JP6411010B2 - エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物の製造方法、熱伝導材料前駆体、bステージシート、プリプレグ、熱伝導材料、積層板、金属基板及びプリント配線板 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物の製造方法、熱伝導材料前駆体、bステージシート、プリプレグ、熱伝導材料、積層板、金属基板及びプリント配線板 Download PDFInfo
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Description
そこで本発明の課題は、硬化物としたときに熱伝導率に優れるエポキシ樹脂組成物、熱伝導材料前駆体、Bステージシート、プリプレグ、熱伝導材料、積層板、金属基板、及びプリント配線板を提供することにある。
<1> 表面の酸素原子濃度が1.5at%以上の窒化ホウ素粒子と、下記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマーと、硬化剤と、を含むエポキシ樹脂組成物。
前記被着材上に設けられた、前記<1>〜<6>のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、前記<9>又は<10>に記載のBステージシート、及び前記<11>に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有する積層板。
金属板と、
前記金属箔と前記金属板との間に配置される、前記<1>〜<6>のいずれか1項に記載の樹脂組成物から構成される樹脂層、前記<9>又は<10>に記載のBステージシート、及び前記<11>に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有する金属基板。
金属板と、
前記配線層と前記金属板との間に配置される、前記<1>〜<6>のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、前記<9>又は<10>に記載のBステージシート、及び前記<11>に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有するプリント配線板。
また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
更に本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、表面の酸素原子濃度が1.5at%以上の窒化ホウ素粒子と、下記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマー(以下、単に「液晶性エポキシモノマー」と称する場合がある)と、硬化剤と、を含有する。尚、本発明における表面とは極表面から深さ5nm以下の領域のこととする。特に、本発明において表面とは、X線光電子分光装置(XPS)の測定条件で検出される深さ限界以内の範囲とする。
本発明における窒化ホウ素粒子は、表面の酸素原子濃度が1.5at%以上である。
一般的に窒化ホウ素粒子の表面エネルギーは小さく、窒化ホウ素粒子はエポキシ樹脂に対する分散性に優れない傾向にある。そこで本発明者らは、窒化ホウ素粒子のエポキシ樹脂に対する分散性を向上させるために、窒化ホウ素粒子の表面エネルギーを高めることを検討した。その鋭意検討の過程で、窒化ホウ素粒子の表面の酸素原子濃度を1.5at%以上にすると、窒化ホウ素粒子の表面エネルギーを向上させることができ、窒化ホウ素粒子を含むエポキシ樹脂組成物中の液晶性エポキシモノマーの配向性、更にはエポキシ樹脂組成物の硬化物中の液晶性エポキシ樹脂の配向性が向上することを導き出した。これは、以下のように考えることができる。
エポキシ樹脂組成物中の窒化ホウ素粒子の体積平均粒子径は、エポキシ樹脂組成物中から窒化ホウ素粒子を抽出した後、レーザー回折散乱粒度分布測定装置を用いて測定される。具体的には、有機溶剤、硝酸、王水等を用いて、エポキシ樹脂組成物中から窒化ホウ素粒子を抽出し、超音波分散機等で充分に分散して分散液を調製する。この分散液についてレーザー回折散乱粒度分布測定装置によって、小径側から体積累積分布曲線を描いた場合に、累積50%となる粒子径(D50)を体積平均粒子径として求めることで、エポキシ樹脂組成物に含有される窒化ホウ素粒子の体積平均粒子径の測定が可能になる。
尚、紫外線照射強度は、後述する実施例に記載されている方法で規定される。
また、紫外線照射雰囲気には制限はないが、窒化ホウ素粒子の表面の酸素原子濃度の向上の観点から、酸素存在下又はオゾン存在下であることが好ましい。
尚、樹脂組成物中の固形分とは、樹脂組成物を構成する成分から揮発性の成分を除去した残分を意味する。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、下記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマーを含む。
・X線源:Cu
・X線出力:50kV、250mA
・発散スリット(DS):1.0度
・散乱スリット(SS):1.0度
・受光スリット(RS):0.3mm
・走査速度:1.0度/分
液晶性エポキシモノマーは、単一種で用いても、2種以上で用いてもよい。
Aw:窒化ホウ素粒子の質量組成比(質量%)
Bw:液晶性エポキシモノマーの質量組成比(質量%)
Cw:硬化剤の質量組成比(質量%)
Dw:その他の任意成分(溶媒を除く)の質量組成比(質量%)
Ad:窒化ホウ素粒子の比重
Bd:液晶性エポキシモノマーの比重
Cd:硬化剤の比重
Dd:その他の任意成分(溶媒を除く)の比重
本発明における硬化剤としては、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。なかでも、アミン系硬化剤が好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂又は硬化剤が固体の場合はこれらを溶解させるため、また、液体の場合は粘度を低減させるために、溶媒を含有してもよい。
前記溶媒としては、アセトン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソペンチルアルコール、エチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、キシレン、クレゾール、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソペンチル、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、ノルマルヘキサン、1−ブタノール、2−ブタノール、メタノール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン等の一般的に各種化学製品の製造技術で利用されている有機溶剤を使用することができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物では、窒化ホウ素粒子の表面の酸素原子濃度が1.5at%以上であるため液晶性エポキシモノマーの配向性が向上し、結果、エポキシ樹脂組成物の半硬化物及び硬化物は熱伝導率に優れる。したがって、本発明のエポキシ樹脂組成物は、各種の電気及び電子機器の発熱性電子部品(例えば、IC(Integrated Circuit)チップ又はプリント配線基板)の熱伝導材料に好適に用いることができる。前記熱伝導材料として、具体的には、熱伝導材料前駆体、Bステージシート、プリプレグ、熱伝導材料、積層板、金属基板、プリント配線板等が挙げられる。
本発明の熱伝導材料前駆体は、前記エポキシ樹脂組成物の半硬化物である。これにより取扱い性に優れ、優れた熱伝導性を有する熱伝導材料を構成することができる。
前記熱伝導材料前駆体としては、前記エポキシ樹脂組成物のシート状の半硬化物であるBステージシート、及び、繊維基材と前記繊維基材に含浸された前記エポキシ樹脂組成物の半硬化物とを有するプリプレグを挙げることができる。
本発明のBステージシートは、本発明のエポキシ樹脂組成物のシート状物の半硬化物である。本発明のBステージシートは、前記エポキシ樹脂組成物をシート状に成形し、これを半硬化することで得られる。前記Bステージシートが前記エポキシ樹脂組成物を含んで構成されることで、硬化後の熱伝導性に優れる。ここで半硬化とは、一般にBステージ状態と称される状態をいい、常温(25℃)における粘度が104Pa・s〜105Pa・sであるのに対して、100℃における粘度が102Pa・s〜103Pa・sに粘度が低下する状態を意味する。Bステージは、JIS K 6900:1994で定義される。尚、粘度は、ねじり型動的粘弾性測定装置などにより測定が可能である。
半硬化のための熱処理のときに加圧してもよく、その加圧条件は特に限定されない。通常0.5MPa〜15MPaの範囲であり、好ましくは1MPa〜10MPaの範囲である。また、加熱及び加圧処理には、真空プレスが好適に用いられる。
本発明のプリプレグは、繊維基材と、前記繊維基材に含浸された前記エポキシ樹脂組成物の半硬化物とを有する。前記プリプレグは、必要に応じて保護フィルム等のその他の層を有して構成される。エポキシ樹脂組成物の半硬化物が、本発明に係る窒化ホウ素粒子を含むことで熱伝導性に優れる。
また、プリプレグは2以上のプリプレグを積層して熱プレスすることにより作製することもできる。
本発明の熱伝導材料は、前記エポキシ樹脂組成物の硬化物である。前記熱伝導材料として具体的には、前記エポキシ樹脂組成物の硬化物を有して構成される、積層板、金属基板、プリント配線板等を挙げることができる。前記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマーの硬化物と前記窒化ホウ素粒子を含むことで優れた熱伝導性を有する。
本発明における積層板は、被着材と、前記被着材上に配置された硬化層と、を有する。前記硬化層は、前記エポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、前記Bステージシート及び前記プリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層である。前記エポキシ樹脂組成物から形成される硬化層を有することで、熱伝導性に優れた積層板となる。
前記積層板においては、硬化層として、前記樹脂層、前記Bステージシート、又は前記プリプレグのいずれか1つの樹脂含有層の硬化層を有する形態であってもよく、2層以上を積層して有する形態であってもよい。2層以上の硬化層を有する場合、前記樹脂層を2層以上有する形態、前記Bステージシートを2枚以上有する形態、及び前記プリプレグを2枚以上有する形態のいずれであってもよい。更には、前記樹脂層、前記Bステージシート、及び前記プリプレグのいずれか2つ以上を組み合わせて有してもよい。
積層板の厚さは、マイクロメーターにより、任意の5箇所を測定したときの平均値をいう。
前記金属基板は、金属箔と、金属板と、前記金属箔と前記金属板との間に配置される硬化層と、を有する。前記硬化層は、前記エポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、前記Bステージシート及び前記プリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層である。前記エポキシ樹脂組成物から形成される硬化層を有することで、熱伝導性に優れた積層板となる。
金属板の厚みは特に制限されない。加工性の観点から、金属板の厚みは0.5mm以上5mm以下であることが好ましい。
本発明のプリント配線板は、配線層と、前記金属板と、前記配線層と前記金属板との間に配置される硬化層と、を有する。前記硬化層は、前記エポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、前記Bステージシート及び前記プリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層である。前記エポキシ樹脂組成物から形成される硬化層を有することで、熱伝導性に優れたプリント配線板となる。
前記配線層は、既述の金属基板における金属箔を回路加工することにより製造することができる。前記金属箔の回路加工には、通常のフォトリソグラフィーによる方法が適用できる。
前記硬化物を600℃、30分間、大気下で加熱してエポキシ樹脂などの樹脂分を分解して窒化ホウ素粒子を取り出す。得られた窒化ホウ素粒子について上述の方法で表面の酸素原子濃度を測定することができる。
体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子(水島合金鉄(株)商品名:HP−40)に卓上型光表面処理装置(セン特殊光源(株)装置名:Photo Surface Processor PL21−200)を用いて、攪拌しながら200Wの低圧水銀灯により10分間紫外線照射した。
測定した回折角度を、下記ブラッグの式で1周期の長さに換算した。
実施例1において、紫外線照射時間を20分としたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例1において、紫外線照射時間を30分としたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例3において、紫外線照射処理の前処理として、150℃の恒温槽で10分間熱処理をしたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例4において、熱処理の温度を250℃としたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例5において、熱処理の時間を30分としたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例1において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例1と同様に紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例2において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例2と同様に紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例2と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例3において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例3と同様に紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例3と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例4において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例4と同様に熱処理と紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例4と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例5において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例5と同様に熱処理と紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例5と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例6において、体積平均粒子径40μmの窒化ホウ素粒子に、体積平均粒子径0.4μmのアルミナ粒子(住友化学社製、商品名:AA04)を加えた後、実施例6と同様に熱処理と紫外線照射を施し、硬化後の樹脂における窒化ホウ素含有量が60質量%、アルミナ粒子含有量が20質量%となるようにエポキシ樹脂組成物を調製したこと以外は同様の方法でエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実施例6と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例6において、液晶性エポキシ樹脂(1−(3−メチル−4−オキシラニルメトキシフェニル)−4−(オキシラニルメトキシフェニル)−1−シクロヘキセンをエポキシモノマー(三菱化学製:jER828、一般式(1)とは異なる)に代えたこと以外は同様に実施例6と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、実施例1と同様に1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
窒化ホウ素粒子を処理せずに、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例1において、紫外線照射時間を6秒としたこと以外は同様の方法で窒化ホウ素粒子の処理を行った。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
窒化ホウ素粒子に150℃の恒温槽で10分間熱処理をした。処理した窒化ホウ素粒子を用いて、実施例1と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
窒化ホウ素粒子とアルミナ粒子を加熱処理も紫外線照射処理も行わずに、実施例7と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例7において、窒化ホウ素粒子とアルミナ粒子の紫外線照射時間を6秒としたこと以外は同様の方法で粒子の処理を行った。実施例7と同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
実施例7において、紫外線照射の代わりに150℃の恒温槽で10分間熱処理をしたこと以外は同様にBステージシート及びエポキシ樹脂硬化物を作製し、1周期の長さ及び熱伝導率を求めた。
また、表面の酸素原子濃度が1.5at%未満である窒化ホウ素粒子を用いた比較例2〜4、更には比較例5〜7では、周期構造が確認されなかった。そして、実施例1〜12と比較例2〜7を比べると、実施例1〜12のいずれの実施例も比較例2〜7のいずれの比較例よりも熱伝導率が高い。よって、表面の酸素原子濃度が1.5at%未満の窒化ホウ素粒子が存在すると、液晶性エポキシ樹脂が周期構造を形成しなくなってしまうため、熱伝導率が低下することが分かる。
Claims (15)
- 表面の酸素原子濃度が1.5at%以上5at%以下の窒化ホウ素粒子と、下記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマーと、硬化剤と、を含み、前記窒化ホウ素粒子の含有率が、全固形分中20質量%〜95質量%であるエポキシ樹脂組成物。
〔一般式(1)中、Xは単結合又は下記化学式で表される2価の基からなる群(I)より選ばれる少なくとも1つから構成される連結基を示す。Yはそれぞれ独立に、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜8の脂肪族アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、又はアセチル基を示す。nは各々独立に0〜4の整数を示し、kは0〜7の整数を示し、mは0〜8の整数を示し、lは0〜12の整数を示す。〕
- アルミナ粒子を含有しない、又はアルミナ粒子を含有し、前記アルミナ粒子の含有率が70質量%以下である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 波長150nm〜400nmの紫外線を含む光を100mJ/cm2以上照射して、表面の酸素原子濃度が1.5at%以上5at%以下の窒化ホウ素粒子を準備する工程と、
前記窒化ホウ素粒子と、下記一般式(1)で表される液晶性エポキシモノマーと、硬化剤とを、前記窒化ホウ素粒子の含有率が、全固形分中20質量%〜95質量%となるように配合し混合する工程と、
を有するエポキシ樹脂組成物の製造方法。
〔一般式(1)中、Xは単結合又は下記化学式で表される2価の基からなる群(I)より選ばれる少なくとも1つから構成される連結基を示す。Yはそれぞれ独立に、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜8の脂肪族アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、又はアセチル基を示す。nは各々独立に0〜4の整数を示し、kは0〜7の整数を示し、mは0〜8の整数を示し、lは0〜12の整数を示す。〕
- 前記窒化ホウ素粒子を準備する工程では、前記窒化ホウ素粒子を60℃〜400℃で1分以上熱処理する請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法。
- 前記混合する工程では、波長150nm〜400nmの紫外線を含む光を100mJ/cm2以上照射したアルミナ粒子をさらに配合する請求項3又は請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法。
- 請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物の半硬化物である熱伝導材料前駆体。
- 前記半硬化物は、1周期の長さが2nm〜3nmの周期構造を有する請求項6に記載の熱伝導材料前駆体。
- 請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物のシート状の半硬化物であるBステージシート。
- 前記エポキシ樹脂組成物のシート状の半硬化物は、1周期の長さが2nm〜3nmの周期構造を有する請求項8に記載のBステージシート。
- 繊維基材と、前記繊維基材に含浸された請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物の半硬化物と、を有するプリプレグ。
- 請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物である熱伝導材料。
- 前記エポキシ樹脂組成物の硬化物は、1周期の長さが2nm〜3nmの周期構造を有する請求項11に記載の熱伝導材料。
- 被着材と、
前記被着材上に設けられた、請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、請求項8又は請求項9に記載のBステージシート、及び請求項10に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有する積層板。 - 金属箔と、
金属板と、
前記金属箔と前記金属板との間に配置される、請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、請求項8又は請求項9に記載のBステージシート、及び請求項10に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有する金属基板。 - 配線層と、
金属板と、
前記配線層と前記金属板との間に配置される、請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物から構成される樹脂層、請求項8又は請求項9に記載のBステージシート、及び請求項10に記載のプリプレグからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂含有層の硬化層と、
を有するプリント配線板。
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