JP6421190B2 - 画素構造及び該画素構造を有する有機発光表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機発光表示技術に関し、特に画素構造及び該画素構造を有する有機発光表示装置に関するものである。

ＯＬＥＤ（Organic Light−Emitting Diode、有機発光ダイオード）は自己発光部品である。従来のＬＣＤ（Liquid Crystal Display、液晶表示装置）表示方法と比較してみると、ＯＬＥＤ表示方法は、バックライトを設ける必要がなく、自己発光が可能であるという特徴を具備している。ＯＬＥＤは非常に薄い有機材料膜とガラス基板を採用し、電流が流れるとき、有機材料が発光することができる。したがって、ＯＬＥＤ表示パネルは電気エネルギーを有効に節約し、より軽くて薄くすることができる。ＬＣＤ表示パネルと比較してみると、ＯＬＥＤ表示パネルは、より広い温度変化に耐えることができ、かつ可視角度をより大きくすることができる。ＯＬＥＤ表示装置は、ＬＣＤ表示装置に継ぎ次世代の平面表示装置になる可能性があり、現在一番注目を集めている技術の一種である。

ＯＬＥＤパネルのカラー化方法は色々あるが、現在比較的に成熟しかつ量産に成功したＯＬＥＤカラー化技術はＯＬＥＤ蒸着技術であり、この技術は従来のRGB Stripe（RGB帯状）の配列方法で蒸着を行うことができる。画面の効果が最もよい方法はside-by-side（並列）方法である。並列方法において、一個の画素（Pixel）範囲内には赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）三個の副画素（Sub-pixel）が設けられ、各副画素はいずれも四辺形に形成され、かつ各副画素には独立した有機発光部品が設けられている。これは、蒸着成膜技術を利用しかつファインメタルマスク（Fine Metal Mask、ＦＭＭ）でArray（配列）基板上の画素位置の対応画素位置に有機発光部品を形成することである。高ＰＰＩ（Pixel Per Inch、毎インチの画素）ＯＬＥＤパネルの重要なポイントは、精密で、機械的安定性がよいファインメタルマスクを採用することにあり、ファインメタルマスクのポイントは画素及び画素の配列方法にある。

現在の業界にはスリット（Slit）、スロット（Slot）、Pentile及びIGNISなどの配列方法があるが、マスク（Mask）開口の面積に下限があり、かつ製作を行うときに誤差の影響を受けることを避けるため、隣接する画素の開口の間に所定の隙間（Gap）を残さなければならないので、画素の密度（例えばＰＰＩ）を大幅に向上させることができないことと、画素の配列が本当のトゥルーカラー表示ではないことなどにより、上述した方法は画素密度を向上させる問題を有効に解決することができない。

従来の画素配列方法において、各画素はＲ、Ｇ、Ｂ三色で構成される。図１に示される画素配列方法のように、一個の画素内にはＲ、Ｇ、Ｂのような互いに平行である三個の副画素が設けられている。各副画素は四辺形に形成され、ＲＧＢ部品の性能に応じて、Ｒ、Ｇ、Ｂ副画素に対応する四辺形のサイズを調節することができる。図１に示されるとおり、画素区域１００は、Ｒ副画素区域１０１、Ｒ発光区域１０２、Ｇ副画素区域１０３、Ｇ発光区域１０４、Ｂ副画素区域１０５及びＢ発光区域１０６を含み、図面に示されたＲ、Ｇ、Ｂ副画素区域の面積と発光区域の面積はそれぞれ同様であるが、実際の需要によってこの面積を調節することができる。

図１Ａと図１Ｂには図１にそれぞれ対応する二種のMaskが示されている。図１Ａ、図１Ｂ中の１０７、１０９はMask遮蔽区域であり、蒸着区域の開口１０８、１１０の形状はスリット（Slit）とスロット（Slot）を含む二種がある。

図１ＡはSlit式蒸着Maskであり、メタルマスクの開口のサイズは副画素のサイズに対応する。該メタルマスクの開口方法の主な特徴は、パネルの同一列のすべての副画素が一個の開口を共用することにある。メタルマスクの開口の長手方向の長さは長く、表示パネルのサイズが増加すると、メタルマスクの開口の長さは長くなり、隣接する開口の間の非開口部分には金属ストライプ（Stripe）が形成されている。

Slit式開口方法を低ＰＰＩのＯＬＥＤパネルに用いるとき、メタルマスク上の隣接する開口の間の間隔が大きく、金属ストライプの幅が広いので、メタルマスクの製作及び使用を容易に管理することができる。しかしながら、この開口方法を高ＰＰＩのＯＬＥＤパネルに用いるとき、ファインメタルマスク上の隣接する開口の間の間隔が小さくなり、金属ストライプの幅が狭くなるので、メタルマスクを使用する過程において、金属ストライプがマグネットプレートの磁力線方向の影響によって容易に変形し、副画素の間に異なる色材料が混ざることによって混色が発生し、製品の良品率が低下するおそれがある。また、このメタルマスクを使用、洗浄及び保管するとき容易に変形するので、再利用性がよくなく、メタルマスクのコストが高くなる。このため、この方法で製作したパネルのコストも高くなる。

図１Ｂはslot式蒸着Maskであり、該メタルマスクの開口方法の主な特徴は、Slit式開口中の画素同士の間の位置に連結部（Bridge）を形成することにより、隣接する金属ストライプを連結し、一個の帯状開口を複数個の開口ユニットにすることにある。この方法（連結部）により、メタルマスクの金属ストライプを安定にし、上述したSlit式開口の金属ストライプが磁力線及び外力の影響によって容易に変形する問題を解決することができる。しかし、メタルマスクの長手方向のサイズの精度（誤差）により、蒸着をするとき副画素が遮蔽されることを避ける必要があるので、副画素と連結部との間に充分な距離を空けなければならない。これにより、副画素の上下方向の長さが縮小され、各副画素の開口率に影響を与えるおそれがある。

上述した各方法において、Mask上の各開口が一個或いは一列の同色の副画素にのみ対応するので、配列の密度を向上させることができず、これにより解像度も向上させることができない。また、Mask製造技術の制限により、Mask上の開口を小さくしすぎてはならない。また、蒸着を行うとき「シャドー現象」が発生することがあるので、二個の発光区域の間に所定の余量を残すことにより、「シャドー現象」によって混色が発生することを防止する必要がある。すなわち、Maskを過度に小さくすると、開口率に影響を与えるおそれがある。

カナダのIGNIS社が出願した特許文献１には画素陳列の配列方法が公開されているが、この方法の各副画素はいずれも依然として四辺形に形成されており、副画素の位置関係とslit及びslotの配列方法とのみが（上述した事項と）異なっている。三種の副画素の配列方法は図２に示すとおりである。画素区域２００は、Ｒ副画素区域２０１と、Ｒ発光区域２０２と、Ｇ副画素区域２０３と、Ｇ発光区域２０４と、Ｂ副画素区域２０５と、Ｂ発光区域２０６とを含む。図２Ａと図２Ｂは図２のＢ副画素にそれぞれ対応する二種の蒸着Maskを示す図であり、図２Ｃは図２のＲ副画素或いはＧ副画素に対応する蒸着Maskを示す図である。Mask開口は一個の画素を二個の副画素に仕切ることに相当する。図に示す陰影区域２０７、２０９、２１１はそれぞれ蒸着遮断区域であり、Ｂ副画素を蒸着する蒸着開口２０８、２１０はslit又はslotであり、蒸着開口２１２はＲ副画素或いはＧ副画素のMask開口であり、一個の副画素に対応する。すなわち、蒸着開口幅方向サイズと長手方向サイズはそれぞれ一個の副画素の幅方向サイズと長手方向サイズに相当する。該方法において、画素が周期的に水平及び垂直に移動することによって行と列に沿う画素陳列が形成される。赤色副画素と緑色副画素に対応するメタルマスクの開口の間の間隔が大きいので、ある程度の高ＰＰＩ表示を実現することができる。

画素が周期的に配列された結果、画素配列中の青色副画素は直線配列に形成され、これに対応するメタルマスクは前記slit開口方法或いはslot開口方法を使用しなければならない。しかし、上述したように、slit開口方法とslot開口方法はいずれも欠点を有しているので、IGNIS社の画素陳列の配列方法において、青色（画素の）メタルマスクの開口方法が副画素の開口率とＰＰＩの向上に大きい影響を与えるおそれがある。

また、有機発光表示部品において、解像度が向上することに伴って画素の開口率が低下する。この結果、単色部品の作動輝度が増加するとともに表示パネルの寿命が短縮される。

米国特許出願公開第２０１１／０１２８２６２号明細書

そのため、ＯＬＥＤ表示装置の解像度を有効に向上させ、製造コストを低減し、良品率を向上させることができる画素構造と、このような画素構造を採用する有機発光表示部品とを提供する必要がある。

本発明に係る画素構造は、複数個の副画素を含む画素を複数個含む副画素構造において、前記画素が１つの矩形区域と２つの直角梯形区域とに区切られ、これら３つの区域それぞれが１つの副画素であって、前記複数個の画素のそれぞれが、前記直角梯形区域に位置する１つのＲ副画素、前記直角梯形区域に位置する１つのＧ副画素、及び、前記矩形区域に位置する１つのＢ副画素で構成され、各画素の矩形区域が当該画素の角部に位置し、当該角部を一端とする当該画素の対角線が、当該画素の残りの区域を二個の直角梯形に仕切り、前記複数個の画素のうちの少なくとも一個の画素が一個の画素ユニットを構成し、縦方向に隣接する前記画素ユニットが鏡像的に配列され、かつ／又は、横方向に隣接する前記画素ユニットが鏡像的に配列される。
また、一実施形態において、一個の画素が一個の画素ユニットを構成しており、複数の画素ユニットが縦方向及び横方向のいずれについても鏡像的に配列され、一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転した場合の配列構造と、当該画素ユニットと対角線方向に隣接する別の画素ユニットの配列構造とが同じである。

本発明の一実施例において、縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造が互いに同様であり、かつ／又は、横方向に隣接する画素ユニットの配列構造が互いに同様である。

本発明の一実施例において、いずれか一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転してもその配列構造が変化しないか、或いは、いずれか一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転した場合の配列構造と当該画素ユニットに対して縦方向及び／又は横方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造とが互いに同様である。

本発明の一実施例において、いずれか一つの前記画素ユニットの配列構造と当該画素ユニットに対してその対角線方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造とが互いに同様であるか、或いは、いずれか一つの前記画素ユニットと当該画素ユニットに対してその対角線方向に隣接する前記画素ユニットとが鏡像的に配列される。

本発明の一実施例において、縦方向に隣接する奇数個の画素或いは横方向に隣接する奇数個の画素が一個の前記画素ユニットを構成する。

本発明の一実施例において、縦方向に隣接する偶数個の画素或いは横方向に隣接する偶数個の画素が一個の前記画素ユニットを構成する。

本発明の一実施例において、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列に位置する偶数個の画素が一個の前記画素ユニットを構成する。

本発明の一実施例において、画素を構成する前記副画素は三角形である。

本発明の一実施例において、前記画素はＲ、Ｇ、Ｂ副画素を含む。

本発明はさらに、上述した画素構造を含む有機発光表示装置を提供する。

本発明は、好適な画素配列構造を有し、隣接する画素の副画素がMask上の一個の開口を共用することで蒸着をすることにより、蒸着時のMaskの開口面積を増加させ、Maskの製作工程の難易度を低減し、かつ蒸着工程の難易度を低減することができる。Maskで隣接する副画素を蒸着するとき所定の隙間を残す必要がないので、開口率を確保するとともに実際の高ＰＰＩを実現することができる。また、本発明はMaskの強度も増加させることができるので、これを使用するとき容易に変形することを防止し、製品の良品率を向上させ、Maskの寿命を増加させ、コストを低減することができる。

従来の有機発光表示装置の画素配列を示す図である。 図１のMask開口を示す図である。 図１の他のMask開口を示す図である。 IGNIS社の画素配列構造を示す図である。 図２のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図２のＢ副画素の他のMask開口を示す図である。 図２のＲ或いはＧ副画素のMask開口を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第一実施例を示す図である。 図３に示す実施例のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図３に示す実施例のＢ副画素の他のMask開口を示す図である。 図３に示す実施例のＲ或いはＧ副画素のMask開口を示す図である。 図３に示す実施例の他のＢ副画素のMask開口を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第二実施例を示す図である。 図５に示す実施例のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図５に示す実施例のＢ副画素の他のMask開口を示す図である。 図５に示す実施例のＲ副画素のMask開口を示す図である。 図５に示す実施例のＧ副画素のMask開口を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第三実施例を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第四実施例を示す図である。 図７に示す実施例のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図７に示す実施例のＲ副画素のMask開口を示す図である。 図７に示す実施例のＧ副画素のMask開口を示す図である。 図７Ａ〜図７Ｃに示すMaskの隣接する開口の間の連結箇所を示す局部拡大図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第五実施例を示す図である。 図８に示す実施例のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図８に示す実施例のＲ副画素のMask開口を示す図である。 図８に示す実施例のＧ副画素のMask開口を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第六実施例を示す図である。 図９に示す実施例のＢ副画素のMask開口を示す図である。 図９に示す実施例のＲ副画素のMask開口を示す図である。 図９に示す実施例のＧ副画素のMask開口を示す図である。 図９に示す実施例のＢ副画素の蒸着方法中の第一ステップを示す図である。 図９に示す実施例のＢ副画素の蒸着方法中の第二ステップを示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第七実施例を示す図である。 図１０に示す実施例のＲ或いはＧ副画素のMask開口を示す図である。 図１０に示す実施例のＲ或いはＧ副画素の他のMask開口を示す図である。 図１０ＢのMaskで蒸着して得た画素構造を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第八実施例を示す図である。 本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第九実施例を示す図である。

本発明の上記目的、特徴及び発明の効果をより詳細に理解させるため、以下図面により本発明の具体的な実施例を詳細に説明する。下記内容で説明する様々な具体的な事項により、本発明をより充分に理解することができる。本発明は下述する実施例と異なる他の実施例で実現することもでき、本技術分野の技術者は本発明の要旨を逸脱しない範囲で本発明の実施例を適当に改良することができる。すなわち、本発明は、下述する具体的な実施例の構成にのみ限定されるものではない。

本発明は、適当な画素配列構造により、複数個の画素の副画素が同一Mask開口を共用するようにし、蒸着時のMask開口面積を増加させ、Maskの製造難易度を低減し、蒸着工程の難易度を低減することができる。Mask開口のサイズが一定する場合、画素配列を改変することにより、表示装置の解像度を向上させることができる。

（実施例１）
図３は、本発明の有機発光表示装置の画素構造に係る第一実施例を示す図である。図３に示すとおり、表示装置は複数個の画素３００を含み、各画素３００は複数個の副画素で構成される。各画素３００は、Ｒ副画素区域３０１、Ｒ発光区域３０２、Ｇ副画素区域３０３、Ｇ発光区域３０４、Ｂ副画素区域３０５及びＢ発光区域３０６を含む。各画素のサイズはＨ×Ｈである。

本実施例において、各画素のＲ、Ｇ、Ｂ副画素はいずれも四辺形である。Ｒ、Ｂ副画素の高さと幅はいずれも１／２Ｈであり、Ｂ副画素の幅はＨであり、高さは１／２Ｈである。すなわち、Ｂ副画素の面積はＧ副画素又はＢ副画素の２倍である。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ａ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ａ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ａ１）と（ａ２）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ａ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ａ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ａ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は互いに同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ａ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ａ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ａ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は互いに同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ａ１）、（ａ２）及び（ａ４）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ａ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ａ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ａ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は互いに同様であり、（ａ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は互いに同様であり、（ａ５）画素ユニット中の画素は画素ユニットの中心点を対称中心に対称に配列される、すなわち画素ユニットがその中心点を中心に１８０度回転してもその構造が変わらないという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）及び（ａ５）を具備する。

具体的ことは図３に示されるとおりである。図３に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図３において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素はこのとおり表記する。

図３に示されるとおり、画素（１、１）のＢ副画素は該画素の下部に位置し、Ｇ副画素とＲ副画素は該画素の上部に並列に位置し、かつＧ副画素は左側に位置し、Ｒ副画素は右側に位置している。画素（１、１）と横方向に隣接する画素（１、２）のＢ副画素は該画素の下部に位置し、Ｇ副画素とＲ副画素は該画素の上部に並列に位置し、かつＲ副画素は左側に位置し、Ｇ副画素は右側に位置している。これにより、画素（１、２）と画素（１、１）の画素構造は水平鏡像的に配列される。画素（１、１）と縦方向に隣接する画素（２、１）のＢ副画素は該画素の上部に位置し、Ｇ副画素とＲ副画素は該画素の下部に並列に位置し、かつＧ副画素は左側に位置し、Ｒ副画素は右側に位置している。これにより、画素（２、１）と画素（１、１）の画素構造は垂直鏡像的に配列される。図３の画素（２、２）のＢ副画素は該画素の上部に位置し、Ｇ副画素とＲ副画素は該画素の下部に並列に位置し、かつＲ副画素は左側に位置し、Ｇ副画素は右側に位置している。図３に示されるとおり、同一行において、各奇数列の画素構造が互いに同様で、各偶数列の画素構造も互いに同様であり、また、同一列において、各奇数行の画素構造が互いに同様で、各偶数行の画素構造も互いに同様である。また、画素（１、１）と画素（２、２）とが点対称となり、画素（１、２）と画素（２、１）とが点対称となっている。したがって、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素が集中するように配列することにより、蒸着を行うとき一個のマスク開口を共用すること、即ち一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができる。したがって、（マスクの）開口サイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素密度を増加させることができる。すなわち、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図３に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すことであればいずれでもよい。

図３Ａ、図３Ｂ、図３Ｃはそれぞれ、図３の画素構造に対応する蒸着Maskの実施例を示す図である。このうち、図３Ａ、図３ＢはＢ副画素を蒸着するための蒸着Maskの実施例を示す図である。図３Ａに示されたとおり、本発明の実施例において、蒸着Maskは蒸着遮蔽区域３０７と蒸着区域開口３０８を含み、開口３０８はslot式であり、高さはＨであり、幅Ｈ’は高さＨから隙間の幅ｍを差し引いた値である。蒸着をするとき、開口３０８で図３の実施例に示された同一列で縦方向に隣接する二行画素のＢ副画素を同時蒸着することができる。図３Ｂに示された実施例において、蒸着Maskは蒸着遮蔽区域３０９と蒸着区域開口３１０を含み、開口３１０はslit式であり、この高さはＨであり、隣接する開口３１０同士間の距離もＨである。蒸着をするとき、開口３０９で図３の実施例に示された縦方向に隣接する二行においてすべての列のＢ副画素を同時蒸着することができる。

図３Ｃは、Ｒ副画素とＧ副画素を蒸着する蒸着Maskの実施例を示す図である。該実施例において、蒸着Maskは蒸着遮蔽区域３１１と蒸着区域開口３１２を含み、開口３１２はslot式であり、高さと幅はいずれもＨであり、隣接する開口３１２同士間の距離もＨである。蒸着をするとき、開口３１２で図３の実施例に示された隣接する四個の画素のＲ副画素又はＧ副画素を同時蒸着することができる。該四個の画素はそれぞれ、隣接する二行であって隣接する二列に位置する。本発明は一開口で同様な四個の副画素を同時蒸着することができるので、蒸着マスク（Mask）の阻害で解像度を向上させることができないことを解決し、解像度を大幅に向上させることができる。このような配列方法により、Maskの開口を大きくすることが可能となり、Maskの製造難易度を低減することができる。この方法は、大きいサイズのMaskの製作にも適用する。この場合、Ｒ、Ｇ副画素のMask開口の水平方向及び垂直方向の間隔も増加し、Ｂ副画素のMaskの垂直方向の間隔も増加するので、使用中のMaskの強度を増加させることができる。具体的には、従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができ、図１に示された従来技術の画素配列方法を採用するとき、各画素のサイズは少なくとも３＊４０μｍ＝１２０μｍである。１インチ（２５４００μｍ）を各画素のサイズで割ることにより、すなわち２５４００μｍ／１２０μｍにすることにより、最大解像度２１２ＰＰＩを獲得することができる。IGNIS配列方法を採用するとき、各画素のサイズは少なくとも２＊４０μｍ＝８０μｍであり、獲得したＰＰＩは２５４００μｍ／８０μｍ＝３１７ＰＰＩである。図３に示された本発明の画素配列方法を採用するとき、各画素のサイズは４０μｍであり、獲得した解像度は２５４００μｍ／４０μｍ＝６３５ＰＰＩになる。

上述した実施例が本発明の好適な実施例にすぎないので、実際の応用において、需要によって他の蒸着Maskを採用することもできる。例えば、slit式蒸着Maskの一開口で同一行のすべての画素のＢ副画素を同時蒸着するか、或いはslot式蒸着Maskの一開口で横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素のＲ副画素（又はＧ副画素）又は縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素のＲ副画素（又はＧ副画素）を同時蒸着することができる。また、混色を防止するため、二枚のMaskでＲ副画素とＧ副画素とをそれぞれ蒸着することができる。

他の実施例において、図４に示されたＢ副画素蒸着用蒸着Maskを採用することもできる。該蒸着Maskは、蒸着遮蔽区域４０１とＢ副画素の蒸着区域開口４０２とを含む。蒸着区域開口４０２は一個しかなく、そのサイズは表示装置のすべての表示区域を覆うことができる。すなわち、表示区域全体にＢ副画素を蒸着した後、Ｒ、Ｇ副画素に対応する区域にＲ、Ｇ副画素をそれぞれ蒸着する。現在のＯＬＥＤ部品において、Ｂ副画素の輝度が一番暗いので、この部分の発光面積を増加させる必要がある。これによって、Ｂ副画素の開口率は１つの画素の面積のうち最も広い面積を占用する。このため、青色共用（Common Blue）方法を採用し、画素全体上にＢ副画素を蒸着することにより、位置決め誤差と「シャドー現象」とによってＢ副画素の開口率が低下することを防止し、位置決め手段の精度レベル（難易度）を低減することができる。ＲとＧ副画素用蒸着Maskは図３Ｃに示されたとおりであるので、ここでは再び説明しない。

（実施例２）
図５は本発明の第二実施例を示す図である。本実施例において、表示装置は複数個の画素５００を含み、該画素は複数個の副画素で構成される。各副画素の形状は三角形である。好ましくは、図５に示されるとおり、各副画素はいずれも二等辺直角三角形であり、かつ直角対向状態に配列された四個の副画素が一個の画素を構成する。一個の画素を構成する四個の副画素は、一個のＲ副画素５０１、一個のＧ副画素５０３及び二個のＢ副画素５０２を含み、二個のＢ副画素５０２は対向に設けられる。上述したとおり、Ｂ副画素５０２の面積がＲ副画素５０１又はＧ副画素５０３の二倍であることにより、表示装置の表示効果を確保することができる。

図５に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図５において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素はこのとおり表記する。

開口の共用を実現するため、本実施例において隣接する画素の同色の副画素を集中させるように配列する。図５に示すとおり、各画素は傾斜の十字によって四区域に仕切られ、これらはそれぞれ上側区域、下側区域、左側区域、右側区域であり、各区域は一個の副画素である。本実施例において、画素（１、１）５００のＲ副画素５０１は該画素の上側区域に位置し、Ｇ副画素５０３は該画素の下側区域に位置し、該画素の左側区域と右側区域はいずれもＢ副画素５０２である。画素（１、２）のＲ副画素は該画素の下側区域に位置し、Ｇ副画素は該画素の上側区域に位置し、該画素の左側区域と右側区域はいずれもＢ副画素である。画素（２、１）のＲ副画素は該画素の下側区域に位置し、Ｇ副画素は該画素の上側区域に位置し、該画素の左側区域と右側区域はいずれもＢ副画素である。これにより、画素（１、１）の右側区域のＢ副画素と画素（１、２）の左側区域のＢ副画素とが集中するように配列され、画素（１、１）の下側区域のＧ副画素と画素（２、１）のＧ副画素とが集中するように配列され、画素（１、２）の下側区域のＲ副画素と画素（２、２）のＲ副画素とが集中するように配列される。他の画素も類似の形状に配列される。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｂ１）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｂ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｂ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｂ６）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｂ１）、（ｂ４）、（ｂ５）及び（ｂ６）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｂ１）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｂ２）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｂ４）いずれか一つの画素ユニットが１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ４）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｂ１）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｂ３）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｂ５）いずれか一つの画素ユニットが１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｂ１）、（ｂ３）及び（ｂ５）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｂ１）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｂ２）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｂ３）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｂ６）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）及び（ｂ６）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図５に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、この配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

図５Ａに示すとおり、図５Ａは図５のＢ副画素に対応する本発明の実施例のMask開口を示す図である。該実施例において、Mask上の開口５０４は傾斜の正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さと一個の画素の幅とは同様である。図５に示すとおり、各Ｂ副画素区域（隣接する二個の画素中の隣接するＢ副画素で構成された区域であり、これはMask上の一開口に対応する）の角部が相対するので、一枚のMaskで全表示区域のＢ副画素を蒸着すると、Mask上の各開口が一体になってしまうので、蒸着を実施することができない。Maskの開口の間に連結部を設けることができるが、画素の面積を確保するため、この連結部を非常に小さくしなければならないので、Maskの強度を確保することができない。このため、二枚のMaskでＢ副画素を蒸着する必要がある。二枚のMask上の開口は図５Ａと図５Ｂに示すように間隔を空いた状態に配列される。まず図５Ａに示されたMaskで一部のＢ副画素を蒸着し、次に図５Ｂに示されたMaskで蒸着されたＢ副画素の間に位置する残りのＢ副画素を蒸着する。他の実施例において、一枚のMaskのみを用いることもできる。該Maskの構造は図５Ａ又は図５ＢのMaskの構造と一致し、そのサイズは表示区域のサイズより大きい。この場合、まず該Maskで一部のＢ副画素を蒸着し、次に該Maskを横方向又は縦方向に一画素の距離だけ移動させた後、残りのＢ副画素を蒸着することができる。これにより、上記効果と同様な効果を奏し、一枚のMaskを省くことができる。図５Ｃと図５ＤはＲ副画素のMaskとＧ副画素のMaskを示す図である。これらの構造は図５Ａ又は図５Ｂに示されたMaskの構造と一致し、開口の位置のみが違うので、ここでは再び説明しない。他の実施例において、一枚のMaskで全色の副画素を蒸着することができる。具体的には、Maskの位置を移動させることにより該当各色の画素の位置に対応させることができる。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素の幅とMaskの開口の対角線の長さとが同様であり、従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができるので、各画素のサイズを約５６．６μｍにし、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を４５０ＰＰＩにすることができる。図５Ａ〜図５Ｄに示されたとおり、本発明のMaskの開口同士間の距離とMaskの幅とが同様であることにより、Maskの強度を大幅に向上させることができる。

図５に示された実施例において、各色画素の位置を変換することができる。すなわち、変換された位置が上記特徴を表すものであればいずれでもよい。

（実施例３）
実施例２において、一部分の色付画素の代わりに他の色の画素を用いることができる。図６に示された本発明の実施例３において、本実施例の各画素６００は、Ｒ副画素６０１、Ｇ副画素６０３、Ｂ副画素６０２及びＷ（白色）副画素６０４で構成される。図５に示された実施例と比較してみると、本実施例は一Ｂ副画素の代わりにＷ副画素６０４を用い、かつＲ副画素の位置とＧ副画素の位置を変換した。本実施例の利点は、各画素がいずれも一個のＷ副画素を含んでいるので、白色を表示するときの表示純度を向上させ、より高い輝度を得ることができる。

具体的には、図６に示されるとおり、表示装置は複数個の画素６００を含み、該画素は複数個の副画素で構成される。各副画素の形状は三角形である。好ましくは、図６に示されるとおり、各副画素はいずれも二等辺直角三角形であり、かつ直角相対状態に配列された四個の副画素は一個の画素を構成する。一個の画素を構成する四個の副画素は、一個のＲ副画素６０１、一個のＧ副画素６０３、一個のＢ副画素６０２及び一個のＷ副画素６０４を含む。

図６に示すとおり、図６には有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図６において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

開口の共用を実現するため、本実施例において隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。図６に示すとおり、各画素は傾斜の十字によって四区域に仕切られ、それぞれ上側区域、下側区域、左側区域、右側区域であり、各区域は一個の副画素である。本実施例において、画素（１、１）６００のＲ副画素６０１は該画素の下側区域に位置し、Ｇ副画素６０３は該画素の上側区域に位置し、該画素の左側区域はＷ副画素６０４であり、右側区域はＢ副画素６０２である。画素（１、２）のＲ副画素は該画素の上側区域に位置し、Ｇ副画素は該画素の下側区域に位置し、該画素の左側区域と右側区域にはＢ副画素とＷ副画素がそれぞれ設けられる。画素（２、１）のＲ副画素は該画素の上側区域に位置し、Ｇ副画素は該画素の下側区域に位置し、該画素の左側区域と右側区域にはＢ副画素とＷ副画素がそれぞれ設けられる。これにより、画素（１、１）の右側区域のＢ副画素と画素（１、２）の左側区域のＢ副画素とが集中するように配列され、画素（１、１）の下側区域のＲ副画素と画素（２、１）のＲ副画素とが集中するように配列される。他の画素も類似の形状に配列される。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図６に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ四色の位置を変換することができる。すなわち、この配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

図６に示される実施例の構造特徴は、図５に示された実施例と同様であり、かつ図５に示された実施例と同様なMaskで蒸着をすることができるので、ここでは再び説明しない。

（実施例４）
図７は本発明の第四実施例を示す図である。本実施例において、表示装置は複数個の画素７００を含み、該画素は複数個の副画素で構成される。各副画素の形状は三角形である。好ましくは、図７に示されるとおり、各副画素はいずれも二等辺直角三角形である。図５の実施例（実施例２）と比較してみると、本実施例は、同一の画素のＲ副画素７０１とＧ副画素７０３を隣接に設置し、Ｂ副画素の７０２同士を隣接に設置して一個の副画素に合併させることにある。本実施例においても、開口の共用を実現するため、本実施例において隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。

図７に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図７において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

具体的には、図７に示すとおり、画素（１、１）７００の右側区域と下側区域はそれぞれＧ副画素７０３とＲ副画素７０１であり、Ｂ副画素７０２は該画素の上側区域と左側区域を含む二区域を占用する。画素（１、２）の左側区域と下側区域はそれぞれＧ副画素とＲ副画素であり、Ｂ副画素は該画素の上側区域と右側区域を含む二区域を占用する。画素（２、１）の上側区域と左側区域はそれぞれＲ副画素とＧ副画素であり、Ｂ副画素は該画素の右側区域と下側区域を含む二区域を占用する。本実施例において、各画素中のＲ副画素７０１とＧ副画素７０３の位置を同時交換することができる。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｃ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｃ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｃ５）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｃ１）、（ｃ４）及び（ｃ５）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｃ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｃ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｃ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｃ５）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｃ１）、（ｃ３）、（ｃ４）及び（ｃ５）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｃ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｃ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｃ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｃ１）、（ｃ２）及び（ｃ４）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｃ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｃ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｃ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｃ５）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｃ１）、（ｃ２）、（ｃ３）及び（ｃ５）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の画素の色の配列は図７に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、この配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

図７Ａは図７のＢ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｂ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口７０４は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅の二倍であり、一個の開口で隣接する四個の画素中のＢ副画素を同時蒸着することができる。図７Ｂは図７のＲ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｒ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅と同様であり、一個の開口で隣接する二個の画素中のＲ副画素を同時蒸着することができる。図７Ｃは図７のＧ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｇ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅と同様であり、一個の開口で隣接する二個の画素中のＧ副画素を同時蒸着することができる。上述したとおり、本実施例において、Ｒ副画素の位置とＧ副画素の位置を交換することができる。Ｒ副画素の位置とＧ副画素の位置を交換するとき、図７Ｃに示されたMaskでＲ副画素を蒸着し、図７Ｂに示されたMaskでＧ副画素を蒸着することができる。

ここで説明したいことは、図７Ａ、図７Ｂ及び図７Ｃに示されたMaskにおいて、横方向に隣接する開口７０４同士間に連結部７０５（図７Ｄに示すとおりである）を設けることにより、横方向に隣接する開口７０４同士が一体になってしまってMaskを形成することができないことを避けることができる。該連結部７０５により、蒸着して得た隣接する副画素の間に微小隙間が形成されるが、該隙間は、副画素の表示効果に影響を与えず、全体の解像度にも影響を与えない。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素の幅は、Ｒ副画素又はＧ副画素を蒸着するMaskの開口の対角線の長さと同様である。従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができるので、各画素のサイズを約５６．６μｍにし、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を４５０ＰＰＩにすることができる。

（実施例５）
図８は本発明の第五実施例を示す図である。本実施例において、表示装置は複数個の画素８００を含み、該画素は複数個の副画素で構成される。各副画素の形状は三角形である。好ましくは、図８に示されるとおり、各副画素はいずれも二等辺直角三角形である。本実施例において、各画素は二色の副画素で構成され、二色の副画素の斜辺は隣接に設置される。本実施例においても、開口の共用を実現するため、本実施例において隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。

図８に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図８において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

具体的に、図８に示すとおり、各画素は斜線によって左上側区域と右下側区域に仕切られるか或いは左下側区域と右上側区域に仕切られる。画素（１、１）８００の左上側区域はＢ副画素８０２であり、右下側区域はＧ副画素８０３である。画素（１、２）の左下側区域はＧ副画素８０３であり、右上側区域はＲ副画素８０１である。画素（２、２）の左上側区域はＧ副画素８０３であり、右下側区域はＢ副画素８０２である。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｄ１）画素ユニットがその中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と、一対角線上の隣接画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｄ１）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｄ２）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｄ３）画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｄ２）と（ｄ３）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｄ４）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｄ５）画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｄ４）と（ｄ５）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｄ１）画素ユニットがその中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と、一対角線上の隣接画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｄ２）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｄ４）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｄ６）画素ユニット中の画素は画素ユニットの中心点を中心に対称に配列される、すなわち画素ユニットがこの中心点を中心に１８０度回転してもこの構造が変わらないという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｄ１）、（ｄ２）、（ｄ４）及び（ｄ６）を具備する。

図８Ａは図８のＢ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｂ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口８０４は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅の二倍であり、一個の開口で隣接する四個の画素中のＢ副画素を同時蒸着することができる。図８Ｂは図８のＲ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｒ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅の二倍であり、一個の開口で隣接する四個の画素中のＲ副画素を同時蒸着することができる。図８Ｃは図８のＧ副画素に対応するMask開口を示す図である。該実施例において、Ｇ副画素の蒸着に用いられるMaskの開口は正方形に形成され、正方形開口の対角線の長さは一個の画素の幅の二倍であり、一個の開口で隣接する四個の画素中のＧ副画素を同時蒸着することができる。

図８Ｂに示されたMaskにおいて、縦方向に隣接する開口の間に連結部を設けることにより、縦方向に隣接する開口が一体になってしまってMaskを形成することができないことを避ける。図８Ｃに示されたMaskにおいて、横方向に隣接する開口の間に、及び縦方向に隣接する開口の間に連結部を設けることにより、横方向や縦方向に隣接する開口７が一体になってしまってMaskを形成することができないことを避ける。前記連結部により、蒸着して得た隣接する副画素の間に微小隙間が形成されるが、該隙間は副画素の表示効果に影響を与えず、全体の解像度にも影響を与えない。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素は、二個の副画素で構成され、表示をするとき隣接する画素の副画素を借用して表示をすることが必要となる。各Maskの最小開口が４０μｍである場合、本実施例の同効ＲＧＢ画素の平均幅は約４６μｍであり、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を５５０ＰＰＩにすることができる。

ここで説明したいことは、図８に示された実施例において、各画素が二色の副画素のみを含んでいるので、表示をするとき正確な色を表示するため、（各画素は）隣接する画素の副画素を借用する必要がある。例えば、画素（１、１）は、Ｂ副画素とＧ副画素を含んでいるので、画素（１、２）のＲ副画素を借用するか或いは画素（２、１）のＲ副画素を借用することができる。画素（１、２）は、Ｒ副画素とＧ副画素を含んでいるので、画素（１、１）のＢ副画素を借用するか或いは画素（２、２）のＢ副画素を借用することができる。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図８に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

（実施例６）
図９は本発明の第六実施例を示す図である。本実施例において、表示装置は複数個の画素９００を含み、該画素は複数個の副画素で構成される。各副画素の形状は三角形であり、各画素は三色の副画素で構成される。この実施例においても、Maskの開口を共用するため、隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。

図９の実施例において、画素は、略正方形に形成され、画素中の一辺の両端点と相対辺の中間点との間の連結線によって左側区域、中間区域、右側区域に仕切られる。この三区域において、中間区域は二等辺三角形であり、左側区域と右側区域は直角三角形である。中間区域はＢ副画素であり、左側区域と右側区域はそれぞれＧ副画素とＲ副画素である。Ｂ副画素の面積はＧ副画素或いはＲ副画素の面積の二倍であり、Ｇ副画素の位置とＲ副画素の位置を互いに交換することができる。

図９に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図９において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

具体的に、図９に示すとおり、画素（１、１）の左側区域はＧ副画素であり、中間区域はＢ副画素であり、右側区域はＲ副画素である。画素（１、２）の左側区域はＲ副画素であり、中間区域はＢ副画素であり、右側区域はＧ副画素である。画素（２、１）の左側区域はＲ副画素であり、中間区域はＢ副画素であり、右側区域はＧ副画素であり、中間区域に位置する二等辺三角形のＢ副画素の頂点向き方向は画素（１、１）の方向と反対である。画素（２、２）の左側区域はＧ副画素であり、中間区域はＢ副画素であり、右側区域はＲ副画素であり、中間区域に位置する二等辺三角形のＢ副画素の頂点向き方向は画素（１、２）の方向と反対である。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｅ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｅ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｅ５）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とこの対角線上で隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｅ１）、（ｅ４）及び（ｅ５）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｅ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｅ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｅ１）と（ｅ３）を具備する。各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｅ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｅ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｅ４）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転し後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｅ１）、（ｅ２）及び（ｅ４）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｅ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｅ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｅ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｅ５）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線上で隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列されるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｅ１）、（ｅ２）、（ｅ３）及び（ｅ５）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図９に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

図９に示す実施例において、隣接する二個の画素のＢ副画素を集中するように配列すると菱形が形成され、隣接する四個の画素のＲ副画素又はＧ副画素を集中するように配列しても菱形が形成される。Ｂ副画素の面積がＲ副画素又はＧ副画素の面積の二倍であるので、各色副画素区域の形状と面積は同様であり、かつ各色副画素を蒸着するMaskの開口形状と面積も互いに同様である。

図９Ａに示すとおり、Ｗは蒸着マスク（Mask）の開口のサイズであり、Ｌは蒸着マスクの開口同士間の連結部（Bridge）のサイズである。

図９ＢはＧ副画素を蒸着するMaskの開口形状を示す図であり、Ｇ副画素の開口はMask上に間隔を空いて配列されている。

図９ＣはＲ副画素を蒸着するMaskの開口形状を示す図である。Ｒ副画素とＧ副画素が間隔を空いて重複に配列されているので、この二副画素に対応する二Maskの開口形状及び開口面積は同様である。したがって、Ｒ副画素を蒸着するとき、Ｇ副画素蒸着用Maskを距離Ｐだけ平行移動させて用いる（ことでＲ副画素を蒸着する）ことができる。Ｐは、隣接する二個のMask開口の間の距離であり、一個の画素の幅と同様である。

Ｂ副画素を蒸着するとき、２つのステップで行うことができる。図９Ｄに示すとおり、第一ステップにおいて、Ｂ副画素を間隔を空いて蒸着し、第二ステップにおいて、Maskを距離Ｐだけ平行移動させた後、残りのＢ副画素を蒸着する（図９Ｅに示すとおりである）。この実施例は、隣接するＢ副画素の蒸着工程を行うとき、（隣接するＢ副画素の間に）隙間を残す必要がない。各色の副画素に対応するMaskの開口形状と開口面積が同様であるので、各色の副画素を蒸着するとき一枚のMaskを共用することができる。混色を防止するため、一枚のMaskを共用しなくてもよい。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。Maskの最小開口が４０μｍであるとすれば、図９に示される配列方法を採用する場合、各画素のサイズは少なくとも４０μｍであり、１インチ（２５４００μｍ）を画素あたりのサイズで割ると、解像度２５４００μｍ／４０μｍ＝６３５ＰＰＩを得ることができる。

本実施例は、解像度を向上させることができ、かつ一枚のMaskですべての副画素を蒸着することができるので、Ｒ、Ｇ、Ｂ三種の副画素を蒸着するため三枚のMaskを用意しなければならない従来の技術よりコストを有効に低減することができる。また、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色のMaskの開口形状、サイズが同一するので、蒸着をするとき、Maskの位置を移動させることのみで蒸着を簡単に行うことができる。すなわち、三色の蒸着に対する管理制御が同一するので、製造工程の難易度を低減することができる。

（実施例７）
図１０は本発明の第七実施例を示す図である。本実施例において、表示装置は複数個の画素１０００を含み、各画素は三個の副画素で構成される。三個の副画素において、一個は矩形であり、他の二個は直角梯形である。本実施例において、開口を共用するため、隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。

図１０に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図１０において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

具体的に、図１０に示すとおり、各画素の矩形区域は該各画素の１つの角部に位置し、該矩形区域の１つの角部と画像の同方向における角部との間の連結線は、残りの区域を二個の直角梯形に仕切る。画素（１、１）において、直角梯形はそれぞれ上側区域と左側区域に位置し、画素（１、２）において、直角梯形はそれぞれ上側区域と右側区域に位置し、画素（２、１）において、直角梯形はそれぞれ左側区域と下側区域に位置し、画素（２、２）において、直角梯形はそれぞれ右側区域と下側区域に位置する。

図１０に示すとおり、画素（１、１）１０００の上側区域と左側区域はそれぞれ、Ｇ副画素１００３とＲ副画素１００１であり、Ｂ副画素１００２は該画素の矩形区域に位置する。画素（１、２）の上側区域と右側区域はそれぞれ、Ｇ副画素とＲ副画素であり、Ｂ副画素は該画素の矩形区域に位置する。画素（２、１）の左側区域と下側区域はそれぞれ、Ｒ副画素とＧ副画素であり、Ｂ副画素は該画素の矩形区域に位置する。本実施例において、各画素のＲ副画素１００１の位置とＧ副画素１００３の位置を同時交換することができる。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素又は横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることができる。この場合、各画素ユニットは、（ｆ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｆ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｆ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素又は横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｆ１）、（ｆ２）及び（ｆ９）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｆ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｆ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｆ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｆ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｆ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｆ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ５）、（ｆ７）及び（ｆ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｆ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｆ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｆ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｆ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｆ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｆ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ４）、（ｆ６）、（ｆ８）及び（ｆ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｆ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｆ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｆ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｆ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｆ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｆ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｆ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｆ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｆ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）、（ｆ６）、（ｆ７）、（ｆ８）及び（ｆ９）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の画素の色の配列は図１０に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色の位置を変換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

図１０Ａは図１０のＧ副画素に対応する本発明のMask開口を示す図である。該実施例において、Ｇ副画素蒸着用Maskの開口１００４は六角形であり、一個の開口で隣接する四個の画素のＧ副画素を同時蒸着することができる。一部のＧ副画素を蒸着した後、Maskを二画素の距離だけ平行移動させた後、他のＧ副画素を蒸着することができる。なお、Maskを９０度回転させれば、Ｒ副画素を蒸着することができる。

また、図１０Ｂに示されるMaskを採用することもできる。該Maskの開口１００５は正方形である。図面の点線が示すとおり、該開口が六角形の両側の三角形部分をカットした形状であるので、Ｒ副画素、Ｇ副画素及びＢ副画素を同一Maskで蒸着することができる。該Maskで蒸着をして得たＲ副画素とＧ副画素は矩形であり、図１０Ｃに示すとおり、画素の間には発光不可能な矩形区域１００６が形成される。なお、該矩形区域１００６をＷ副画素にして蒸着をすることができる。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素の幅とＢ副画素蒸着用Maskの幅とが同様であり、従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができるので、各画素のサイズを約４０μｍにし、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を６３５ＰＰＩにすることができる。

図１１と図１２は本発明の第八実施例と第九実施例を示す図である。この二つの実施例において、表示装置は複数個の画素１１００を含み、各画素は四個の副画素で構成され、各副画素は矩形である。この二つの実施例は、図３の実施例よりＷ副画素が更に増加しているが、この二つの実施例中のＷ副画素の位置は相違している。この実施例においても、Maskの開口を共用するため、隣接する画素の同色の副画素を集中するように配列する。

（実施例８）
図１１に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図１１において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

図１１に示すとおり、画素（１、１）１１００において、Ｗ副画素１１０４は該画素の左側に位置し、Ｂ副画素１１０２は該画素の右側に位置し、Ｒ副画素１１０１とＧ副画素１１０３はＷ副画素１１０４とＢ副画素１１０２との間に位置し、かつＲ副画素１１０１は上に位置し、Ｇ副画素１１０３は下に位置する。画素（１、２）において、Ｂ副画素は該画素の左側に位置し、Ｗ副画素は該画素の右側に位置し、Ｒ副画素とＧ副画素はＷ副画素とＢ副画素との間に位置し、かつＲ副画素は上に位置し、Ｇ副画素は下に位置する。画素（２、１）において、Ｗ副画素は該画素の左側に位置し、Ｂ副画素は該画素の右側に位置し、Ｒ副画素とＧ副画素はＷ副画素とＢ副画素との間に位置し、かつＧ副画素は上に位置し、Ｒ副画素は下に位置する。

各画素中のＲ副画素１１０１の位置とＧ副画素１１０３の位置を同時交換することができ、Ｗ副画素１１０４の位置とＢ副画素１１０２の位置を同時交換することもできる。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素或いは横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｇ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｇ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｇ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素或いは横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｇ１）、（ｇ２）及び（ｇ９）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｇ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｇ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｇ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｇ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｇ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｇ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｇ１）、（ｇ２）、（ｇ３）、（ｇ５）、（ｇ７）及び（ｇ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｇ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｇ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｇ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｇ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｇ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｇ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｇ１）、（ｇ２）、（ｇ４）、（ｇ６）、（ｇ８）及び（ｇ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｇ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｇ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｇ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｇ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｇ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｇ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｇ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｇ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｇ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｇ１）、（ｇ２）、（ｇ３）、（ｇ４）、（ｇ５）、（ｇ６）、（ｇ７）、（ｇ８）及び（ｇ９）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図１１に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ四色の位置を交換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素の幅はMask開口の幅の二倍であり、従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができるので、各画素のサイズを約８０μｍにし、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を３１７ＰＰＩにすることができる。

（実施例９）
図１２に示すとおり、該図に有機発光表示装置の一部分しか示されていないが、実際の製品（表示装置）の画素数量はこれに限定されるものではない。本発明でいう第一行、第二行、第一列、第二列などは、本発明を説明するため図面中の参照用事項を示すものであり、実際の製品の行と列を示すものではない。図１２において、第一行第一列の画素を画素（１、１）と表記し、第一行第二列の画素を画素（１、２）と表記し、第二行第一列の画素を画素（２、１）と表記し、第二行第二列の画素を画素（２、２）と表記し、他の画素もこのとおり表記する。

図１２に示すとおり、画素（１、１）１２００において、Ｗ副画素１２０４は該画素の上側に位置し、Ｒ副画素１２０１、Ｇ副画素１２０３及びＢ副画素１２０２は図面のとおりに配列されかつＷ副画素１２０４の下に位置する。うち、Ｂ副画素１２０２は右側に位置し、Ｒ副画素１２０１とＧ副画素１２０３はいずれも左側に位置し、かつＲ副画素１２０１は上に位置し、Ｇ副画素１２０３は下に位置する。画素（１、２）において、Ｗ副画素は該画素の上側に位置し、Ｒ副画素、Ｇ副画素及びＢ副画素は図面のとおりに配列されかつＷ副画素の下に位置する。うち、Ｂ副画素は左側に位置し、Ｒ副画素とＧ副画素はいずれも右側に位置し、かつＲ副画素は上に位置し、Ｇ副画素は下に位置する。画素（２、１）において、Ｗ副画素は該画素の下側に位置し、Ｒ副画素、Ｇ副画素及びＢ副画素は図面のとおりに配列されかつＷ副画素の上に位置する。Ｂ副画素は右側に位置し、Ｒ副画素とＧ副画素はいずれも左側に位置し、かつＧ副画素は上に位置し、Ｒ副画素は下に位置する。

本実施例において、Ｒ副画素１２０１の位置とＧ副画素１２０３の位置を同時交換することができ、Ｗ副画素１２０４の位置とＢ副画素１２０２の位置を同時交換することもできる。

本実施例において、各画素ユニットは、縦方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素或いは横方向に隣接する奇数個（例えば一個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｈ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｈ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｈ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素或いは横方向に隣接する三個、五個などの奇数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｈ１）、（ｈ２）及び（ｈ９）を具備する。

各画素ユニットは、横方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｈ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｈ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｈ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｈ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｈ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｈ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。横方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｈ１）、（ｈ２）、（ｈ３）、（ｈ５）、（ｈ７）及び（ｈ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する偶数個（例えば二個）の画素で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｈ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｈ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｈ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｈ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｈ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｈ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四個、六個などの偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｈ１）、（ｈ２）、（ｈ４）、（ｈ６）、（ｈ８）及び（ｈ９）を具備する。

各画素ユニットは、縦方向に隣接する行であって横方向に隣接する列における偶数個の画素（例えば、縦方向に隣接する二行であって横方向に隣接する二列における四個の画素）で構成されることもできる。この場合、各画素ユニットは、（ｈ１）横方向に隣接する画素ユニットは水平鏡像的に配列され、（ｈ２）縦方向に隣接する画素ユニットは垂直鏡像的に配列され、（ｈ３）横方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｈ４）縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造は同様であり、（ｈ５）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と縦方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｈ６）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と横方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であり、（ｈ７）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは垂直鏡像的に配列され、（ｈ８）いずれか一つの画素ユニットの配列構造とその対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは水平鏡像的に配列され、（ｈ９）いずれか一つの画素ユニットが画素ユニットの中心点を中心に１８０度回転した後の配列構造と対角線方向に隣接する画素ユニットの配列構造とは同様であるという特徴を具備する。縦方向に隣接する四行、六行などであって横方向に隣接する四列、六列などに位置する偶数個の画素が一個の画素ユニットを構成するときも、上述した特徴（ｈ１）、（ｈ２）、（ｈ３）、（ｈ４）、（ｈ５）、（ｈ６）、（ｈ７）、（ｈ８）及び（ｈ９）を具備する。

本実施例において、前記各画素中の副画素の色の配列は図１２に限定されるものではなく、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ四色の位置を交換することができる。すなわち、配列方法が図面に記載された特徴を表すものであればいずれでもよい。

本実施例において、隣接する行及び／又は隣接する列の同色の副画素を集中するように配列することにより、蒸着をするとき一個のマスク開口を共用することができる。すなわち、一個のマスク開口で複数個の画素を蒸着することができるので、Mask開口のサイズが一定する場合、より多い画素を蒸着し、画素の密度を増加させ、有機発光表示装置の解像度を向上させることができる。本実施例において、各画素の幅はMask開口の幅の二倍であり、従来の技術でMaskの最小開口を４０μｍまですることができるので、各画素のサイズを約８０μｍにし、本実施例の画素構造を採用する有機発光表示装置の解像度を３１７ＰＰＩにすることができる。

以上、本発明の好適な実施例を詳述してきたが、本発明の構成は上記の実施例に限定されるものではない。本技術分野の当業者は本発明の要旨を逸脱しない範囲内で設計の変換等を行うことができる。すなわち、本発明の保護範囲は特許請求の範囲が定めたものを基準にする。

Claims (6)

1. 複数個の副画素を含む画素を複数個含む画素構造において、前記画素が１つの矩形区域と２つの直角梯形区域とに区切られ、これら３つの区域それぞれが１つの副画素であって、前記複数個の画素のそれぞれが、前記直角梯形区域に位置する１つのＲ副画素、前記直角梯形区域に位置する１つのＧ副画素、及び、前記矩形区域に位置する１つのＢ副画素で構成され、各画素の矩形区域が当該画素の角部に位置し、当該角部を一端とする当該画素の対角線が、当該画素の残りの区域を二個の直角梯形に仕切り、前記複数個の画素のうちの少なくとも一個の画素が一個の画素ユニットを構成し、縦方向に隣接する前記画素ユニットが鏡像的に配列され、かつ／又は、横方向に隣接する前記画素ユニットが鏡像的に配列されることを特徴とする画素構造。
2. 縦方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造が互いに同様であり、かつ／又は、横方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造が互いに同様であることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
3. いずれか一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転しても配列構造が変化しないか、或いは、いずれか一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転した場合の配列構造と当該画素ユニットに対して縦方向及び／又は横方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造とが互いに同様であることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
4. いずれか一つの前記画素ユニットの配列構造と当該画素ユニットに対してその対角線方向に隣接する前記画素ユニットの配列構造とが互いに同様であるか、或いは、いずれか一つの前記画素ユニットと当該画素ユニットに対してその対角線方向に隣接する前記画素ユニットとが鏡像的に配列されることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
5. 一個の画素が一個の画素ユニットを構成しており、
   複数の画素ユニットが縦方向及び横方向のいずれについても鏡像的に配列され、
   一つの前記画素ユニットが当該画素ユニットの中心を回転中心として１８０度回転した場合の配列構造と、当該画素ユニットと対角線方向に隣接する別の画素ユニットの配列構造とが同じであることを特徴とする請求項１に記載の画素構造。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の画素構造を含む有機発光表示装置。

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