JP6427723B1 - 不飽和ニトリルの製造方法 - Google Patents
不飽和ニトリルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6427723B1 JP6427723B1 JP2018548457A JP2018548457A JP6427723B1 JP 6427723 B1 JP6427723 B1 JP 6427723B1 JP 2018548457 A JP2018548457 A JP 2018548457A JP 2018548457 A JP2018548457 A JP 2018548457A JP 6427723 B1 JP6427723 B1 JP 6427723B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- space
- reaction
- gas
- unsaturated nitrile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
該反応工程において、サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、下部空間における触媒の存在量に対する上部空間における触媒の存在量の比が、0.05〜0.45である、不飽和ニトリルの製造方法。
Description
〔1〕
触媒が流動可能に収納された内部空間と、前記内部空間に炭化水素を含む原料ガスを供給する原料供給口と、前記内部空間に酸素を含む酸素含有ガスを供給する分散板と、前記内部空間から反応生成ガスを排出する排出口と、前記内部空間内で反応生成ガスから触媒を分離回収するサイクロンとを有する流動床反応器を用い、前記内部空間内で、触媒の存在下、前記炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する反応工程を有し、
該反応工程において、前記内部空間を前記サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、前記サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量に対する前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量の比が、0.05〜0.45である、
不飽和ニトリルの製造方法。
〔2〕
前記反応工程において、前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量が、10kg/m3以上100kg/m3である、
〔1〕に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
〔3〕
前記反応工程において、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量が、150kg/m3以上600kg/m3である、
〔1〕又は〔2〕に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
〔4〕
前記反応工程において、前記上部空間のガス空塔速度が、1.0m/s未満である、
〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
〔5〕
前記反応工程において、前記排出口から排出された前記反応生成ガス中の酸素濃度が、0.5〜5.0vol%である、
〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
〔6〕
前記炭化水素が、プロパン及び/又はプロピレンである、
〔1〕〜〔5〕のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
本実施形態の不飽和ニトリルの製造方法は、触媒が流動可能に収納された内部空間と、前記内部空間に炭化水素を含む原料ガスを供給する原料供給口と、前記内部空間に酸素を含む酸素含有ガスを供給する分散板と、前記内部空間から反応生成ガスを排出する排出口と、前記内部空間内で反応生成ガスから触媒を分離回収するサイクロンとを有する流動床反応器を用い、前記内部空間内で、触媒の存在下、前記炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する反応工程を有し、
該反応工程において、前記内部空間を前記サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、前記サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量に対する前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量の比は、0.05〜0.45である。なお、計測場所により計測結果が複数存在する場合には、上部空間における単位体積当たりの触媒の存在量は、計測した値の内、最も低い値とし、下部空間での単位体積当たりの触媒の存在量は、計測した値の内、最も高い値とする。
反応工程は、触媒の存在下、炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する工程である。気相接触アンモ酸化反応は、主に下部空間3bで起こる。
MoVaNbbXcTdZeOn・・・(1)
ここで、式中、a、b、c、d、e及びnは、Mo1原子当たりのそれぞれの原子の原子比を示し、0.01≦a≦1、0.01≦b≦1、0.01≦c≦1、0≦d<1、0≦e<1の範囲にあり、nは原子価のバランスを満たす値である。
高さh1〜h2(>h1)の単位体積当たりの触媒の存在量
=(h2−h1間差圧)/(h2−h1間距離)
なお、計測場所により計測結果が複数存在する場合には、上部空間における単位体積当たりの触媒の存在量は、計測した値の内、最も低い値とし、下部空間での単位体積当たりの触媒の存在量は、計測した値の内、最も高い値とする。
ガス空塔速度(m/sec)=ガス流量(m3/hr)/最大断面積(m2)/3600
図1に示すものと同様の流動床反応器を用意した。流動床反応器は、内径0.6m、長さ17.5mの縦型円筒形を有し、内部空間3の下端から1mの位置に分散板5、その上に原料供給口4を対抗するように有し、内部空間3の上端から15.5mの位置にサイクロン7の開口部最上端を有するものとした。また、内部空間の圧力を測定するための圧力計を分散板5の上端、サイクロン7の入口7aの上端、及び内部空間3の上端に設置した。
触媒量を600kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を500kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を650kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
原料ガスのモル比をプロパン:アンモニア:酸素=1:1.1:2.3に変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
原料ガスのモル比をプロパン:アンモニア:酸素=1:1.1:3.4に変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
上部空間の温度が460℃になるようにした以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
上部空間の温度が440℃になるようにした以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
図1に示すものと同様の流動床反応器1であって、内径10m、長さ30mの縦型円筒形を有し、内部空間3の下端から3mの位置に分散板5、その上に原料供給口4を対抗するように有し、内部空間3の上端から21.0mの位置にサイクロン7の開口部下端を有するものとした流動床反応器1を用い、触媒量を155000kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例3に記載の触媒(Mo1V0.207Sb0.219Nb0.102W0.030Ce0.005On/68.0wt%−SiO2)に変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例4に記載の触媒(Mo1V0.240Sb0.250Nb0.120W0.030Ce0.005On/51.0wt%−SiO2)に変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を660kgとし、表1に示すとおりガス流量を530Nm3/hに変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を800kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を300kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を200000kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例9と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
触媒量を100000kgとし、表1に示すとおりガス流量を変更した以外は、実施例9と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例3に記載の触媒(Mo1V0.207Sb0.219Nb0.102W0.030Ce0.005On/68.0wt%−SiO2)に変更した以外は、比較例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例3に記載の触媒(Mo1V0.207Sb0.219Nb0.102W0.030Ce0.005On/68.0wt%−SiO2)に変更した以外は、比較例2と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例4に記載の触媒(Mo1V0.240Sb0.250Nb0.120W0.030Ce0.005On/51.0wt%−SiO2)に変更した以外は、比較例1と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
充填する触媒を特許第5694379号公報の実施例4に記載の触媒(Mo1V0.240Sb0.250Nb0.120W0.030Ce0.005On/51.0wt%−SiO2)に変更した以外は、比較例2と同様にして、気相接触アンモ酸化反応を行った。気相接触アンモ酸化反応を開始してから、3時間後(スタート直後)のアクリロニトリルの収率と、1週間後のアクリロニトリルの収率を、表1に示す。
Claims (6)
- 触媒が流動可能に収納された内部空間と、前記内部空間に炭化水素を含む原料ガスを供給する原料供給口と、前記内部空間に酸素を含む酸素含有ガスを供給する分散板と、前記内部空間から反応生成ガスを排出する排出口と、前記内部空間内で反応生成ガスから触媒を分離回収するサイクロンとを有する流動床反応器を用い、前記内部空間内で、触媒の存在下、前記炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する反応工程を有し、
該反応工程において、前記内部空間を前記サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、前記サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量に対する前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量の比が、0.05〜0.45である、
不飽和ニトリルの製造方法。 - 前記反応工程において、前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量が、10kg/m3以上100kg/m3未満である、
請求項1に記載の不飽和ニトリルの製造方法。 - 前記反応工程において、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量が、150kg/m3以上600kg/m3未満である、
請求項1又は2に記載の不飽和ニトリルの製造方法。 - 前記反応工程において、前記上部空間のガス空塔速度が、1.0m/sec未満である、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。 - 前記反応工程において、前記排出口から排出された前記反応生成ガス中の酸素濃度が、0.5〜5.0vol%である、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。 - 前記炭化水素が、プロパン及び/又はプロピレンである、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の不飽和ニトリルの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017130390 | 2017-07-03 | ||
JP2017130390 | 2017-07-03 | ||
PCT/JP2018/019460 WO2019008924A1 (ja) | 2017-07-03 | 2018-05-21 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6427723B1 true JP6427723B1 (ja) | 2018-11-21 |
JPWO2019008924A1 JPWO2019008924A1 (ja) | 2019-07-11 |
Family
ID=64379267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018548457A Active JP6427723B1 (ja) | 2017-07-03 | 2018-05-21 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6427723B1 (ja) |
MY (1) | MY184405A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020083832A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 旭化成株式会社 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4246191A (en) * | 1979-08-13 | 1981-01-20 | Uop Inc. | Ammoxidation process |
JPH02258A (ja) * | 1987-12-14 | 1990-01-05 | E I Du Pont De Nemours & Co | アクリロニトリルの製造方法 |
JP2002193906A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 炭化水素の気相接触酸化反応方法 |
JP2007063089A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | ニトリル化合物の製造方法および製造装置 |
WO2016147950A1 (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 三菱レイヨン株式会社 | 流動床反応器に触媒を充填する方法及びニトリル化合物の製造方法 |
JP2016210740A (ja) * | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 三菱レイヨン株式会社 | 流動床反応器及びそれを用いたニトリル化合物の製造方法 |
-
2018
- 2018-05-21 MY MYPI2018002060A patent/MY184405A/en unknown
- 2018-05-21 JP JP2018548457A patent/JP6427723B1/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4246191A (en) * | 1979-08-13 | 1981-01-20 | Uop Inc. | Ammoxidation process |
JPH02258A (ja) * | 1987-12-14 | 1990-01-05 | E I Du Pont De Nemours & Co | アクリロニトリルの製造方法 |
JP2002193906A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 炭化水素の気相接触酸化反応方法 |
JP2007063089A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | ニトリル化合物の製造方法および製造装置 |
WO2016147950A1 (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 三菱レイヨン株式会社 | 流動床反応器に触媒を充填する方法及びニトリル化合物の製造方法 |
JP2016210740A (ja) * | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 三菱レイヨン株式会社 | 流動床反応器及びそれを用いたニトリル化合物の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020083832A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 旭化成株式会社 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
JP7320346B2 (ja) | 2018-11-28 | 2023-08-03 | 旭化成株式会社 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019008924A1 (ja) | 2019-07-11 |
MY184405A (en) | 2021-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102000899B1 (ko) | 불포화 니트릴의 제조 방법 | |
US11161806B2 (en) | Process for producing compound | |
JP6427723B1 (ja) | 不飽和ニトリルの製造方法 | |
JP7352692B2 (ja) | 不飽和ニトリルの製造方法 | |
JP6568327B2 (ja) | 不飽和ニトリルの製造方法 | |
JP7294401B2 (ja) | 青酸の製造方法及び青酸の製造装置 | |
JP7320346B2 (ja) | 不飽和ニトリルの製造方法 | |
TWI685380B (zh) | 不飽和腈之製造方法 | |
JP2020200274A (ja) | アクリロニトリルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180913 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180913 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20181011 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181022 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181029 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6427723 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |