the conductive adhesive prepared above is applied onto the base layer 130. As the base layer 130, for example, a resin sheet or film can be used. As a material constituting the sheet or film, for example, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polyamide resin, an acrylic resin, and / or a thermosetting resin can be used. . The surface of the base layer 130 may be provided with an uneven fine pattern by embossing that is generally used. In addition, when forming an electromagnetic wave shield film, a conductive adhesive is applied on the insulating protective layer or shield layer described later.

基層130の表面には、必要に応じて離型処理を施してもよい。離型処理としては、例えば、シリコン系離型剤、非シリコン系離型剤、またはメラミン系離型剤などからなる層を基層130の表面に形成することができる。基層130の表面に離型処理を施すことにより、基層130の上に形成した導電性接着剤層100を被着体に貼り付けた後、容易に基層130を剥離することができる。   A release treatment may be performed on the surface of the base layer 130 as necessary. As the release treatment, for example, a layer made of a silicon release agent, a non-silicon release agent, a melamine release agent, or the like can be formed on the surface of the base layer 130. By performing a mold release treatment on the surface of the base layer 130, the base layer 130 can be easily peeled off after the conductive adhesive layer 100 formed on the base layer 130 is attached to the adherend.

また、基層130の表面には、必要に応じて粘着剤層が設けられていてもよい。基層130の表面に粘着剤層が設けられていることにより、意図せず基層130が導電性接着剤層100から剥がれることを防止することができる。このような粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤またはポリエステル系粘着剤など公知の粘着剤を使用することができる。   Moreover, the adhesive layer may be provided in the surface of the base layer 130 as needed. By providing the pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the base layer 130, it is possible to prevent the base layer 130 from being unintentionally peeled off from the conductive adhesive layer 100. As such an adhesive, for example, a known adhesive such as an acrylic adhesive or a polyester adhesive can be used.

なお、基層130の厚さは特に限定されるものではなく、適宜、使い易さを考慮して決定することができる。   Note that the thickness of the base layer 130 is not particularly limited, and can be appropriately determined in consideration of ease of use.

基層130の上に導電性接着剤を塗工する方法としては、特に限定されず、例えば、リップコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、またはスロットダイコーティングなどの方法を用いることができる。   The method for applying the conductive adhesive on the base layer 130 is not particularly limited, and for example, a method such as lip coating, comma coating, gravure coating, or slot die coating can be used.

(導電性接着剤の乾燥工程)
最後に、基層130の上に塗工された導電性接着剤を加熱乾燥させて溶剤を除去することにより、本実施形態に係る導電性接着剤層100を形成することができる。乾燥方法としては、例えば、温風乾燥、赤外線乾燥、オーブン乾燥、ホットプレート乾燥、または真空乾燥などが挙げられる。
(Drying process of conductive adhesive)
Finally, the conductive adhesive layer 100 according to this embodiment can be formed by heating and drying the conductive adhesive applied on the base layer 130 to remove the solvent. Examples of the drying method include hot air drying, infrared drying, oven drying, hot plate drying, and vacuum drying.

以上のようにして得られる本実施形態に係る導電性接着剤層100の厚さは、導電性フィラー120の粒径に応じて調整すればよい。良好な導電性を実現する観点から、導電性接着剤層100の厚さは、導電性フィラー120の平均粒径D50の好ましくは5.5倍以下、より好ましくは3.5倍以下である。また、導電性フィラー120の平均粒径D50の好ましくは+70μm以下(即ち、導電性フィラー120の平均粒径D50をdμmとしたときに、d+70μm以下)、より好ましくは+60μm以下(d+60μm以下)である。良好な塗工を行なう観点から、導電性接着剤層100の厚さは、導電性フィラー120の平均粒径D50の好ましくは0.6倍以上、より好ましくは0.7倍以上である。また、導電性フィラー120の平均粒径D50の好ましくは−7μm以上(d−7μm以上)、より好ましくは−5μm以上(d−5μm以上)である。   The thickness of the conductive adhesive layer 100 according to this embodiment obtained as described above may be adjusted according to the particle size of the conductive filler 120. From the viewpoint of realizing good conductivity, the thickness of the conductive adhesive layer 100 is preferably not more than 5.5 times the average particle diameter D50 of the conductive filler 120, more preferably not more than 3.5 times. The average particle diameter D50 of the conductive filler 120 is preferably +70 μm or less (that is, d + 70 μm or less when the average particle diameter D50 of the conductive filler 120 is d μm), more preferably +60 μm or less (d + 60 μm or less). . From the viewpoint of good coating, the thickness of the conductive adhesive layer 100 is preferably 0.6 times or more, more preferably 0.7 times or more the average particle diameter D50 of the conductive filler 120. The average particle size D50 of the conductive filler 120 is preferably −7 μm or more (d−7 μm or more), more preferably −5 μm or more (d−5 μm or more).

なお、必要に応じて、導電性接着剤層100における基層130が貼り合わされる面とは反対側の表面に剥離基材(セパレートフィルム)(図示せず)を貼り合わせてもよい。剥離基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートなどのベースフィルム上に、シリコン系または非シリコン系の離型剤や、アクリル系またはポリエステル系などの粘着剤が、導電性接着剤層100に貼り合わされる側の表面に塗工されたものなどが挙げられる。導電性接着剤層100の表面に剥離基材を貼り合わせることにより、導電性接着剤層100の表面に傷が付いたり、異物が付着することを防止することができる。なお、剥離基材の厚さは特に限定されるものではなく、適宜、使い易さを考慮して決定することができる。   If necessary, a peeling substrate (separate film) (not shown) may be bonded to the surface of the conductive adhesive layer 100 opposite to the surface to which the base layer 130 is bonded. As the peeling substrate, for example, a silicon-based or non-silicon-based release agent or an acrylic-based or polyester-based pressure-sensitive adhesive on a base film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is used as the conductive adhesive layer 100. And the like coated on the surface to be bonded to the surface. By attaching a release substrate to the surface of the conductive adhesive layer 100, it is possible to prevent the surface of the conductive adhesive layer 100 from being scratched or foreign matter from adhering. Note that the thickness of the release substrate is not particularly limited, and can be appropriately determined in consideration of ease of use.

また、以上の説明では、基層130の上に導電性接着剤を塗布、乾燥することで、所定のスキューネスSskを有する導電性接着剤層100を形成する例を示したが、剥離基材を用いて形成することもできる。この場合、微細パターンを有する剥離基材を用い、導電性接着剤層100の表面に微細パターンを転写することにより、導電性接着剤層100の表面性状を所定の状態とすることもできる。   In the above description, an example in which the conductive adhesive layer 100 having a predetermined skewness Ssk is formed by applying and drying a conductive adhesive on the base layer 130 has been described. It can also be formed. In this case, the surface property of the conductive adhesive layer 100 can be set to a predetermined state by using a release substrate having a fine pattern and transferring the fine pattern to the surface of the conductive adhesive layer 100.

以上説明したように、本開示の導電性接着剤層100は、その表面におけるスキューネスSskが−3.5以上、2.7以下であるので、被着体に対する仮止め工程後の密着性に優れる。このように、本開示の導電性接着剤層100は、仮止め工程後の導電性接着剤層100の位置ずれを防止することができるので、例えば、電磁波シールドフィルムなどに好適に使用することができる。   As described above, since the conductive adhesive layer 100 of the present disclosure has a skewness Ssk of −3.5 or more and 2.7 or less on the surface thereof, it has excellent adhesion after the temporary fixing process to the adherend. . Thus, since the conductive adhesive layer 100 of the present disclosure can prevent displacement of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing step, it can be suitably used for, for example, an electromagnetic shielding film. it can.

<電磁波シールドフィルム>
図2に示すように、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200は、絶縁保護層210と、絶縁保護層210の表面に設けられた導電性接着剤層100とを有することを特徴とする。このように、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200は、導電性接着剤層として本実施形態に係る導電性接着剤層100を有するので、プリント配線基板などの被着体(図示せず)に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の導電性接着剤層100、すなわち電磁波シールドフィルム200の位置ずれを防止することができる。
<Electromagnetic wave shielding film>
As shown in FIG. 2, the electromagnetic wave shielding film 200 according to this embodiment includes an insulating protective layer 210 and a conductive adhesive layer 100 provided on the surface of the insulating protective layer 210. Thus, since the electromagnetic wave shielding film 200 according to the present embodiment has the conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment as the conductive adhesive layer, the electromagnetic wave shielding film 200 according to the present embodiment is applied to an adherend (not shown) such as a printed wiring board. The adhesiveness after the temporary fixing process is excellent, and displacement of the conductive adhesive layer 100 after the temporary fixing process, that is, the electromagnetic wave shielding film 200 can be prevented.

また、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200は、プリント配線基板(図示せず)のグランド回路と導通するように、本実施形態に係る導電性接着剤層100を接着することにより、該導電性接着剤層100を電磁波に対するシールドとして機能させることができる。なお、図3に示すように、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200は、絶縁保護層210と導電性接着剤層100との間にシールド層220を設けることもできる。   Further, the electromagnetic wave shielding film 200 according to the present embodiment is bonded to the conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment so as to be electrically connected to a ground circuit of a printed wiring board (not shown). The adhesive layer 100 can function as a shield against electromagnetic waves. As shown in FIG. 3, the electromagnetic wave shielding film 200 according to this embodiment can also be provided with a shielding layer 220 between the insulating protective layer 210 and the conductive adhesive layer 100.

(絶縁保護層)
絶縁保護層210は、充分な絶縁性を有し、導電性接着剤層100およびシールド層220を保護できれば特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂などを用いて形成することができる。
(Insulation protective layer)
The insulating protective layer 210 is not particularly limited as long as it has sufficient insulating properties and can protect the conductive adhesive layer 100 and the shield layer 220. For example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an active energy ray curable resin, and the like. Can be used.

絶縁保護層210は、材質または硬度若しくは弾性率などの物性が異なる2層以上の積層構造であってもよい。例えば、硬度が低い外層と、硬度が高い内層との積層構造とすれば、外層がクッション効果を有するため、電磁波シールドフィルム200をプリント配線基板に加熱加圧する工程においてシールド層220に加わる圧力を緩和できる。このため、プリント配線基板に設けられた段差によってシールド層220が破壊されることを抑えることができる。   The insulating protective layer 210 may have a laminated structure of two or more layers having different materials or physical properties such as hardness or elastic modulus. For example, if the outer layer having a low hardness and the inner layer having a high hardness have a laminated structure, the outer layer has a cushioning effect. it can. For this reason, it can suppress that the shield layer 220 is destroyed by the level | step difference provided in the printed wiring board.

絶縁保護層210の厚さは、特に限定されず、必要に応じて適宜設定することができるが、好ましくは1μm以上、より好ましくは4μm以上であり、また好ましくは20μm以下、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは5μm以下である。絶縁保護層210の厚さを1μm以上とすることにより導電性接着剤層100およびシールド層220を充分に保護することができる。また、絶縁保護層210の厚さを20μm以下とすることにより、電磁波シールドフィルム200の屈曲性を確保することができ、屈曲性が要求される部材、例えば、フレキシブルプリント配線基板などにも本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200を適用することが容易となる。   The thickness of the insulating protective layer 210 is not particularly limited and can be appropriately set as necessary, but is preferably 1 μm or more, more preferably 4 μm or more, and preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less. More preferably, it is 5 μm or less. By setting the thickness of the insulating protective layer 210 to 1 μm or more, the conductive adhesive layer 100 and the shield layer 220 can be sufficiently protected. In addition, by setting the thickness of the insulating protective layer 210 to 20 μm or less, the flexibility of the electromagnetic wave shielding film 200 can be ensured, and this embodiment is also applied to a member that requires flexibility, such as a flexible printed wiring board. It becomes easy to apply the electromagnetic wave shielding film 200 according to the embodiment.

(シールド層)
シールド層220は、導電性を有していればよく、例えば、金属薄膜、導電性フィラー、金属蒸着フィルムなどにより構成することができる。金属薄膜は、例えば、ニッケル、銅、銀、錫、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛などのいずれか、または2つ以上を含む合金により構成することができる。金属薄膜は、例えば、金属箔を用いたり、アディティブ法によって金属を堆積したりすることにより製造することができる。アディティブ法としては、例えば、電解メッキ法、無電解メッキ法、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、真空蒸着法、化学気相堆積(CVD)法、またはメタルオーガニック堆積(MOCVD)法などを用いることができる。
(Shield layer)
The shield layer 220 only needs to have conductivity, and can be constituted by, for example, a metal thin film, a conductive filler, a metal vapor deposition film, or the like. The metal thin film can be made of, for example, nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, or an alloy containing two or more. The metal thin film can be manufactured, for example, by using a metal foil or depositing a metal by an additive method. As the additive method, for example, an electrolytic plating method, an electroless plating method, a sputtering method, an electron beam evaporation method, a vacuum evaporation method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a metal organic deposition (MOCVD) method, or the like is used. it can.

シールド層220が導電性フィラーで構成される場合には、例えば、金属フィラー、金属被覆樹脂フィラー、カーボンフィラーおよびそれらの混合物などを使用することができる。金属フィラーとしては、例えば、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コ−ト銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、または金コートニッケル粉などがあり、これら金属粉は、電解法、アトマイズ法、還元法により作成することができる。金属粉の形状は、球状、フレーク状、繊維状、または樹枝状などが挙げられる。また、金属ナノ粒子とすることもできる。金属ナノ粒子としては、例えば、銀ナノ粒子、または金ナノ粒子などを挙げることができる。   When the shield layer 220 is composed of a conductive filler, for example, a metal filler, a metal-coated resin filler, a carbon filler, a mixture thereof, or the like can be used. Examples of the metal filler include copper powder, silver powder, nickel powder, silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. It can be created by the method and the reduction method. Examples of the shape of the metal powder include a spherical shape, a flake shape, a fiber shape, and a dendritic shape. Moreover, it can also be set as a metal nanoparticle. Examples of the metal nanoparticles include silver nanoparticles and gold nanoparticles.

シールド層220の金属材料および厚さは、求められる電磁シールド効果および繰り返し屈曲・摺動耐性に応じて適宜選択すればよいが、厚さは、0.1μm〜12μm程度とすることができる。   The metal material and thickness of the shield layer 220 may be appropriately selected according to the required electromagnetic shielding effect and repeated bending / sliding resistance, but the thickness can be about 0.1 μm to 12 μm.

なお、シールド層220を有さず、本実施形態に係る導電性接着剤層100がシールド層として機能する電磁波シールドフィルム200とすることもできる。   In addition, it can also be set as the electromagnetic wave shielding film 200 which does not have the shield layer 220 but the conductive adhesive layer 100 which concerns on this embodiment functions as a shield layer.

<電磁波シールドフィルムの形成方法>
次に、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200を形成する方法について説明する。まず、支持フィルム(図示せず)の上に、絶縁保護層210、必要に応じてシールド層220を、一般に使用される方法を用いて順次形成することにより、積層体を得る。支持フィルムとしては、上述した基層130と同様の樹脂製シートまたはフィルムを使用することができる。また、支持フィルムは、その表面に微細パターンを有する支持体フィルム(転写フィルム)を使用してもよい。この場合、絶縁保護層210の表面に微細パターンを転写することにより、絶縁保護層210の表面性状を所定の状態とすることができる。
<Method for forming electromagnetic wave shielding film>
Next, a method for forming the electromagnetic wave shielding film 200 according to this embodiment will be described. First, an insulating protective layer 210 and, if necessary, a shield layer 220 are sequentially formed on a support film (not shown) using a generally used method to obtain a laminate. As the support film, a resin sheet or film similar to the base layer 130 described above can be used. Moreover, you may use the support body film (transfer film) which has a fine pattern on the surface as a support film. In this case, the surface property of the insulating protective layer 210 can be set to a predetermined state by transferring the fine pattern onto the surface of the insulating protective layer 210.

次いで、前記で形成した積層体を基層として、この基層の上に、本実施形態に係る導電性接着剤層100を、上述した導電性接着剤層100の形成方法と同様にして形成することにより、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200を得ることができる。   Next, by using the laminate formed above as a base layer, the conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment is formed on the base layer in the same manner as the method for forming the conductive adhesive layer 100 described above. The electromagnetic wave shielding film 200 according to this embodiment can be obtained.

以上説明したように、本開示の電磁波シールドフィルム200は、導電性接着剤層として、本開示の導電性接着剤層100を有するので、被着体に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の導電性接着剤層100、すなわち電磁波シールドフィルム200の位置ずれを防止することができる。このため、本開示の電磁波シールドフィルム200は、導電性接着剤層100をプリント配線基板のグランド回路と導通させて、導電性接着剤層100を電磁波に対するシールドとして機能させたシールド配線基板とすることができる。   As described above, the electromagnetic wave shielding film 200 of the present disclosure has the conductive adhesive layer 100 of the present disclosure as the conductive adhesive layer, and thus has excellent adhesion after the temporary fixing process to the adherend. The position shift of the conductive adhesive layer 100 after the stopping step, that is, the electromagnetic wave shielding film 200 can be prevented. For this reason, the electromagnetic wave shielding film 200 of the present disclosure is a shield wiring board in which the conductive adhesive layer 100 is electrically connected to the ground circuit of the printed wiring board and the conductive adhesive layer 100 functions as a shield against electromagnetic waves. Can do.

<シールド配線基板>
図4に示すように、本実施形態に係るシールド配線基板400は、グランド回路320aを有するプリント配線基板300と、グランド回路320aと導通するようにプリント配線基板300に接着された本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200とを有する。なお、電磁波シールドフィルム200は、シールド層220を有するものであってもよい。
<Shield wiring board>
As shown in FIG. 4, a shield wiring board 400 according to the present embodiment relates to a printed wiring board 300 having a ground circuit 320a, and the printed wiring board 300 bonded to the printed wiring board 300 so as to be electrically connected to the ground circuit 320a. And an electromagnetic wave shielding film 200. The electromagnetic wave shielding film 200 may have a shield layer 220.

プリント配線基板300は、例えば、ベース層310と、ベース層310の上に形成されたグランド回路320aおよび信号回路320bを含むプリント回路320と、グランド回路320aの少なくとも一部を露出するようにベース層310を覆う絶縁層330とを有している。なお、プリント配線基板300は、フレキシブル基板であってもよく、リジッド基板であってもよい。   The printed wiring board 300 includes, for example, a base layer 310, a printed circuit 320 including a ground circuit 320a and a signal circuit 320b formed on the base layer 310, and a base layer so as to expose at least a part of the ground circuit 320a. And an insulating layer 330 covering 310. The printed wiring board 300 may be a flexible board or a rigid board.

ベース層310および絶縁層330は、どのようなものであってもよいが、例えば、樹脂フィルムなどとすることができる。この場合、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、またはポリフェニレンサルファイドなどの樹脂により形成することができる。プリント回路320は、例えば、ベース層310の上に形成された銅配線パターンなどとすることができる。   The base layer 310 and the insulating layer 330 may be any material, but may be, for example, a resin film. In this case, it can be formed of a resin such as polypropylene, crosslinked polyethylene, polyester, polybenzimidazole, polyimide, polyimide amide, polyether imide, or polyphenylene sulfide. The printed circuit 320 can be, for example, a copper wiring pattern formed on the base layer 310.

本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200をプリント配線基板300に接着する際には、電磁波シールドフィルム200をグランド回路320aと導通するように配置する。具体的には、電磁波シールドフィルム200の導電性接着剤層100をグランド回路320a上に配置する。そして、所定の温度(例えば120℃)に加熱した2枚の加熱板(図示せず)により、電磁波シールドフィルム200とプリント配線基板300とを、上下方向から挟んで所定の圧力(例えば0.5MPa)で短時間(例えば5秒間)押圧する。これによって、電磁波シールドフィルム200は、プリント配線基板300に仮止め固定される。   When the electromagnetic wave shielding film 200 according to the present embodiment is bonded to the printed wiring board 300, the electromagnetic wave shielding film 200 is disposed so as to be electrically connected to the ground circuit 320a. Specifically, the conductive adhesive layer 100 of the electromagnetic wave shielding film 200 is disposed on the ground circuit 320a. Then, the electromagnetic wave shielding film 200 and the printed wiring board 300 are sandwiched from above and below by two heating plates (not shown) heated to a predetermined temperature (for example, 120 ° C.). ) For a short time (for example, 5 seconds). Thereby, the electromagnetic wave shielding film 200 is temporarily fixed to the printed wiring board 300.

この際、本実施形態に係るシールド配線基板400は、プリント配線基板300と、本実施形態に係る電磁波シールドフィルム200とが、本実施形態に係る導電性接着剤層100を介して接着されているので、プリント配線基板300(被着体)に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の電磁波シールドフィルム200の位置ずれを防止することができる。このため、電磁波シールドフィルム200がプリント配線基板300に仮止め固定された状態のシールド配線基板400は、最終的な固定を行なうまで、例えば、シールド配線基板400同士を重ねて保管することができる。   At this time, in the shield wiring board 400 according to this embodiment, the printed wiring board 300 and the electromagnetic wave shielding film 200 according to this embodiment are bonded via the conductive adhesive layer 100 according to this embodiment. Therefore, it is excellent in the adhesiveness after the temporary fixing process with respect to the printed wiring board 300 (adhered body), and the position shift of the electromagnetic wave shielding film 200 after the temporary fixing process can be prevented. For this reason, the shielded wiring board 400 in a state where the electromagnetic wave shielding film 200 is temporarily fixed to the printed wiring board 300 can be stored, for example, by overlapping the shielded wiring boards 400 until final fixing.

次いで、2枚の加熱板の温度を、仮止め固定時よりも高温の所定の温度(例えば170℃)とし、所定の圧力(例えば3MPa)で所定時間(例えば30分)加圧する。これによって、電磁波シールドフィルム200をプリント配線基板300に確実に固定できる。   Next, the temperature of the two heating plates is set to a predetermined temperature (for example, 170 ° C.) higher than that at the time of temporarily fixing, and is pressurized at a predetermined pressure (for example, 3 MPa) for a predetermined time (for example, 30 minutes). Thereby, the electromagnetic wave shielding film 200 can be reliably fixed to the printed wiring board 300.

<その他の実施形態>
本実施形態に係る導電性接着剤層100は、電磁波シールドフィルムおよびシールド配線基板に限定されず、例えば、フレキシブルプリント配線基板には、ステンレスなどからなる導電性(金属)補強板が貼り付けられるが、その貼り付けに用いることもできる。この場合、導電性(金属)補強板を電磁波に対するシールドとして機能させることができる。
<Other embodiments>
The conductive adhesive layer 100 according to the present embodiment is not limited to the electromagnetic wave shielding film and the shield wiring board. For example, a conductive (metal) reinforcing plate made of stainless steel or the like is attached to the flexible printed wiring board. It can also be used for the attachment. In this case, the conductive (metal) reinforcing plate can function as a shield against electromagnetic waves.

以下に、実施例によって本発明を詳細に説明する。以下の実施例は例示であり、本発明を限定することを意図するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples. The following examples are illustrative and are not intended to limit the present invention.

<導電性接着剤の調製工程>
所定のバインダ樹脂を所定の固形分濃度となるように、溶剤としてトルエン又はメチルエチルケトンに溶解させたバインダ樹脂溶液を調製した。得られたバインダ樹脂溶液に、所定の導電性フィラーおよび必要に応じて任意成分を添加し、遊星式攪拌・脱泡装置を用いて混合撹拌することにより、導電性接着剤を調製した。
<Preparation process of conductive adhesive>
A binder resin solution in which a predetermined binder resin was dissolved in toluene or methyl ethyl ketone as a solvent was prepared so as to have a predetermined solid content concentration. A predetermined adhesive filler and optional components were added to the obtained binder resin solution, and mixed and stirred using a planetary stirring / defoaming device to prepare a conductive adhesive.

<電磁波シールドフィルムの作製>
支持フィルムとして、厚さが60μmで、表面に離型処理を施したPETフィルムを用いた。支持フィルムの上に、シリカ粒子、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂およびメチルエチルケトンを含む保護層用組成物(固形分量30質量%)を塗布し、加熱乾燥することにより絶縁保護層を形成した。次いで、絶縁保護層の表面に、シールド層として、厚さが0.5μmの銅箔を形成することにより、積層体(基層)を得た。次いで、得られた積層体のシールド層の表面に、前記で調製した導電性接着剤を塗布、乾燥して所定の厚さの導電性接着剤層を形成することにより、電磁波シールドフィルムを得た。
<Preparation of electromagnetic shielding film>
As the support film, a PET film having a thickness of 60 μm and a surface subjected to a release treatment was used. On the support film, the composition for protective layers (solid content 30 mass%) containing silica particles, bisphenol A type epoxy resin and methyl ethyl ketone was applied and dried by heating to form an insulating protective layer. Subsequently, a laminated body (base layer) was obtained by forming a copper foil having a thickness of 0.5 μm as a shield layer on the surface of the insulating protective layer. Next, an electromagnetic wave shielding film was obtained by applying the conductive adhesive prepared above to the surface of the shield layer of the obtained laminate and drying to form a conductive adhesive layer having a predetermined thickness. .

前記で得られた電磁波シールドフィルムを用いて、導電性接着剤層の厚さ、表面性状、および被着体に対する仮止め工程後の密着性を以下の方法により、評価した。   Using the electromagnetic shielding film obtained above, the thickness, surface properties, and adhesion after the temporary fixing step to the adherend were evaluated by the following methods.

<導電性接着剤層の厚さ>
導電性接着剤層を形成した後の電磁波シールドフィルムの厚さから、導電性接着剤層を形成する前の積層体の厚さを引いた値を、導電性接着剤層の厚さとした。なお、それぞれの厚さは、マイクロメーター〔(株)ミツトヨ製、商品名:MDH−25〕を用い、JIS C2151に準拠して測定した。
<Thickness of conductive adhesive layer>
The value obtained by subtracting the thickness of the laminate before forming the conductive adhesive layer from the thickness of the electromagnetic wave shielding film after forming the conductive adhesive layer was taken as the thickness of the conductive adhesive layer. In addition, each thickness was measured based on JIS C2151 using the micrometer [Mittoyo Co., Ltd. make, brand name: MDH-25].

<導電性接着剤層の表面性状>
コンフォーカル顕微鏡(Lasertec社製、OPTELICS HYBRID、対物レンズ20倍)を用いて、導電性接着剤層の表面の任意の5か所を測定した。この後、データ解析ソフト(LMeye7)を用いて表面の傾き補正を行ない、ISO 25178−6:2010に準拠して、スキューネスSsk、最大山高さSp、および算術平均Saを求めた。なお、Sフィルタのカットオフ波長は0.0025mm、Lフィルタのカットオフ波長は0.8mmとした。また、各数値は5か所を測定した値の平均値とした。
<Surface properties of the conductive adhesive layer>
Using a confocal microscope (Lasertec, OPTELICS HYBRID, objective lens 20 times), five arbitrary positions on the surface of the conductive adhesive layer were measured. Thereafter, the inclination of the surface was corrected using data analysis software (LMey7), and the skewness Ssk, the maximum peak height Sp, and the arithmetic mean Sa were obtained in accordance with ISO 25178-6: 2010. Note that the cutoff wavelength of the S filter was 0.0025 mm, and the cutoff wavelength of the L filter was 0.8 mm. Moreover, each numerical value was made into the average value of the value which measured 5 places.

<被着体に対する仮止め工程後の密着性>
導電性接着剤層の被着体に対する仮止め工程後の密着性を、180°ピール試験により測定した。具体的には、まず、電磁波シールドフィルムの導電性接着剤層と、被着体として片面銅張積層板〔ニッカン工業(株)製、製品名:F30VC1 25RC1 1/2(H)〕のポリイミド面とを、プレス機を用いて温度:120℃、時間:5秒、圧力:0.5MPaの条件で仮止め固定することにより、試験用試料を得た。
<Adhesion after temporary fixing process to adherend>
The adhesion of the conductive adhesive layer to the adherend after the temporary fixing step was measured by a 180 ° peel test. Specifically, first, a conductive adhesive layer of an electromagnetic wave shielding film and a polyimide surface of a single-sided copper-clad laminate [product name: F30VC1 25RC1 1/2 (H)] manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd. as an adherend. Was temporarily fixed using a press machine under the conditions of temperature: 120 ° C., time: 5 seconds, pressure: 0.5 MPa, to obtain a test sample.

次に、前記で得られた試験用試料を、引張試験機〔(株)島津製作所製、商品名:AGS−X50S〕を用い、室温にて、剥離角度:180°方向に、引っ張り速度:50mm/分で片面銅張積層板側から引き剥がし、その破断時の180°ピール強度(最大値)を測定し、以下の評価基準に基づいて、被着体に対する仮止め工程後の密着性を評価した。   Next, the test sample obtained above was subjected to a tensile tester [manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: AGS-X50S] at room temperature at a peeling angle of 180 ° and a pulling speed of 50 mm. / Minute peeled from the single-sided copper-clad laminate, measured 180 ° peel strength (maximum value) at the time of breakage, and evaluated the adhesion after the temporary fixing process to the adherend based on the following evaluation criteria did.

(評価基準)
○:180°ピール強度が0.5N/cmでも導電性接着剤層と被着体との界面で剥離しなかった(仮止め工程後における導電性接着剤層と被着体との180°ピール強度が0.5N/cm以上)。
×:180°ピール強度が0.5N/cm未満で導電性接着剤層と被着体との界面で剥離した。
(Evaluation criteria)
◯: Even when the 180 ° peel strength was 0.5 N / cm, no peeling occurred at the interface between the conductive adhesive layer and the adherend (180 ° peel between the conductive adhesive layer and the adherend after the temporary fixing step) Strength is 0.5 N / cm or more).
×: 180 ° peel strength was less than 0.5 N / cm, and peeling occurred at the interface between the conductive adhesive layer and the adherend.

(実施例1)
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が12μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、10質量%とした。
(Example 1)
An epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 12 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 10% by mass.

実施例1で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが17μmであり、その表面におけるスキューネスSskが1.10、最大山高さSpが11.87、および算術平均Saが2.30であった。   The conductive adhesive layer (anisotropic) obtained in Example 1 has a thickness of 17 μm, a skewness Ssk on the surface of 1.10, a maximum peak height Sp of 11.87, and an arithmetic average Sa Was 2.30.

また、実施例1で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が3.23N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。   In addition, the conductive adhesive layer obtained in Example 1 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 3.23 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

参考例1
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が5μm、形状が球状及び楕円状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、30質量%とした。
( Reference Example 1 )
Epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 5 μm and spherical and elliptical shapes was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 30% by mass.

参考例1で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが5μmであり、その表面におけるスキューネスSskが1.50、最大山高さSpが9.38、および算術平均Saが0.55であった。 The conductive adhesive layer (anisotropic) obtained in Reference Example 1 has a thickness of 5 μm, a skewness Ssk on the surface of 1.50, a maximum peak height Sp of 9.38, and an arithmetic average Sa Was 0.55.

また、参考例1で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が5.74N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。 In addition, the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 1 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 5.74 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

(実施例3)
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が12μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、15質量%とした。
Example 3
An epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 12 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 15% by mass.

実施例3で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが15μmであり、その表面におけるスキューネスSskが2.31、最大山高さSpが12.05、および算術平均Saが1.40であった。   The conductive adhesive layer (anisotropy) obtained in Example 3 has a thickness of 15 μm, a skewness Ssk of 2.31, a maximum peak height Sp of 12.05, and an arithmetic average Sa Was 1.40.

また、実施例3で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が2.91N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。   In addition, the conductive adhesive layer obtained in Example 3 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 2.91 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

参考例2
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が6μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、65質量%とした。
( Reference Example 2 )
Epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 6 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 65% by mass.

参考例2で得られた導電性接着剤層(等方性)は、その厚さが15μmであり、その表面におけるスキューネスSskが−0.31、最大山高さSpが1.67、および算術平均Saが0.17であった。 The conductive adhesive layer (isotropic) obtained in Reference Example 2 has a thickness of 15 μm, a skewness Ssk on the surface thereof of −0.31, a maximum peak height Sp of 1.67, and an arithmetic average Sa was 0.17.

また、参考例2で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が4.50N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。 Moreover, since the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 2 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 4.50 N / cm (evaluation result: ◯), the adherend The adhesion after the temporary fixing process was very good.

参考例3
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が6μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、70質量%とした。
( Reference Example 3 )
Epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 6 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 70% by mass.

参考例3で得られた導電性接着剤層(等方性)は、その厚さが15μmであり、その表面におけるスキューネスSskが−2.47、最大山高さSpが1.66、および算術平均Saが0.15であった。 The conductive adhesive layer (isotropic) obtained in Reference Example 3 has a thickness of 15 μm, a skewness Ssk on the surface of −2.47, a maximum peak height Sp of 1.66, and an arithmetic average Sa was 0.15.

また、参考例3で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が1.93N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。 Moreover, since the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 3 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 1.93 N / cm (evaluation result: ◯), The adhesion after the temporary fixing process was very good.

参考例4
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が15μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、70質量%とした。
( Reference Example 4 )
An epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 15 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 70% by mass.

参考例4で得られた導電性接着剤層(等方性)は、その厚さが60μmであり、その表面におけるスキューネスSskが−0.18、最大山高さSpが11.21、および算術平均Saが2.82であった。 The conductive adhesive layer (isotropic) obtained in Reference Example 4 has a thickness of 60 μm, a skewness Ssk on the surface thereof of −0.18, a maximum peak height Sp of 11.21, and an arithmetic average Sa was 2.82.

また、参考例4で得られた導電性接着剤層は、被着体との界面で剥離したが、その破断時の180°ピール強度が0.5N/cm以上の1.03N/cmであったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が良好であった。 In addition, the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 4 was peeled off at the interface with the adherend, but the 180 ° peel strength at break was 1.03 N / cm, which is 0.5 N / cm or more. (Evaluation result: ◯), the adhesion after the temporary fixing process to the adherend was good.

参考例5
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が8μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、60質量%とした。
( Reference Example 5 )
An epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 8 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content rate of the conductive filler in the conductive adhesive was 60% by mass.

参考例5で得られた導電性接着剤層(等方性)は、その厚さが15μmであり、その表面におけるスキューネスSskが−2.83、最大山高さSpが3.94、および算術平均Saが1.25であった。 The conductive adhesive layer (isotropic) obtained in Reference Example 5 has a thickness of 15 μm, a skewness Ssk on the surface thereof of −2.83, a maximum peak height Sp of 3.94, and an arithmetic average. Sa was 1.25.

また、参考例5で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が1.85N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め
工程後の密着性が大変良好であった。
Further, the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 5 did not peel off at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 1.85 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

参考例6
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が12μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、70質量%とした。
( Reference Example 6 )
An epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 12 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 70% by mass.

参考例6で得られた導電性接着剤層(等方性)は、その厚さが60μmであり、その表面におけるスキューネスSskが−0.55、最大山高さSpが17.27、および算術平均Saが5.26であった。 The conductive adhesive layer (isotropic) obtained in Reference Example 6 has a thickness of 60 μm, a skewness Ssk on the surface thereof of −0.55, a maximum peak height Sp of 17.27, and an arithmetic average. Sa was 5.26.

また、参考例6で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が4.23N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。 Further, the conductive adhesive layer obtained in Reference Example 6 did not peel off at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 4.23 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

(実施例9)
バインダ樹脂として、平均粒径D50が22μmのシリカ粒子を1質量%含有するエポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が12μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、15質量%とした。
Example 9
An epoxy resin containing 1% by mass of silica particles having an average particle diameter D50 of 22 μm was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 12 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 15% by mass.

実施例9で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが36μmであり、その表面におけるスキューネスSskが1.36、最大山高さSpが16.37、および算術平均Saが2.15であった。   The conductive adhesive layer (anisotropy) obtained in Example 9 has a thickness of 36 μm, a skewness Ssk on its surface of 1.36, a maximum peak height Sp of 16.37, and an arithmetic average Sa Was 2.15.

また、実施例9で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が4.28N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。   Further, the conductive adhesive layer obtained in Example 9 did not peel off at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 4.28 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

(実施例10)
バインダ樹脂として、平均粒径D50が22μmのシリカ粒子を2質量%含有するエポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が12μm、形状がデンドライト状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、15質量%とした。
(Example 10)
An epoxy resin containing 2% by mass of silica particles having an average particle diameter D50 of 22 μm was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 12 μm and a dendritic shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 15% by mass.

実施例10で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが40μmであり、その表面におけるスキューネスSskが1.65、最大山高さSpが22.94、および算術平均Saが2.44であった。   The conductive adhesive layer (anisotropy) obtained in Example 10 has a thickness of 40 μm, a skewness Ssk of 1.65, a maximum peak height Sp of 22.94, and an arithmetic average Sa Was 2.44.

また、実施例10で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が4.51N/cmでも被着体との界面で剥離しなかったことから(評価結果:○)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が大変良好であった。   In addition, the conductive adhesive layer obtained in Example 10 did not peel at the interface with the adherend even when the 180 ° peel strength was 4.51 N / cm (evaluation result: ◯). The adhesion after the temporary fixing process was very good.

(比較例1)
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が15μm、形状が球状及び楕円状の銀コート銅粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、5質量%とした。
(Comparative Example 1)
Epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated copper powder having an average particle diameter D50 of 15 μm and spherical and elliptical shapes was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 5% by mass.

比較例1で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが15μmであり、その表面におけるスキューネスSskが4.05、最大山高さSpが17.81、および算術平均Saが0.98であった。   The conductive adhesive layer (anisotropy) obtained in Comparative Example 1 has a thickness of 15 μm, a skewness Ssk on its surface of 4.05, a maximum peak height Sp of 17.81, and an arithmetic average Sa Was 0.98.

また、比較例1で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が0.5N/cm未満の0.01N/cmで被着体との界面で剥離したことから(評価結果:×)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が不良であった。   Further, the conductive adhesive layer obtained in Comparative Example 1 was peeled off at the interface with the adherend at 0.01 N / cm with a 180 ° peel strength of less than 0.5 N / cm (evaluation result: × ), The adhesion after the temporary fixing process to the adherend was poor.

(比較例2)
バインダ樹脂として、エポキシ系樹脂を用い、導電性フィラーとして、平均粒径D50が23μm、形状が楕円状の銀コートニッケル粉を用いた。導電性接着剤における導電性フィラーの含有率は、35質量%とした。
(Comparative Example 2)
Epoxy resin was used as the binder resin, and silver-coated nickel powder having an average particle diameter D50 of 23 μm and an elliptical shape was used as the conductive filler. The content of the conductive filler in the conductive adhesive was 35% by mass.

比較例2で得られた導電性接着剤層(異方性)は、その厚さが30μmであり、その表面におけるスキューネスSskが4.01、最大山高さSpが29.54、および算術平均Saが1.63であった。   The conductive adhesive layer (anisotropy) obtained in Comparative Example 2 has a thickness of 30 μm, a skewness Ssk on the surface thereof of 4.01, a maximum peak height Sp of 29.54, and an arithmetic average Sa Was 1.63.

また、比較例2で得られた導電性接着剤層は、180°ピール強度が0.5N/cm未満の0.13N/cmで被着体との界面で剥離したことから(評価結果:×)、被着体に対する仮止め工程後の密着性が不良であった。   Further, the conductive adhesive layer obtained in Comparative Example 2 was peeled off at the interface with the adherend at 0.13 N / cm having a 180 ° peel strength of less than 0.5 N / cm (evaluation result: × ), The adhesion after the temporary fixing process to the adherend was poor.

各実施例および各比較例で用いた導電性フィラーの組成および導電性接着剤層の物性を表1に示す。   Table 1 shows the composition of the conductive filler and the physical properties of the conductive adhesive layer used in each example and each comparative example.

本開示の導電性接着剤層は、被着体に対する仮止め工程後の密着性に優れ、仮止め工程後の導電性接着剤層の位置ずれを防止することができるので、極めて有用である。   The conductive adhesive layer of the present disclosure is extremely useful because it has excellent adhesion to the adherend after the temporary fixing step and can prevent displacement of the conductive adhesive layer after the temporary fixing step.

100 導電性接着剤層
100a 凸部
100b 凹部
110 バインダ樹脂
120 導電性フィラー
130 基層
200 電磁波シールドフィルム
210 絶縁保護層
220 シールド層
300 プリント配線板
310 ベース層
320 プリント回路
320a グランド回路
320b 信号回路
330 絶縁層
400 シールドプリント配線板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Conductive adhesive layer 100a Convex part 100b Concave part 110 Binder resin 120 Conductive filler 130 Base layer 200 Electromagnetic wave shield film 210 Insulation protective layer 220 Shield layer 300 Printed wiring board 310 Base layer 320 Print circuit 320a Ground circuit 320b Signal circuit 330 Insulation layer 400 Shield printed wiring board

Claims (3)

バインダ樹脂と、導電性フィラーとを含有する導電性接着剤からなり、
表面におけるスキューネスSskが−3.5以上、2.7以下であり、
表面における最大山高さSpが1.3μm以上、30μm以下であり、
前記導電性フィラーは、銅粉、銀粉、銀コ−ト銅粉及び金コート銅粉からなる群より選択された少なくとも1種であり、形状がデンドライト状であり、平均粒径D50が3μm以上、20μm以下であり、
前記導電性接着剤における前記導電性フィラーの含有率が10質量%以上、35質量%以下であることを特徴とする導電性接着剤層。
It consists of a conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler,
Skewness Ssk is -3.5 or more in the surface state, and are 2.7 or less,
The maximum peak height Sp on the surface is 1.3 μm or more and 30 μm or less,
The conductive filler is at least one selected from the group consisting of copper powder, silver powder, silver-coated copper powder and gold-coated copper powder, the shape is dendritic, and the average particle diameter D50 is 3 μm or more, 20 μm or less,
The conductive filler content is 10 mass% or more, the conductive adhesive layer, wherein less der Rukoto 35 wt% in the conductive adhesive.
絶縁保護層と、該絶縁保護層の表面に設けられた、請求項1に記載の導電性接着剤層とを備えたことを特徴とする電磁波シールドフィルム。 Electromagnetic wave shielding film, wherein the insulating protective layer, provided on the surface of the insulating protective layer, that a conductive adhesive layer according to claim 1. グランド回路が設けられたプリント配線基板と、
前記グランド回路と導通するように前記プリント配線基板に接着された、請求項に記載の電磁波シールドフィルムとを備えたことを特徴とするシールド配線基板。
A printed wiring board provided with a ground circuit;
A shield wiring board comprising: the electromagnetic shielding film according to claim 2 bonded to the printed wiring board so as to be electrically connected to the ground circuit.
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