JP7294401B2 - 青酸の製造方法及び青酸の製造装置 - Google Patents
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Description
本願は、2019年2月27日に、日本に出願された特願2019-034279号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
なお、特許文献1には、ガス分散器の開孔部の数についての記載はない。
〔1〕 メタノールを含む原料ガスを、流動層反応器内に配置された原料ガス分散器を介して前記流動層反応器内に供給し、前記メタノールを金属酸化物触媒の存在下でアンモニア及び酸素と接触させ、気相接触アンモ酸化反応により青酸を得る工程を含み、
前記原料ガス分散器は、前記原料ガスを前記流動層反応器内に放出する1以上の孔を有し、前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が10~45個/m2である、青酸の製造方法。
〔2〕 前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が20~35個/m2である、〔1〕に記載の青酸の製造方法。
〔3〕 前記孔の直径が1~12mmである、〔1〕又は〔2〕に記載の青酸の製造方法。
〔4〕 前記原料ガス分散器がパイプ型分散器であり、
前記原料ガス分散器の前記孔を有する位置に整流管が取り付けられており、
前記孔から放出された原料ガスを、前記整流管を介して前記流動層反応器内に供給する、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔5〕 前記原料ガスがメタノール及びアンモニアを含む、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔6〕 酸素含有ガスを前記流動層反応器の底部から供給する、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔7〕 前記金属酸化物触媒が少なくとも鉄、アンチモン、リン及びバナジウムを含有する、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔8〕 前記金属酸化物触媒中の鉄のモル数を10としたとき、バナジウムのモル数が0.6以上である、〔7〕に記載の青酸の製造方法。
〔9〕 前記金属酸化物触媒が下記式(I)で表される組成を有する、〔8〕に記載の青酸の製造方法。
FeaSbbPcVdMoeCufWgAhEiGjOk(SiO2)l (I)
ここで、Fe、Sb、P、V、Mo、Cu、W、O、Siはそれぞれ鉄、アンチモン、リン、バナジウム、モリブデン、銅、タングステン、酸素、ケイ素を示し、AはMg、Zn、La、Ce、Al、Cr、Mn、Co、Ni、Bi、U及びSnからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、EはB及びTeからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、GはLi、Na、K、Rb、Cs、Ca及びBaからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、添字a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、lは原子比を示し、a=10のとき、b=12~30、c=1~30、d=0.6~3、e=0~0.3、f=0~5、g=0~3、h=0~6、i=0~5、j=0~3、l=0~200、kはケイ素を除く前記各元素の原子価を満足するのに必要な酸素の原子比である。
〔10〕 前記金属酸化物触媒が少なくともモリブデン及びビスマスを含有する、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔11〕 前記金属酸化物触媒が下記式(II)で表される組成を有する、〔10〕に記載の青酸の製造方法。
MomBinFeoJpLqMrQsOt(SiO2)u (II)
ここで、Mo、Bi、Fe、O、Siはそれぞれモリブデン、ビスマス、鉄、酸素、ケイ素を示し、JはNi、Co、Zn、Mg、Mn及びCuからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、LはLa、Ce、Pr、Nd及びSmからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、MはLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、QはCa、Sr、Ba、Cd、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、W、Ge、Sn、Y、Al、Ga、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Ag、B、P、Sb及びTeからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、添字m、n、o、p、q、r、s、t、uは原子比を示し、m=12のとき、n=0.1~5、o=0.1~10、p=2~12、q=0.01~5、r=0.01~2、s=0~10、u=20~200、tはケイ素を除く前記各元素の原子価を満足するのに必要な酸素の原子比である。
〔12〕 前記メタノールを300~500℃の温度でアンモニア及び酸素と接触させる、〔1〕~〔11〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔13〕 前記メタノールを0~200kPa(ゲージ圧)の圧力でアンモニア及び酸素と接触させる、〔1〕~〔12〕のいずれかに記載の青酸の製造方法。
〔14〕 メタノールを金属酸化物触媒の存在下でアンモニア及び酸素と接触させ、気相接触アンモ酸化反応により青酸を製造する装置であり、
前記金属酸化物触媒を収容した、前記気相接触アンモ酸化反応を行う流動層反応器と、
前記流動層反応器内に配置された1以上の原料ガス分散器と、
メタノールを含む原料ガスを前記原料ガス分散器に供給する原料ガス供給部と、
を備え、
前記原料ガス分散器は、前記原料ガスを前記流動層反応器内に放出する1以上の孔を有し、前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が10~45個/m2である、青酸の製造装置。
〔15〕 前記原料ガスがメタノール及びアンモニアを含む、〔14〕に記載の青酸の製造装置。
〔16〕 酸素含有ガスを前記流動層反応器の底部から供給する酸素含有ガス供給部を備える、〔14〕又は〔15〕に記載の青酸の製造装置。
「~」を用いて表される数値範囲は、両端の数値をその範囲内に含む。
本製造装置は、粒子状の金属酸化物触媒2を収容した、気相接触アンモ酸化反応を行う流動層反応器1と、酸素含有ガス供給管3(酸素含有ガス供給部)と、酸素含有ガス分散器4と、原料ガス供給管6(原料ガス供給部)と、原料ガス分散器7と、整流管8と、サイクロン9と、触媒戻り管10と、ガス排出管11とを備える。
酸素含有ガス分散器4、原料ガス分散器7、整流管8、サイクロン9、触媒戻り管10はそれぞれ流動層反応器1内に配置されている。
原料ガス供給管6は、メタノールを含む原料ガスを供給する管である。原料ガス供給管6は、流動層反応器1の高さ方向の中央よりも下側に接続され、原料ガス分散器7に連通している。
酸素含有ガス分散器4は、流動層反応器1の酸素含有ガス供給管3の接続位置よりも上方に配置されている。酸素含有ガス分散器4は、流動層反応器1内を上下に区画しており、酸素含有ガス分散器4の上に金属酸化物触媒2が流動可能に収容されている。
原料ガス分散器7は、流動層反応器1の高さ方向の中央よりも下側、かつ酸素含有ガス分散器4よりも上方に配置されている。原料ガス分散器7の高さは任意の位置でよい。2以上の原料ガス分散器7を配置し、原料ガスを分割して供給するようにしてもよい。
整流管8は原料ガス分散器7に取り付けられている。
触媒戻り管10の第1端部はサイクロン9に接続されている。第1端部とは反対側の第2端部は任意の位置に開口できるが、例えば、酸素含有ガス分散器4と原料ガス分散器7との間に開口することができる。触媒戻り管10の開口部には、フラッパーバルブやトリクルバルブを設置してもよい。
ガス排出管11は、流動層反応器1からガスを排出する管である。ガス排出管11は、流動層反応器1の頂部に接続され、サイクロン9に連通している。
なお、サイクロン9は、2以上のサイクロンが直列に接続された直列多段サイクロンであってもよい。サイクロン9が直列多段サイクロンである場合、ガス排出管11は、直列多段サイクロンを構成するサイクロンのうち最後段のサイクロンに連通する。
金属酸化物触媒2の平均粒径は30~200μmが好ましい。平均粒径の下限は40μm以上がより好ましく、上限は100μm以下がより好ましい。
金属酸化物触媒2の嵩密度は0.5~2g/cm3が好ましい。嵩密度の下限は0.7g/cm3以上がより好ましく、上限は1.5g/cm3以下がより好ましい。
金属酸化物触媒2は、高活性であることが好ましい。例えば、活性の指標である、アンモ酸化反応をメタノールの1次反応とした時の反応速度定数が3s-1以上である高活性触媒が好ましい。
少なくとも鉄、アンチモン、リン及びバナジウムを含有する金属酸化物触媒は、メタノールの濃度を高くしても青酸が高収率、高選択率で、しかも経時的に安定して得られる点から、金属酸化物触媒中の鉄のモル数を10としたとき、バナジウムのモル数が0.6以上であることが好ましく、下記式(I)で表される組成を有することがより好ましい。
FeaSbbPcVdMoeCufWgAhEiGjOk(SiO2)l (I)
ここで、Fe、Sb、P、V、Mo、Cu、W、O、Siはそれぞれ鉄、アンチモン、リン、バナジウム、モリブデン、銅、タングステン、酸素、ケイ素を示し、AはMg、Zn、La、Ce、Al、Cr、Mn、Co、Ni、Bi、U及びSnからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、EはB及びTeからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、GはLi、Na、K、Rb、Cs、Ca及びBaからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、添字a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、lは原子比を示し、a=10のとき、b=12~30、c=1~30、d=0.6~3、e=0~0.3、f=0~5、g=0~3、h=0~6、i=0~5、j=0~3、l=0~200、kはケイ素を除く前記各元素の原子価を満足するのに必要な酸素の原子比である。
少なくともモリブデン及びビスマスを含有する金属酸化物触媒は、メタノールの濃度を高くしても青酸が高収率、高選択率で、しかも経時的に安定して得られる点から、下記式(II)で表される組成を有することがより好ましい。
MomBinFeoJpLqMrQsOt(SiO2)u (II)
ここで、Mo、Bi、Fe、O、Siはそれぞれモリブデン、ビスマス、鉄、酸素、ケイ素を示し、JはNi、Co、Zn、Mg、Mn及びCuからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、LはLa、Ce、Pr、Nd及びSmからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、MはLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、QはCa、Sr、Ba、Cd、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、W、Ge、Sn、Y、Al、Ga、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Ag、B、P、Sb及びTeからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、添字m、n、o、p、q、r、s、t、uは原子比を示し、m=12のとき、n=0.1~5、o=0.1~10、p=2~12、q=0.01~5、r=0.01~2、s=0~10、u=20~200、tはケイ素を除く前記各元素の原子価を満足するのに必要な酸素の原子比である。
原料ガス分散器7の一例は、図2に示すように、第1方向(図2中の横方向)に伸びるヘッダー71と、ヘッダー71から第1方向と直交する第2方向(図2中の上下方向)両側に伸びる複数の枝管72とを備えるパイプ型分散器である。ヘッダー71は原料ガス供給管6と連通し、枝管72はヘッダー71と連通している。
枝管72には、原料ガス分散器7が流動層反応器1内に配置されたときに下方となる側に向かって開口する孔73が形成されている。
なお、ヘッダー71に、原料ガス分散器7が流動層反応器1内に配置されたときに下方となる側に向かって開口する孔73が形成されていてもよい。この場合、枝管72を設けなくてもよい。
単位反応器断面積あたりの孔数は、原料ガス分散器7が有する孔73の数(個)を、流動層反応器1の断面積(m2)で除することにより算出される。単位反応器断面積あたりの孔数は、例えば、枝管72の数を変化させたり、ヘッダー71又は1本の枝管72に形成される孔73の数を変化させたりすることにより調整できる。枝管72及び孔73は、均一の間隔で設けることが好ましい。
ここで流動層反応器1の断面積とは、流動層反応器1において原料ガス分散器7が配置されている高さにおける、流動層反応器1内部の断面の面積を示す。2以上の原料ガス分散器7が配置されている場合は、酸素含有ガス分散器4に最も近い原料ガス分散器7の高さにおける、流動層反応器1内部の断面の面積を示す。断面は、高さ方向と直交する方向の断面である。なお、断面積には、触媒戻り管10等の内装物の断面積も含むものとする。流動層反応器1の断面積から内装物の断面積を減じた面積は流動層反応器有効断面積と称する。
流動層反応器1の断面積は、例えば、10×10-2~150m2の範囲で適宜選定し得る。
単位反応器断面積あたりの孔数が10~45個/m2である場合、孔73の直径は1~12mmであることが、青酸の収率の観点から好ましい。孔73の直径の下限は1.5mm以上がより好ましく、上限は8mm以下であることがより好ましい。孔73の直径が前記範囲内であると、分散器における圧力損失が適切な範囲となり、原料ガス供給の動力費用及び原料ガスの均一分散性の面で有利である。
原料ガス分散器7が複数の孔73を有する場合、複数の孔73それぞれの直径は同一でもよく異なっていてもよい。
整流管8の内径は、例えば、孔73の直径以上、孔73の直径+20mm以下である。
整流管8の長さは、例えば、50~500mmである。
まず、酸素含有ガスを酸素含有ガス供給管3から流動層反応器1の底部に供給する。このとき、供給された酸素含有ガスが酸素含有ガス分散器4を介して上方に供給され、金属酸化物触媒2が流動状態になり、流動層が形成される。
次いで、メタノール及びアンモニアを含む原料ガスを原料ガス供給管6から供給する。供給された原料ガスは、ヘッダー71を経て枝管72に導入され、孔73から原料ガス分散器7の下方に放出される。また、孔73から放出された原料ガスは、整流管8を介して流動層反応器1内に供給される。具体的には、孔73から放出された原料ガスは、整流管8の先端から原料ガス分散器7の下方に向かって吹き出され、その後、流動状態の金属酸化物触媒2と接触しつつ流動層反応器1内を上昇する。この間、原料ガス中のメタノールが原料ガス中のアンモニア及び酸素含有ガス中の酸素と接触し、気相接触アンモ酸化反応によって青酸(シアン化水素)が生成する。
生成した青酸を含む反応ガスは、ガス流に同伴された金属酸化物触媒2とともにサイクロン9に導入される。サイクロン9では、反応ガスと金属酸化物触媒2とが分離される。サイクロン9で分離された金属酸化物触媒2は、触媒戻り管10を通って流動層反応器1に戻され、反応ガスは、サイクロン9からガス排出管11を通って流動層反応器1から排出される。
原料ガスは、メタノール及びアンモニアの他に、窒素、炭酸ガス又は水蒸気等の希釈剤を含んでいてもよい。
圧力は、青酸の収率の観点から、0~200kPaが好ましい。圧力の下限は10kPa以上がより好ましく、上限は150kPa以下がより好ましい。前記圧力はゲージ圧である。この圧力は、流動床反応器の塔頂において圧力を測定することにより求められる。
アンモニアのメタノールに対するモル比(アンモニア/メタノール)は、青酸の収率の観点から、0.5~10であることが好ましい。
メタノールの空塔速度及びアンモニアの空塔速度は、いずれも1~30cm/secが好ましい。メタノールの空塔速度及びアンモニアの空塔速度の下限は、いずれも2cm/sec以上がより好ましく、上限は20cm/sec以下がより好ましい。
酸素の空塔速度は2~42cm/secが好ましい。酸素の空塔速度の下限は、4cm/sec以上がより好ましく、上限は21cm/sec以下がより好ましい。酸素含有ガスとして空気を用いる場合、空気の空塔速度は10~200cm/secが好ましい。空気の空塔速度の下限は、20cm/sec以上がより好ましく、上限は100cm/sec以下がより好ましい。
空塔速度の定義は後述する実施例に記載のとおりである。
青酸の収率が向上する理由は以下のように考えられる。
流動層反応器1でのメタノールの気相接触アンモ酸化反応においては、流動層反応器1内でのメタノールの分布状態、並びに原料ガスと金属酸化物触媒2との接触状態が青酸の収率に影響する。
単位反応器断面積あたりの孔数の数が少なすぎる場合、流動層反応器1内でのメタノールの分布が不均一になる。メタノールの分布が不均一になることで、流動層反応器1内に、酸素がメタノールに対して相対的に不足して多量のメタノールが未反応のまま残存する領域と、酸素がメタノールに対して相対的に過剰に存在して多量の副生成物が生成する領域とが生じ、流動層反応器全体における青酸の収率が低くなる。
一方、単位反応器断面積あたりの孔数の数が多すぎると、隣接する孔73から放出された原料ガスの気泡同士が合体し、気泡径が大きくなる。その結果、原料ガスと金属酸化物触媒2との接触が不良な状態になり、青酸の収率が低くなる。
単位反応器断面積あたりの孔数を本発明の範囲内とすることで、流動層反応器1内でのメタノールの分布状態を均一化させ、また原料ガスと金属酸化物触媒2との接触状態を良好にすることができ、青酸の収率が向上すると考えられる。
特に、孔73から放出された原料ガスを、整流管8を介して流動層反応器1内に供給することにより、原料ガスを整流することができ、かつ、原料ガスの流速低下によって金属酸化物触媒の粒子が粉化することを防止できる。
なお、本発明者らの検討によれば、メタノールの気相接触アンモ酸化反応と、メタノール以外の原料の気相接触アンモ酸化反応とでは、収率の向上のための、単位反応器断面積あたりの孔数の最適値が異なる。
例えば、上記実施形態では、原料ガス分散器7としてパイプ型分散器を用いる例を示したが、原料ガス分散器7は、単位反応器断面積あたりの孔数を前記範囲内にできるものであればよく、パイプ型分散器以外の公知の分散器であってもよい。パイプ型分散器以外の分散器としては、例えば、キャップ型、多孔質板型、多孔板型又は平行スリット板型が挙げられる。原料ガス分散器7としては、触媒の詰まりを抑制できる点、構造が簡易であるという点で優れているため、パイプ型分散器が好ましい。
また酸素含有ガスは、例えば、流動層反応器1の底部以外に酸素含有ガス用のガス供給管及びガス分散器を設けて、流動層反応器1内に供給するようにしてもよい。金属酸化物触媒2の流動化の観点から、酸素含有ガスを流動層反応器1の底部から供給することが好ましい。
冷却管としては、例えば、垂直型冷却管、水平型冷却管又は螺旋状冷却管が挙げられる。
また流動層反応器1内には、金属酸化物触媒2の流動状態を良好に維持するため、また、施工上やメンテナンスの観点から、他の内挿物を適宜設けてもよい。
空塔速度[cm/sec]=反応条件下における供給ガスの体積速度[cm3/sec]/流動層反応器有効断面積[cm2]
青酸収率[%]=(生成した青酸中の炭素質量[kg]/供給したメタノール中の炭素質量[kg])×100
ここで流動層反応器有効断面積とは、流動層反応器1において原料ガスと金属酸化物触媒2との反応が起こる部分の断面面積から、触媒戻り管10等の内装物の断面積を減じた面積を示す。
(1)三酸化アンチモン粉末247.3gを量り取った。
(2)硝酸385mLと水480mLとを混合して加温し、この中に電解鉄粉49.9gを少しずつ加えて溶解させた。次いで、この溶液に硝酸銅54.0gを加え溶解させた。
(3)水300mLにメタバナジン酸アンモニウム10.5gとパラモリブデン酸アンモニウム1.6gを溶解させた。
(4)シリカゾル(SiO2:20質量%)1590gを量り取った。
(5)前記(2)で得た溶液に前記(4)のシリカゾル、前記(1)の粉末、前記(3)で得た溶液をこの順に、よく撹拌しながら加え、濃度15質量%のアンモニア水によりpH2に調整した。このスラリーを撹拌しながら98℃、3時間加熱処理した後、このスラリーにリン酸(含量85質量%)61.8gを加え、よく撹拌した。次いで、このスラリーを回転円盤式の噴霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。得られた微粒の球状粒子を200℃で2時間、500℃で3時間焼成し、さらに800℃で3時間焼成し、触媒(I-1)を得た。
メタノールの気相接触アンモ酸化反応による青酸の製造を、図1に示す構成の製造装置を用い、以下の手順で行った。ただし原料ガス分散器は、ヘッダーに1個の孔が形成されているものを用いた。実施例1におけるメタノールの気相接触アンモ酸化反応条件を表1に示す。表1中、「kPaG」の「G」はゲージ圧であることを示す(以下同様)。
流動層反応器1に、触媒(I-1)の60kgを充填し、酸素含有ガス供給管3から空気を供給するとともに、原料ガス供給管6からメタノールとアンモニアとの混合ガス(原料ガス)を供給して反応を行った。このとき、空気中の酸素/メタノールのモル比を1.4(空気/メタノールのモル比を6.5)、アンモニア/メタノールのモル比を1、全供給ガスの空塔流速を50cm/sec、酸素の空塔速度を8.2cm/sec(空気の空塔速度を38.2cm/sec)、メタノールの空塔速度及びアンモニアの空塔速度を5.9cm/sec、温度を430℃、圧力をゲージ圧で50kPaに調節した。
原料ガス供給後、反応ガス組成が安定したことを確認し、このときの反応ガス組成の測定結果から青酸収率を算出して1回目の反応(run1)とした。続いて再現性確認のため、再度反応ガス組成を測定して青酸収率を算出し、2回目の反応(run2)とした。実施例1における青酸収率を表1に併記した。
実施例1の反応の後、温度のみ430℃から439℃に変更した。温度変更後、反応ガス組成が安定したことを確認し、このときの反応ガス組成の測定結果から青酸収率を算出して1回目の反応(run1)とした。続いて再現性確認のため、再度反応ガス組成を測定して青酸収率を算出し、2回目の反応(run2)とした。実施例2における青酸収率を表1に併記した。
メタノールの気相接触アンモ酸化による青酸の製造を、図1に示す構成の製造装置を用い、以下の手順で行った。ただし原料ガス分散器は、ヘッダーに3個の孔が形成されているものを用いた。
製造条件を表1に示すように変更した以外は実施例1と同様にして青酸の製造を行い、原料ガス供給後、反応ガス組成が安定したことを確認し、このときの反応ガス組成の測定結果から青酸収率を算出して1回目の反応(run1)とした。続いて再現性確認のため、再度反応ガス組成を測定して青酸収率を算出し、2回目の反応(run2)とした。比較例1における青酸収率を表1に併記した。
比較例2の反応の後、温度のみを表1に示すように変更した。温度変更後、反応ガス組成が安定したことを確認し、このときの反応ガス組成の測定結果から青酸収率を算出して1回目の反応(run1)とした。続いて再現性確認のため、再度反応ガス組成を測定して青酸収率を算出し、2回目の反応(run2)とした。比較例2における青酸収率を表1に併記した。
表1からわかるように、実施例1と比較例1の反応条件、及び実施例2と比較例2の反応条件は、流動層反応器の単位断面積あたりの孔数以外はほぼ同じである。
しかし、図4からわかるように、単位反応器断面積あたりの孔数が10~45個/m2である実施例1及び2は、流動層反応器の単位断面積あたりの孔数が45個/m2超である比較例1及び2に比べて、青酸収率が高かった。
すなわち本発明によれば、メタノールの気相接触アンモ酸化反応における青酸の収率が向上することが裏付けられた。
2 金属酸化物触媒
3 酸素含有ガス供給管
4 酸素含有ガス分散器
6 原料ガス供給管(原料ガス供給部)
7 原料ガス分散器
8 整流管
9 サイクロン
10 触媒戻り管
11 ガス排出管
71 ヘッダー
72 枝管
73 孔
Claims (8)
- メタノール及びアンモニアを含む原料ガスを、流動層反応器内に配置された原料ガス分散器を介して前記流動層反応器内に供給し、酸素含有ガスを、前記流動層反応器の底部から供給し、前記メタノールを金属酸化物触媒の存在下でアンモニア及び酸素と接触させ、気相接触アンモ酸化反応により青酸を得る工程を含み、
前記メタノールを300~500℃の温度で前記アンモニア及び前記酸素と接触させ、
前記メタノールを0~200kPa(ゲージ圧)の圧力で前記アンモニア及び前記酸素と接触させ、
前記流動層反応器内に供給される、前記酸素の前記メタノールに対するモル比(酸素/メタノール)が、0.8~2.0であり、
前記流動層反応器内に供給される、前記アンモニアの前記メタノールに対するモル比(アンモニア/メタノール)が0.5~10であり、
前記流動層反応器内に供給される全ガスの空塔速度が10~200cm/secであり、
前記原料ガス分散器は、前記原料ガスを前記流動層反応器内に放出する1以上の孔を有し、前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が10~45個/m2であり、
前記金属酸化物触媒が下記式(I)で表される組成を有する、青酸の製造方法。
Fe a Sb b P c V d Mo e Cu f W g A h E i G j O k (SiO 2 ) l (I)
ここで、Fe、Sb、P、V、Mo、Cu、W、O、Siはそれぞれ鉄、アンチモン、リン、バナジウム、モリブデン、銅、タングステン、酸素、ケイ素を示し、AはMg、Zn、La、Ce、Al、Cr、Mn、Co、Ni、Bi、U及びSnからなる群から選択 される少なくとも一種の元素を示し、EはB及びTeからなる群から選択される少なくとも一種の元素を示し、GはLi、Na、K、Rb、Cs、Ca及びBaからなる群から選 択される少なくとも一種の元素を示し、添字a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、lは原子比を示し、a=10のとき、b=12~30、c=1~30、d=0.6~3、e=0~0.3、f=0~5、g=0~3、h=0~6、i=0~5、j=0~3、l=0~200、kはケイ素を除く前記各元素の原子価を満足するのに必要な酸素の原子比である。 - 前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が20~35個/m2である、請求項1に記載の青酸の製造方法。
- 前記孔の直径が1~12mmである、請求項1又は2に記載の青酸の製造方法。
- 前記原料ガス分散器がパイプ型分散器であり、
前記原料ガス分散器の前記孔を有する位置に整流管が取り付けられており、
前記孔から放出された原料ガスを、前記整流管を介して前記流動層反応器内に供給する、請求項1から3のいずれか1項に記載の青酸の製造方法。 - 前記金属酸化物触媒の平均粒径が30~200μmである、請求項1から4のいずれか1項に記載の青酸の製造方法。
- 前記金属酸化物触媒の嵩密度が0.5~2g/cm 3 である、請求項1から5のいずれか1項に記載の青酸の製造方法。
- 前記金属酸化物触媒の実験式がFe 10 Sb 19 P 6 V 1 Cu 2.5 Mo 0.1 O X (SiO 2 ) 60 (ただし、Xは構成金属の原子価によって決まる数である。)である、請求項1から6のいずれか1項に記載の青酸の製造方法。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の青酸の製造方法によって、メタノールを金属酸化物触媒の存在下でアンモニア及び酸素と接触させ、気相接触アンモ酸化反応により青酸を製造する装置であり、
前記金属酸化物触媒を収容した、前記気相接触アンモ酸化反応を行う流動層反応器と、
前記流動層反応器内に配置された1以上の原料ガス分散器と、
メタノール及びアンモニアを含む原料ガスを前記原料ガス分散器に供給する原料ガス供給部と、
酸素含有ガスを前記流動層反応器の底部から供給する酸素含有ガス供給部と、
を備え、
前記原料ガス分散器は、前記原料ガスを前記流動層反応器内に放出する1以上の孔を有し、前記流動層反応器の単位断面積あたりの前記孔の数が10~45個/m2である、青酸の製造装置。
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