JP6415956B2 - 半導体記憶装置及びその制御方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 109
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 268
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 7
- 101000969630 Homo sapiens Monocarboxylate transporter 10 Proteins 0.000 description 6
- 102100021425 Monocarboxylate transporter 10 Human genes 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 101100152436 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) TAT2 gene Proteins 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/883—Oxides or nitrides
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0007—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising metal oxide memory material, e.g. perovskites
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0023—Address circuits or decoders
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0023—Address circuits or decoders
- G11C13/0026—Bit-line or column circuits
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/30—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having three or more electrodes, e.g. transistors
- H10B63/34—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having three or more electrodes, e.g. transistors of the vertical channel field-effect transistor type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/80—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays
- H10B63/84—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays arranged in a direction perpendicular to the substrate, e.g. 3D cell arrays
- H10B63/845—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays arranged in a direction perpendicular to the substrate, e.g. 3D cell arrays the switching components being connected to a common vertical conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/20—Multistable switching devices, e.g. memristors
- H10N70/24—Multistable switching devices, e.g. memristors based on migration or redistribution of ionic species, e.g. anions, vacancies
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/823—Device geometry adapted for essentially horizontal current flow, e.g. bridge type devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/883—Oxides or nitrides
- H10N70/8833—Binary metal oxides, e.g. TaOx
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/883—Oxides or nitrides
- H10N70/8836—Complex metal oxides, e.g. perovskites, spinels
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/10—Resistive cells; Technology aspects
- G11C2213/15—Current-voltage curve
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- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/71—Three dimensional array
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Description
[構成]
先ず、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の全体構成について説明する。図1は、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置のブロック図の一例である。図1に示す通り、半導体記憶装置は、メモリセルアレイ11、行デコーダ12、列デコーダ13、上位ブロック14、電源15及び制御回路16を有する。
式(1)
式(2)
式(3)
式(4)
次に、図17〜図23を参照して、発明者らが行った計算の結果について説明する。まず、図17を参照して、第1の計算の結果について説明する。図17は、第1の計算の結果を示すエネルギーバンドの図である。
が成立する。ここでhbarはディラック定数、mは可変抵抗層44の電子有効質量を意味する。従って、第4〜第6の計算モデルにおいては、第1の計算モデルと比較して可変抵抗層44内の量子井戸が広く形成され、量子井戸内に形成される最低エネルギー準位が低くなり、また、量子井戸内に形成されるエネルギー準位の数も多くなることが期待される。
次に、図24を参照して、第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態に係る半導体記憶装置は、基本的には、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置と同様に構成されている。しかしながら、第2の実施の形態においては、セット動作の方法が、第1の実施の形態と異なる。尚、以下の説明において、第1の実施の形態と同様の部分については同様の符号を付し、説明を省略する。
図3を参照して説明した通り、第1及び第2の実施の形態においては、可変抵抗層44が、X方向に配置された複数のビット線BLと、Z方向に配置された複数のワード線WLの間に形成された平面に沿って、平面状に広がっている。しかしながら、図25に示す通り、可変抵抗層44´は、ビット線BLのX方向の側面に沿って、X方向に分断されていても良い。この場合、例えば、第1のバリア絶縁層45´及び第2のバリア絶縁層46´も、ビット線BLの側面に沿って、X方向に分断されていても良い。また、第1のバリア絶縁層45´は、ワード線WLのZ方向の側面に沿って、Z方向に分断されていても良い。
本発明のいくつかの実施の形態を説明したが、これらの実施の形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施の形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことが出来る。これら実施の形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
Claims (14)
- 基板に対して交わる第1方向に所定ピッチで配列された複数の第1の配線と、
前記第1方向と交わる第2方向に所定ピッチで配列され前記第1方向に延びるように形成された複数の第2の配線と、
前記第1の配線及び前記第2の配線の間であって、前記第1の配線と前記第2の配線が交わる位置に配置された可変抵抗層と、
前記第1の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第1のバリア絶縁層と、
前記第2の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第2のバリア絶縁層と
を備え、
前記第1の配線と前記第2の配線の間に電圧を印加すると、電圧の増大に伴って電流が減少する微分負性抵抗が発現する
半導体記憶装置。 - 基板に対して交わる第1方向に所定ピッチで配列された複数の第1の配線と、
前記第1方向と交わる第2方向に所定ピッチで配列され前記第1方向に延びるように形成された複数の第2の配線と、
前記第1の配線及び前記第2の配線の間であって、前記第1の配線と前記第2の配線が交わる位置に配置された可変抵抗層と、
前記第1の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第1のバリア絶縁層と、
前記第2の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第2のバリア絶縁層と
を備え、
前記第1のバリア絶縁層の膜厚は1nm以下であり、
前記第2のバリア絶縁層の膜厚は1nm以下である
半導体記憶装置。 - 前記可変抵抗層の膜厚は、一原子層以上3nm以下である請求項1又は2記載の半導体記憶装置。
- 前記可変抵抗層は、遷移金属酸化物、酸化ガリウム及びInGaZnOのうちの少なくとも一つを含む
請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記可変抵抗層は、HfOxを含み、
前記第1のバリア絶縁層及び前記第2のバリア絶縁層は、SiO2、SiON、Al2O3またはSi3N4のうちの少なくとも1つを含む
請求項4記載の半導体記憶装置。 - 前記第1のバリア絶縁層及び前記第2のバリア絶縁層の電子親和力は、前記可変抵抗層の電子親和力よりも小さい
請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記可変抵抗層の電子親和力と前記第1のバリア絶縁層の電子親和力との差をΔχ1と、前記可変抵抗層の電子親和力と前記第2のバリア絶縁層の電子親和力との差をΔχ2と、前記可変抵抗層の膜厚をTと、前記可変抵抗層の伝導帯の電子の有効質量をmと、プランク定数をhとすると、下記式(1)及び式(2)が成立する
請求項6記載の半導体記憶装置
式(1)
式(2)
- 前記第1のバリア絶縁層及び前記第2のバリア絶縁層の電子親和力とエネルギーギャップの和は、前記可変抵抗層の電子親和力とエネルギーギャップの和よりも大きい
請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記可変抵抗層のエネルギーギャップをEgと、前記可変抵抗層の電子親和力をχとし、前記第1のバリア絶縁層のエネルギーギャップをEg1と、前記第1のバリア絶縁層の電子親和力をχ1とし、前記第2のバリア絶縁層のエネルギーギャップをEg2と、前記第2のバリア絶縁層の電子親和力をχ2とし、前記可変抵抗層の膜厚をTと、前記可変抵抗層の価電子帯のホールの有効質量をmと、プランク定数をhとすると、下記式(3)及び式(4)が成立する
請求項8記載の半導体記憶装置
式(3)
式(4)
- 前記第1の配線と前記第2の配線の間に電圧を印加すると、電圧の増大に伴って電流が減少する微分負性抵抗が発現する
請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の配線及び前記第2の配線に接続された制御回路を更に備え、
前記可変抵抗層の抵抗値は、低抵抗状態と高抵抗状態との間で遷移可能であり、
前記可変抵抗層を高抵抗状態から低抵抗状態に遷移させるセット動作において、前記制御回路は、前記第1の配線と前記第2の配線の間に電圧を印加し、
前記第1の配線と前記第2の配線の間に印加される電圧の最大値は、前記微分負性抵抗が発現する範囲内に設定される
請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記セット動作において、前記制御回路は、前記第1の配線と前記第2の配線の間に、第1の電圧と、前記第1の電圧よりも小さい第2の電圧とを交互に印加し、
前記第2の電圧の絶対値は、前記微分負性抵抗が発現する範囲外であり、前記微分負性抵抗が発現する最小電圧値の絶対値よりも小さい範囲内に設定される
請求項11記載の半導体記憶装置。 - 基板に対して交わる第1方向に所定ピッチで配列された複数の第1の配線と、
前記第1方向と交わる第2方向に所定ピッチで配列され前記第1方向に延びるように形成された複数の第2の配線と、
前記第1の配線及び前記第2の配線の間であって、前記第1配線と前記第2配線が交わる位置に配置された可変抵抗層と、
前記第1の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第1のバリア絶縁層と、
前記第2の配線と前記可変抵抗層の間に配置された第2のバリア絶縁層と
を備え、
前記可変抵抗層の抵抗値は、低抵抗状態と高抵抗状態との間で遷移可能であり、
前記第1の配線と前記第2の配線の間に電圧を印加すると、電圧の増大に伴って電流が減少する微分負性抵抗が発現する
半導体記憶装置の制御方法であって、
前記可変抵抗層を高抵抗状態から低抵抗状態に遷移させるセット動作において、前記第1の配線と前記第2の配線の間に電圧を印加し、
前記第1の配線と前記第2の配線の間に印加される電圧の最大値は、前記微分負性抵抗が発現する範囲内に設定される
半導体記憶装置の制御方法。 - 前記セット動作において、前記第1の配線と前記第2の配線の間に、第1の電圧と、前記第1の電圧よりも小さい第2の電圧とを交互に印加し、
前記第2の電圧の絶対値は、前記微分負性抵抗が発現する範囲外であり、前記微分負性抵抗が発現する最小電圧値の絶対値よりも小さい範囲内に設定される
請求項13記載の半導体記憶装置の制御方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014249236A JP6415956B2 (ja) | 2014-12-09 | 2014-12-09 | 半導体記憶装置及びその制御方法 |
US14/941,946 US9691978B2 (en) | 2014-12-09 | 2015-11-16 | Semiconductor memory device and method of controlling the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014249236A JP6415956B2 (ja) | 2014-12-09 | 2014-12-09 | 半導体記憶装置及びその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016111269A JP2016111269A (ja) | 2016-06-20 |
JP6415956B2 true JP6415956B2 (ja) | 2018-10-31 |
Family
ID=56095106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014249236A Active JP6415956B2 (ja) | 2014-12-09 | 2014-12-09 | 半導体記憶装置及びその制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9691978B2 (ja) |
JP (1) | JP6415956B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20180137927A1 (en) * | 2016-04-16 | 2018-05-17 | Chengdu Haicun Ip Technology Llc | Three-Dimensional Vertical One-Time-Programmable Memory Comprising No Separate Diode Layer |
KR102618510B1 (ko) | 2018-12-20 | 2023-12-27 | 삼성전자주식회사 | 수직형 메모리 장치 |
US10991426B2 (en) * | 2019-01-25 | 2021-04-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Memory device current limiter |
DE102019132067A1 (de) | 2019-01-25 | 2020-07-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Strombegrenzer für speichervorrichtung |
KR20200134818A (ko) | 2019-05-23 | 2020-12-02 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
JP2021047937A (ja) * | 2019-09-17 | 2021-03-25 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR20210083934A (ko) * | 2019-12-27 | 2021-07-07 | 삼성전자주식회사 | 가변 저항 메모리 소자 |
KR102506024B1 (ko) * | 2020-04-29 | 2023-03-06 | 재단법인대구경북과학기술원 | 전하 트랩에 의한 2단자 저항변화 메모리 및 이의 제조방법, 이를 포함하는 크로스포인트 어레이 구조의 메모리 시스템 |
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Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3455456B2 (ja) | 1998-01-09 | 2003-10-14 | Kddi株式会社 | 半導体記憶装置 |
DE10149737A1 (de) * | 2001-10-09 | 2003-04-24 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterspeicher mit sich kreuzenden Wort- und Bitleitungen, an denen magnetoresistive Speicherzellen angeordnet sind |
JP4169553B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-10-22 | 富士通株式会社 | 共鳴トンネル素子およびこれを用いた半導体集積回路 |
JP2006245310A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Toshiba Corp | 磁気記憶装置 |
JP4871150B2 (ja) | 2007-01-17 | 2012-02-08 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 環状構造をもつ縦型共鳴トンネル素子の製造方法及び縦型共鳴トンネル素子並びに磁気検出装置 |
JP5091491B2 (ja) | 2007-01-23 | 2012-12-05 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2009004725A (ja) * | 2007-09-25 | 2009-01-08 | Panasonic Corp | 抵抗変化型不揮発性記憶装置 |
US8368175B2 (en) * | 2008-03-28 | 2013-02-05 | Nec Corporation | Capacitor, semiconductor device having the same, and method of producing them |
JP5531296B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2014-06-25 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP5044586B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2012-10-10 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP2011003241A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP5287544B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2013-09-11 | ソニー株式会社 | 不揮発性メモリの記録方法及び不揮発性メモリ |
WO2011092821A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | 株式会社 東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
WO2011132423A1 (ja) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶装置及びその製造方法 |
US8901527B2 (en) * | 2010-07-02 | 2014-12-02 | Nanya Technology Corp. | Resistive random access memory structure with tri-layer resistive stack |
KR101145332B1 (ko) * | 2010-09-17 | 2012-05-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 스위칭 장치 및 이를 구비한 메모리 장치 |
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JP5442876B2 (ja) * | 2010-12-03 | 2014-03-12 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶素子ならびに不揮発性記憶装置及びそれらの製造方法 |
US8331142B2 (en) | 2010-12-16 | 2012-12-11 | Technische Universitat Berlin | Memory |
JP5295465B2 (ja) * | 2011-02-23 | 2013-09-18 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶素子及びその製造方法 |
US8891277B2 (en) | 2011-12-07 | 2014-11-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory device |
JP2013135065A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Toshiba Corp | 抵抗変化型メモリ素子 |
US9171584B2 (en) * | 2012-05-15 | 2015-10-27 | Sandisk 3D Llc | Three dimensional non-volatile storage with interleaved vertical select devices above and below vertical bit lines |
JP2014027185A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Toshiba Corp | 不揮発性記憶装置 |
JP2014049749A (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US8916846B2 (en) | 2012-09-05 | 2014-12-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile memory device |
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US8969843B2 (en) * | 2013-02-21 | 2015-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory device |
KR101457812B1 (ko) * | 2013-08-19 | 2014-11-05 | 포항공과대학교 산학협력단 | 양방향 스위칭 특성을 갖는 2-단자 스위칭 소자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 저항성 메모리 소자 크로스-포인트 어레이 |
US9246091B1 (en) * | 2014-07-23 | 2016-01-26 | Intermolecular, Inc. | ReRAM cells with diffusion-resistant metal silicon oxide layers |
-
2014
- 2014-12-09 JP JP2014249236A patent/JP6415956B2/ja active Active
-
2015
- 2015-11-16 US US14/941,946 patent/US9691978B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160163981A1 (en) | 2016-06-09 |
JP2016111269A (ja) | 2016-06-20 |
US9691978B2 (en) | 2017-06-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170531 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170731 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6415956 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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