JP6389730B2 - 処理装置及び製造システム - Google Patents

Description

本発明は、処理装置及び製造システムに関する。

例えばリチウムイオン電池に用いられるセパレータの材料として、耐熱性が高く安全性の高い多孔性のポリイミド膜を用いることが知られている（例えば、特許文献１等参照）。このような多孔性のポリイミド膜は、例えば微粒子を含むポリアミド酸又はポリイミドの未焼成膜を帯状に形成し、この未焼成膜を焼成して焼成膜を形成し、焼成膜から微粒子を除去することで形成される。焼成膜から微粒子を除去する場合、焼成膜をフッ酸溶液等に浸してエッチングする。また、焼成膜から微粒子を除去してポリイミド膜を形成した後、多孔部の連通性を確保するため、ポリイミド膜をアルカリ溶液等に浸してエッチングする場合がある。

このような液体を用いた処理は、例えば壁部等で仕切られたチャンバー内で行われる。この場合、基板をチャンバーに搬入し、チャンバー内で基板を液体に浸して処理を行った後、基板をチャンバーから搬出する。帯状の基板に対して処理を行う場合には、スムーズな搬送を行うため、例えばチャンバーの壁部に予め開口部を形成しておき、この開口部を介して基板を搬入又は搬出する構成が考えられる。

特開２０１１−１１１４７０号公報

しかしながら、上記のような開口部を有するチャンバー内で液体を用いた処理を行う場合、液体が開口部から外部に漏れ出す可能性がある。上記のようなポリイミド膜を液体で処理するに限られず、他の基板を液体で処理する場合においても同様の可能性が想定される。

以上のような事情に鑑み、本発明は、処理対象物を処理する際に用いられる液体が処理部の外部に漏れ出すのを抑制し、処理環境の清浄性を維持することが可能な処理装置及び製造システムを提供することを目的とする。

本発明の態様に係るに係る処理装置は、長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、処理部は、処理対象物の搬送方向に沿って複数配置される。
本発明の態様に係るに係る処理装置は、長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、開口部は、処理対象物を処理部に搬入する入口開口部と、処理対象物を処理部から搬出する出口開口部と、を有し、入口開口部及び出口開口部のそれぞれに、カバー部及び除去ローラが設けられる。
本発明の態様に係るに係る処理装置は、長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、除去ローラは、処理対象物の搬送方向に多段に設けられる。
本発明の態様に係るに係る処理装置は、長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、処理対象物は、多孔性のイミド系樹脂膜を含む。
本発明の第１態様に係るに係る処理装置は、帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラとを備える。

本発明の態様に係るに係る製造システムは、多孔性のイミド系樹脂膜を製造する製造システムであって、長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により処理対象物を処理する処理部と、壁部の内部空間側に設けられ、開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、開口部の内部空間側に配置され、処理対象物に当接して処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備える処理装置を含む。
本発明の第２態様に係るに係る製造システムは、多孔性のイミド系樹脂膜を製造する製造システムであって、上記第１態様に係る処理装置を含む。

本発明の態様によれば、処理対象物を処理する際に用いられる液体が処理部の外部に漏れ出すのを抑制し、処理環境の清浄性を維持することができる。

本発明の実施の形態に係る製造システムの一例を示す図である。 本実施形態に係る製造システムの一例を示す図である。 本実施形態に係る塗布ユニットに設けられるノズルの一例を示す図である。 本実施形態に係る巻き取り部の一例を示す斜視図である。 本実施形態に係る焼成ユニットの一例を示す斜視図である。 本実施形態に係る除去ユニットの一例を示す図である。 本実施形態に係る除去ユニットの一部の例を示す図である。 本実施形態に係る巻き取り部の一例を示す斜視図である。 本実施形態に係るイミド系樹脂膜の製造過程の一例を示す図である。 変形例に係る除去ユニットの一例を示す図である。 変形例に係る除去ユニットの一例を示す図である。 変形例に係る除去ユニットの一例を示す図である。 変形例に係る巻き取り装置の一例を示す図である。 実施形態に係るセパレータの一例を示す図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。このＸＹＺ座標系においては、水平面に平行な平面をＸＹ平面とする。このＸＹ平面に平行な一方向をＸ方向と表記し、Ｘ方向に直交する方向をＹ方向と表記する。また、ＸＹ平面に垂直な方向はＺ方向と表記する。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。

［第１実施形態］
図１及び図２は、第１実施形態に係る製造システムＳＹＳの一例を示す図である。図１及び図２に示す製造システムＳＹＳは、多孔性樹脂膜Ｆ（多孔性のイミド系樹脂膜）を製造するものである。製造システムＳＹＳは、所定の塗布液を塗布して未焼成膜ＦＡを形成する塗布ユニット１０と、未焼成膜ＦＡを焼成して焼成膜ＦＢを形成する焼成ユニット２０と、焼成膜ＦＢから微粒子を除去して多孔性樹脂膜Ｆを形成する除去ユニット（処理装置）３０と、上記各ユニットを統括的に制御する制御装置（不図示）とを備えている。

製造システムＳＹＳは、例えば上下２階層に構成されており、塗布ユニット１０が２階部分に配置され、焼成ユニット２０及び除去ユニット３０が１階部分に配置される。同一階に配置される焼成ユニット２０及び除去ユニット３０は、例えばＹ方向に並んで配置されるが、これに限定するものではなく、例えばＸ方向又はＸ方向とＹ方向との合成方向に並んで配置されてもよい。

なお、製造システムＳＹＳの階層構造や各階における各ユニットの配置等については上記に限定するものではなく、例えば塗布ユニット１０及び焼成ユニット２０が２階部分に配置され、除去ユニット３０が１階部分に配置されてもよい。また、すべてのユニットが同一階に配置されてもよい。この場合、各ユニットが一列に配置されてもよいし、複数列で配置されてもよい。また、すべてのユニットが異なる階層に配置されてもよい。

製造システムＳＹＳでは、未焼成膜ＦＡが帯状に形成される。塗布ユニット１０の＋Ｙ側（未焼成膜ＦＡの搬送方向の前方）には、帯状の未焼成膜ＦＡをロール状に巻き取る巻き取り部５０が設けられる。焼成ユニット２０の−Ｙ側（未焼成膜ＦＡの搬送方向の後方）には、ロール状の未焼成膜ＦＡを焼成ユニット２０へ向けて送り出す送り出し部６０が設けられる。除去ユニット３０の＋Ｙ側（焼成膜ＦＢの搬送方向の前方）には、多孔性樹脂膜Ｆをロール状に巻き取る巻き取り部８０が設けられる。

このように、送り出し部６０から焼成ユニット２０及び除去ユニット３０を経て巻き取り部８０に至るまでの区間（１階部分）では、いわゆるロール・ツー・ロール方式による処理が行われる。したがって、この区間では、未焼成膜ＦＡ、焼成膜ＦＢ及び多孔性樹脂膜Ｆの各膜が一続きの状態で搬送される。

［塗布液］
ここで、各ユニットを説明する前に、多孔性樹脂膜Ｆの原料となる塗布液について説明する。塗布液は、所定の樹脂材料と、微粒子と、溶剤とを含む。所定の樹脂材料としては、例えばポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドイミド、又はポリアミドが挙げられる。溶剤としては、これらの樹脂材料を溶解可能な有機溶剤が用いられる。

本実施形態では、塗布液として、微粒子の含有率が異なる２種類の塗布液（第１塗布液及び第２塗布液）が用いられる。具体的には、第１塗布液は、第２塗布液よりも微粒子の含有率が高くなるように調製される。これにより、未焼成膜ＦＡ、焼成膜ＦＢ及び多孔性樹脂膜Ｆの強度及び柔軟性を担保することができる。また、微粒子の含有率の低い層を設けることで、多孔性樹脂膜Ｆの製造コストの低減を図ることができる。

例えば、第１塗布液には、樹脂材料と微粒子とが１９：８１〜４５：６５の体積比となるように含有される。また、第２塗布液には、樹脂材料と微粒子とが２０：８０〜５０：５０の体積比となるように含有される。ただし、第１塗布液の微粒子の含有率が、第２塗布液の微粒子の含有率よりも高くなるように体積比が設定される。なお、各樹脂材料の体積は、各樹脂材料の質量にその比重を乗じて求めた値が用いられる。

上記の場合において、第１塗布液の体積全体を１００としたときに微粒子の体積が６５以上であれば、粒子が均一に分散し、また、微粒子の体積が８１以内であれば粒子同士が凝集することもなく分散する。このため、多孔性樹脂膜Ｆに孔を均一に形成することができる。また、微粒子の体積比率がこの範囲内であれば、未焼成膜ＦＡを成膜する際の剥離性を確保することができる。

第２塗布液の体積全体を１００としたときに微粒子の体積が５０以上であれば、微粒子単体が均一に分散し、また、微粒子の体積８０以内であれば微粒子同士が凝集することもなく、また、表面にひび割れ等が生じることもないため、安定して電気特性の良好な多孔性樹脂膜Ｆを形成することができる。

上記２種類の塗布液は、例えば微粒子を予め分散した溶剤とポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリアミドを任意の比率で混合することで調製される。また、微粒子を予め分散した溶剤中でポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリアミドを重合して調製されてもよい。例えば、微粒子を予め分散した有機溶剤中でテトラカルボン酸二無水物及びジアミンを重合してポリアミド酸とするか、更にイミド化してポリイミドとすることで製造できる。

塗布液の粘度は、最終的に３００〜２５００ｃＰとすることが好ましく、４００〜１５００ｃＰの範囲がより好ましく、６００〜１２００ｃＰの範囲がさらに好ましい。塗布液の粘度がこの範囲内であれば、均一に成膜をすることが可能である。

上記塗布液には、微粒子とポリアミド酸又はポリイミドを乾燥して未焼成膜ＦＡとした場合において、微粒子の材質が後述の無機材料の場合は微粒子／ポリイミドの比率が２〜６（質量比）となるように微粒子とポリアミド酸又はポリイミドとを混合するとよい。３〜５（質量比）とすることが、更に好ましい。微粒子の材質が後述の有機材料の場合は微粒子／ポリイミドの比率が１〜３．５（質量比）となるように微粒子とポリアミド酸又はポリイミドとを混合するとよい。１．２〜３（質量比）とすることが、更に好ましい。また、未焼成膜ＦＡとした際に微粒子／ポリイミドの体積比率が１．５〜４．５となるように微粒子とポリアミド酸又はポリイミドとを混合するとよい。１．８〜３（体積比）とすることが更に好ましい。未焼成膜ＦＡとした際に微粒子／ポリイミドの質量比又は体積比が下限値以上であれば、セパレータとして適切な密度の孔を得ることができ、上限値以下であれば、粘度の増加や膜中のひび割れ等の問題を生じることなく安定的に成膜することができる。ポリアミド酸又はポリイミドのかわりに樹脂材料がポリアミドイミド又はポリアミドとなる場合も、質量比は上記と同様である。

以下、各樹脂材料について具体的に説明する。
＜ポリアミド酸＞
本実施形態で用いるポリアミド酸は、任意のテトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合して得られるものが、特に限定されることなく使用できる。テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの使用量は特に限定されないが、テトラカルボン酸二無水物１モルに対して、ジアミンを０．５０〜１．５０モル用いるのが好ましく、０．６０〜１．３０モル用いるのがより好ましく、０．７０〜１．２０モル用いるのが特に好ましい。

テトラカルボン酸二無水物は、従来からポリアミド酸の合成原料として使用されているテトラカルボン酸二無水物から適宜選択することができる。テトラカルボン酸二無水物は、芳香族テトラカルボン酸二無水物であっても、脂肪族テトラカルボン酸二無水物であってもよいが、得られるポリイミド樹脂の耐熱性の点から、芳香族テトラカルボン酸二無水物を使用することが好ましい。テトラカルボン酸二無水物は、２種以上を組合せて用いてもよい。

芳香族テトラカルボン酸二無水物の好適な具体例としては、ピロメリット酸二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２，６，６−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−へキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、９，９−ビス無水フタル酸フルオレン、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの中では、価格、入手容易性等から、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及びピロメリット酸二無水物が好ましい。また、これらのテトラカルボン酸二無水物は単独あるいは二種以上混合して用いることもできる。

ジアミンは、従来からポリアミド酸の合成原料として使用されているジアミンから適宜選択することができる。ジアミンは、芳香族ジアミンであっても、脂肪族ジアミンであってもよいが、得られるポリイミド樹脂の耐熱性の点から、芳香族ジアミンが好ましい。これらのジアミンは、２種以上を組合せて用いてもよい。

芳香族ジアミンとしては、フェニル基が１個あるいは２〜１０個程度が結合したジアミノ化合物を挙げることができる。具体的には、フェニレンジアミン及びその誘導体、ジアミノビフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノジフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノトリフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノナフタレン及びその誘導体、アミノフェニルアミノインダン及びその誘導体、ジアミノテトラフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノヘキサフェニル化合物及びその誘導体、カルド型フルオレンジアミン誘導体である。

フェニレンジアミンはｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン等であり、フェニレンジアミン誘導体としては、メチル基、エチル基等のアルキル基が結合したジアミン、例えば、２，４−ジアミノトルエン、２，４−トリフェニレンジアミン等である。

ジアミノビフェニル化合物は、２つのアミノフェニル基がフェニル基同士で結合したものである。例えば、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル等である。

ジアミノジフェニル化合物は、２つのアミノフェニル基が他の基を介してフェニル基同士で結合したものである。結合はエーテル結合、スルホニル結合、チオエーテル結合、アルキレン又はその誘導体基による結合、イミノ結合、アゾ結合、ホスフィンオキシド結合、アミド結合、ウレイレン結合等である。アルキレン結合は炭素数が１〜６程度のものであり、その誘導体基はアルキレン基の水素原子の１以上がハロゲン原子等で置換されたものである。

ジアミノジフェニル化合物の例としては、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルケトン、３，４’−ジアミノジフェニルケトン、２，２−ビス（ｐ−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（ｐ−アミノフェニル）へキサフルオロプロパン、４−メチル−２，４−ビス（ｐ−アミノフェニル）−１−ペンテン、４−メチル−２，４−ビス（ｐ−アミノフェニル）−２−ぺンテン、イミノジアニリン、４−メチル−２，４−ビス（ｐ−アミノフェニル）ペンタン、ビス（ｐ−アミノフェニル）ホスフィンオキシド、４，４’−ジアミノアゾベンゼン、４，４’−ジアミノジフェニル尿素、４，４’−ジアミノジフェニルアミド、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。

これらの中では、価格、入手容易性等から、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテルが好ましい。

ジアミノトリフェニル化合物は、２つのアミノフェニル基と１つのフェニレン基が何れも他の基を介して結合したものであり、他の基は、ジアミノジフェニル化合物と同様のものが選ばれる。ジアミノトリフェニル化合物の例としては、１，３−ビス（ｍ−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ベンゼン等を挙げることができる。

ジアミノナフタレンの例としては、１，５−ジアミノナフタレン及び２，６−ジアミノナフタレンを挙げることができる。

アミノフェニルアミノインダンの例としては、５又は６−アミノ−１−（ｐ−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダンを挙げることができる。

ジアミノテトラフェニル化合物の例としては、４，４’−ビス（ｐ−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２’−ビス［ｐ−（ｐ’−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ビス［ｐ−（ｐ’−アミノフェノキシ）ビフェニル］プロパン、２，２’−ビス［ｐ−（ｍ−アミノフェノキシ）フェニル］ベンゾフェノン等を挙げることができる。

カルド型フルオレンジアミン誘導体は、９，９−ビスアニリンフルオレン等が挙げられる。

脂肪族ジアミンは、例えば、炭素数が２〜１５程度のものがよく、具体的には、ペンタメチレンジアミン、へキサメチレンジアミン、へプタメチレンジアミン等が挙げられる。

なお、これらのジアミンの水素原子がハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、シアノ基、フェニル基等の群より選択される少なくとも１種の置換基により置換された化合物であってもよい。

本実施形態で用いられるポリアミド酸を製造する手段に特に制限はなく、例えば、有機溶剤中で酸、ジアミン成分を反応させる方法等の公知の手法を用いることができる。

テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応は、通常、有機溶剤中で行われる。テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応に使用される有機溶剤は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンを溶解させることができ、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンと反応しないものであれば特に限定されない。有機溶剤は単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応に用いる有機溶剤の例としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルカプローラクタム、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア等の含窒素極性溶剤；β−プロピオラクトン、γ−ブチローラクトン、γ−バレローラクトン、δ−バレローラクトン、γ−カプローラクトン、ε−カプローラクトン等のラクトン系極性溶剤；ジメチルスルホキシド；アセトニトリル；乳酸エチル、乳酸ブチル等の脂肪酸エステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルセルソルブアセテート、エチルセルソルブアセテート等のエーテル類；クレゾール類等のフェノール系溶剤が挙げられる。これらの有機溶剤は単独あるいは２種以上を混合して用いることができる。有機溶剤の使用量に特に制限はないが、生成するポリアミド酸の含有量が５〜５０質量％とするのが望ましい。

これらの有機溶剤の中では、生成するポリアミド酸の溶解性から、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルカプローラクタム、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア等の含窒素極性溶剤が好ましい。

重合温度は一般的には−１０〜１２０℃、好ましくは５〜３０℃である。重合時間は使用する原料組成により異なるが、通常は３〜２４Ｈｒ（時間）である。また、このような条件下で得られるポリアミド酸の有機溶剤溶液の固有粘度は、好ましくは１０００〜１０万ｃＰ（センチポアズ）、より一層好ましくは５０００〜７万ｃＰの範囲である。

＜ポリイミド＞
本実施形態に用いるポリイミドは、塗布液に使用する有機溶剤に溶解可能な可溶性ポリイミドなら、その構造や分子量に限定されることなく、公知のものが使用できる。ポリイミドについて、側鎖にカルボキシ基等の縮合可能な官能基又は焼成時に架橋反応等を促進させる官能基を有していてもよい。

有機溶剤に可溶なポリイミドとするために、主鎖に柔軟な屈曲構造を導入するためのモノマーの使用、例えば、エチレジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の脂肪族ジアミン；２−メチルー１，４−フェニレンジアミン、ｏ−トリジン、ｍ−トリジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノベンズアニリド等の芳香族ジアミン；ポリオキシエチレンジアミン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシブチレンジアミン等のポリオキシアルキレンジアミン；ポリシロキサンジアミン；２，３，３’，４’−オキシジフタル酸無水物、３，４，３’，４’−オキシジフタル酸無水物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジベンゾエート−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物等の使用が有効である。また、有機溶剤への溶解性を向上する官能基を有するモノマーの使用、例えば、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、２−トリフルオロメチル−１，４−フェニレンジアミン等のフッ素化ジアミンを使用することも有効である。更に、上記ポリイミドの溶解性を向上するためのモノマーに加えて、溶解性を阻害しない範囲で、上記ポリアミド酸の欄に記したものと同じモノマーを併用することもできる。

本発明で用いられる、有機溶剤に溶解可能なポリイミドを製造する手段に特に制限はなく、例えば、ポリアミド酸を化学イミド化又は加熱イミド化させ、有機溶剤に溶解させる方法等の公知の手法を用いることができる。そのようなポリイミドとしては、脂肪族ポリイミド（全脂肪族ポリイミド）、芳香族ポリイミド等を挙げることができ、芳香族ポリイミドが好ましい。芳香族ポリイミドとしては、式（１）で示す繰り返し単位を有するポリアミド酸を熱又は化学的に閉環反応によって取得したもの、若しくは式（２）で示す繰り返し単位を有するポリイミドを溶媒に溶解したものでよい。式中Ａｒはアリール基を示す。

＜ポリアミドイミド＞
本実施形態に用いるポリアミドイミドは、塗布液に使用する有機溶剤に溶解可能な可溶性ポリアミドイミドなら、その構造や分子量に限定されることなく、公知のものが使用できる。ポリアミドイミドについて、側鎖にカルボキシ基等の縮合可能な官能基又は焼成時に架橋反応等を促進させる官能基を有していてもよい。

本実施形態で用いるポリアミドイミドは、任意の無水トリメリット酸とジイソシアネートとを反応させて得られるものや、任意の無水トリメリット酸の反応性誘導体とジアミンとの反応により得られる前駆体ポリマーをイミド化して得られるものを特に限定されることなく使用できる。

上記任意の無水トリメッと酸又はその反応性誘導体としては、例えば、無水トリメリット酸、無水トリメリット酸クローライド等の無水トリメリット酸ハロゲン化物、無水トリメリット酸エステル等が挙げられる。

ジイソシアネートとしては、例えば、メタフェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、４，４’−ジイソシアネートジフェニルメタン、ビス［４−（４−イソシアネートフェノキシ） フェニル］ スルホン、２，２′−ビス［４−（４−イソシアネートフェノキシ）フェニル］ プロパン等が挙げられる。

ジアミンとしては、前記ポリアミド酸の説明において例示したものと同様のものが挙げられる。

＜ポリアミド＞
ポリアミドとしては、ジカルボン酸とジアミンとから得られるポリアミドが好ましく、特に芳香族ポリアミドが好ましい。

ジカルボン酸としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メチルマレイン酸、ジメチルマレイン酸、フェニルマレイン酸、クロロマレイン酸、ジクロロマレイン酸、フルオロマレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、及びジフェン酸等が挙げられる。

ジアミンとしては、前記ポリアミド酸の説明において例示したものと同様のものが挙げられる。

＜微粒子＞
続いて、微粒子について説明する。微粒子は、例えば真球率が高く、粒径分布指数の小さいものが用いられる。このような微粒子は、液体中での分散性に優れ、互いに凝集しない状態となる。微粒子の粒径（平均直径）としては、例えば、１００〜２０００ｎｍ程度に設定することができる。上記のような微粒子を用いることにより、後の工程で微粒子を除去することで得られる多孔性樹脂膜Ｆの孔径を揃えることができる。このため、多孔性樹脂膜Ｆによって形成されるセパレータに印加される電界を均一化できる。

なお、微粒子の材質としては、塗布液に含まれる溶剤に不溶であって、後の工程で多孔性樹脂膜Ｆから除去可能な材質であれば、特に限定されることはなく公知のものを採用することができる。例えば、無機材料では、シリカ（二酸化珪素）、酸化チタン、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）等の金属酸化物が挙げられる。また、有機材料では、高分子量オレフィン（ポリプロピレン，ポリエチレン等）、ポリスチレン、エポキシ樹脂、セルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル等の有機高分子微粒子が挙げられる。また、微粒子の一例として、（単分散）球状シリカ粒子などのコロイダルシリカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。この場合、多孔性樹脂膜Ｆの孔径をより均一にすることができる。

また、第１塗布液に含まれる微粒子と第２塗布液に含まれる微粒子とは、真球率、粒径、材料等の諸元が同一であってもよいし、互いに異なってもよい。第１塗布液に含まれる微粒子は、第２塗布液に含まれる微粒子よりも粒径分布指数が小さいか同じであることが好ましい。あるいは、第１塗布液に含まれる微粒子は、第２塗布液に含まれる微粒子よりも真球率が小さいか同じであることが好ましい。また、第１塗布液に含まれる微粒子は、第２塗布液に含まれる微粒子よりも微粒子の粒径（平均直径）が小さいことが好ましく、特に、第１塗布液に含まれる微粒子が１００〜１０００ｎｍ（より好ましくは１００〜６００ｎｍ）であり、第２塗布液に含まれる微粒子が５００〜２０００ｎｍ（より好ましくは７００〜２０００ｎｍ）であることが好ましい。第１塗布膜に含まれる微粒子の粒径に第２塗布液に含まれる微粒子の粒径より小さいものを用いることで、多孔性樹脂膜Ｆ表面の孔の開口割合を高く均一にすることができる。また、多孔性樹脂膜Ｆ全体を第１塗布液に含まれる微粒子の粒径とした場合よりも膜の強度を高めることができる。

なお、上記塗布液は、所定の樹脂材料と、微粒子と、溶剤の他、必要に応じて、離型剤、分散剤、縮合剤、イミド化剤、界面活性剤等種々の添加剤を含んでいてもよい。

［塗布ユニット］
塗布ユニット１０は、搬送部１１と、第１ノズル１２と、第２ノズル１３と、乾燥部１４と、剥離部１５と、とを有する。
搬送部１１は、搬送基材（基材）Ｓと、基材送出ローラ１１ａと、支持ローラ１１ｂ〜１１ｄと、基材巻取ローラ１１ｅと、搬出ローラ１１ｆとを有する。

搬送基材Ｓは、帯状に形成されている。搬送基材Ｓは、基材送出ローラ１１ａから送り出され、テンションを有するように支持ローラ１１ｂ〜１１ｄに架け渡されて、基材巻取ローラ１１ｅによって巻き取られる。搬送基材Ｓの材質としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などが挙げられるが、これに限定するものではなく、ステンレス鋼等の金属材料であってもよい。

各ローラ１１ａ〜１１ｆは、例えば円筒状に形成され、それぞれＸ方向に平行に配置されている。なお、各ローラ１１ａ〜１１ｆは、Ｘ方向に平行な配置に限られず、少なくとも１つがＸ方向に対して傾いて配置されてもよい。例えば、各ローラ１１ａ〜１１ｆがＺ方向に平行に配置され、Ｚ方向の高さ位置が同一となるように配置されてもよい。この場合、搬送基材Ｓは、水平面（ＸＹ平面）に対して立った状態で水平面に沿って移動することになる。

基材送出ローラ１１ａは、搬送基材Ｓが巻かれた状態で配置される。支持ローラ１１ｂは、基材送出ローラ１１ａの＋Ｚ側に配置されると共に、基材送出ローラ１１ａよりも−Ｙ側に配置される。また、支持ローラ１１ｃは、支持ローラ１１ｂの＋Ｚ側に配置されると共に、支持ローラ１１ｂよりも＋Ｙ側に配置される。この３つのローラ（基材送出ローラ１１ａ、支持ローラ１１ｂ、１１ｃ）の配置により、搬送基材Ｓは支持ローラ１１ｂの−Ｙ側端部を含む面で支持される。

また、支持ローラ１１ｄは、支持ローラ１１ｃの＋Ｙ側に配置されると共に、支持ローラ１１ｃの−Ｚ側に配置される。この場合、支持ローラ１１ｂ〜１１ｄの３つのローラの配置により、搬送基材Ｓは、支持ローラ１１ｃの＋Ｚ側端部を含む面で支持される。

なお、支持ローラ１１ｄが、支持ローラ１１ｃの高さ位置（Ｚ方向の位置）とほぼ等しい高さ位置に配置されてもよい。この場合、搬送基材Ｓは、支持ローラ１１ｃから支持ローラ１１ｄに向けてＸＹ平面にほぼ平行な状態で＋Ｙ方向に送られる。

基材巻取ローラ１１ｅは、支持ローラ１１ｄの−Ｚ側に配置される。支持ローラ１１ｄから基材巻取ローラ１１ｅに向けて、搬送基材Ｓは、−Ｚ方向に送られる。搬出ローラ１１ｆは、支持ローラ１１ｄの＋Ｙ側かつ−Ｚ側に配置される。搬出ローラ１１ｆは、乾燥部１４で形成される未焼成膜ＦＡを＋Ｙ方向に送る。この未焼成膜ＦＡは、搬出ローラ１１ｆにより、塗布ユニット１０の外部に搬出される。

なお、上記のローラ１１ａ〜１１ｆは、円筒形に限られず、テーパー型のクラウンが形成されてもよい。この場合、ローラ１１ａ〜１１ｆのたわみ補正に有効であり、搬送基材Ｓ又は後述の未焼成膜ＦＡがローラ１１ａ〜１１ｆに均等に接触可能となる。また、ローラ１１ａ〜１１ｆにラジアル型のクラウンが形成されてもよい。この場合、搬送基材Ｓ又は未焼成膜ＦＡの蛇行防止に有効である。また、ローラ１１ａ〜１１ｆにコンケイブ型のクラウン（Ｘ方向の中央部が凹形に湾曲した部分）が形成されてもよい。この場合、Ｘ方向に張力を付与しつつ搬送基材Ｓ又は未焼成膜ＦＡを搬送することが可能となるため、シワの発生防止に有効となる。以下のローラについても、上記同様にテーパー型、ラジアル型、コンケイブ型等のクラウンを有する構成であってもよい。

図３（ａ）は、第１ノズル１２の一例を示す斜視図である。図２及び図３（ａ）に示すように、第１ノズル１２は、搬送基材Ｓに第１塗布液ＥＱ１の塗布膜（以下、第１塗布膜Ｆ１とする）を形成する。第１ノズル１２は、第１塗布液ＥＱ１を吐出する吐出口１２ａを有する。吐出口１２ａは、例えば長手方向が搬送基材ＳのＸ方向の寸法とほぼ同一となるように形成される。

第１ノズル１２は、吐出位置Ｐ１に配置される。吐出位置Ｐ１は、支持ローラ１１ｂに対して−Ｙ方向上の位置である。第１ノズル１２は、吐出口１２ａが＋Ｙ方向を向くように傾いて配置される。したがって、吐出口１２ａは、搬送基材Ｓのうち支持ローラ１１ｂの−Ｙ側端部で支持された部分に向けられる。第１ノズル１２は、この搬送基材Ｓに対して、吐出口１２ａから水平方向に沿って第１塗布液ＥＱ１を吐出する。

図３（ｂ）は、第２ノズル１３の一例を示す斜視図である。図２及び図３（ｂ）に示すように、第２ノズル１３は、搬送基材Ｓ上に第１塗布膜Ｆ１に重ねて第２塗布液ＥＱ２の塗布膜（以下、第２塗布膜Ｆ２とする）を形成する。第２ノズル１３は、第２塗布液ＥＱ２を吐出する吐出口１３ａを有する。吐出口１３ａは、例えば長手方向が搬送基材ＳのＸ方向の寸法とほぼ同一となるように形成される。

第２ノズル１３は、吐出位置Ｐ２に配置される。吐出位置Ｐ２は、支持ローラ１１ｃに対して＋Ｚ方向上の位置である。第２ノズル１３は、吐出口１３ａが−Ｚ方向を向くように配置される。したがって、吐出口１３ａは、搬送基材Ｓのうち支持ローラ１１ｃの＋Ｚ側端部で支持された部分に向けられる。第２ノズル１３は、この搬送基材Ｓに対して、吐出口１３ａから重力方向に沿って第２塗布液ＥＱ２を吐出する。

なお、第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のうち少なくとも一方向に移動可能であってもよい。また、第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能に設けられてもよい。また、第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、塗布液を吐出しないときには不図示の待機位置に配置され、塗布液を吐出する際に待機位置から上記の吐出位置Ｐ１、Ｐ２にそれぞれ移動するようにしてもよい。また、第１ノズル１２及び第２ノズル１３の予備吐出動作を行う部分が設けられてもよい。

第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、それぞれ接続配管（不図示）などを介して、塗布液供給源（不図示）に接続されている。第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、例えば内部に所定量の塗布液を保持する保持部（不図示）が設けられる。この場合、第１ノズル１２及び第２ノズル１３は、上記保持部に保持された液状体の温度を調整する温調部を有してもよい。

第１ノズル１２又は第２ノズル１３から塗出される各塗布液の塗出量や、第１塗布膜Ｆ１又は第２塗布膜Ｆ２の膜厚は、各ノズル、各接続配管（不図示）、若しくは塗布液供給源（不図示）に接続されるポンプ（不図示）の圧力、搬送速度、各ノズル位置又は搬送基材Ｓとノズルとの距離等により、調整可能である。第１塗布膜Ｆ１又は第２塗布膜Ｆ２の膜厚は、例えば、それぞれ、０．５μｍ〜５００μｍである。

本実施形態のように、２種類の塗布液（第１塗布液ＥＱ１及び第２塗布液ＥＱ２）を用いる場合は、第１塗布液ＥＱ１による第１塗布膜Ｆ１の膜厚を、例えば、０．５μｍ〜１０μｍの範囲で調整し、第２塗布液ＥＱ２による第２塗布膜Ｆ２の膜厚を、例えば、１μｍ〜５０μｍの範囲で調整することが好ましい。

なお、第１ノズル１２及び第２ノズル１３の間に、第１塗布膜Ｆ１を乾燥させるための乾燥部（不図示）を配置してもよい。この乾燥部は加熱乾燥部を備えていることが好ましい。加熱乾燥部としては、温風送風部や赤外線ヒータを用いることが好ましい。加熱温度は、例えば５０℃〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１００℃の範囲である。第１塗布膜Ｆ１を乾燥させた後に第２塗布膜Ｆ２を形成することで、例えば、第２塗布液に用いた微粒子が第１塗布膜Ｆ１の微粒子と、混在してしまうことを抑制することができる。

図２に示すように、乾燥部１４は、第２ノズル１３の＋Ｙ側であって、支持ローラ１１ｃと支持ローラ１１ｄとの間に配置されている。乾燥部１４は、搬送基材Ｓ上に塗布された２層の塗布膜（第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２）を乾燥させ、未焼成膜ＦＡを形成する。

乾燥部１４は、チャンバー１４ａと、加熱部１４ｂとを有する。チャンバー１４ａは、搬送基材Ｓ及び加熱部１４ｂを収容する。加熱部１４ｂは、搬送基材Ｓ上に形成される第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２を加熱する。加熱部１４ｂとしては、例えば赤外線ヒータなどが用いられる。加熱部１４ｂは、５０℃〜１００℃程度の温度で塗布膜を加熱する。

剥離部１５は、未焼成膜ＦＡが搬送基材Ｓから剥離される部分である。本実施形態では、作業者の手作業によって未焼成膜ＦＡの剥離が行われるが、これに限定するものではなく、マニピュレータ等を用いて自動的に行ってもよい。搬送基材Ｓから剥離された未焼成膜ＦＡは、搬出ローラ１１ｆによって塗布ユニット１０の外部に搬出され、巻き取り部５０に送られる。また、未焼成膜ＦＡが剥離された搬送基材Ｓは、基材巻取ローラ１１ｅによって巻き取られる。

［巻き取り部（１）］
図４は、塗布ユニット１０の＋Ｙ側の構成を概略的に示す斜視図である。
図４に示すように、塗布ユニット１０の＋Ｙ側には、未焼成膜ＦＡを搬出する搬出口１０ｂが設けられている。搬出口１０ｂから搬出された未焼成膜ＦＡは、巻き取り部５０によって巻き取られる。

巻き取り部５０は、軸受５１に軸部材ＳＦが装着された構成となっている。軸部材ＳＦは、搬出口１０ｂから搬出された未焼成膜ＦＡを巻き取ってロール体Ｒを形成する。軸部材ＳＦは、軸受５１に対して着脱可能に設けられる。軸部材ＳＦは、軸受５１に装着される場合、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能となるように支持される。巻き取り部５０は、軸受５１に装着される軸部材ＳＦを回転させる不図示の駆動機構を有している。

なお、巻き取り部５０では、未焼成膜ＦＡのうち第１塗布膜Ｆ１側の面が外側に配置されるように未焼成膜ＦＡを巻き取るようにする。例えば駆動機構によって軸部材ＳＦを図１の反時計回りに回転させることにより、未焼成膜ＦＡが巻き取られるようになっている。ロール体Ｒが形成された状態で軸部材ＳＦを軸受５１から取り外すことにより、ロール体Ｒを他のユニットに移動させることが可能となる。

なお、図２及び図４では、巻き取り部５０が塗布ユニット１０から独立して配置されているが、これに限定するものではない。例えば、巻き取り部５０は、塗布ユニット１０の内部に配置されていてもよい。この場合、塗布ユニット１０に搬出口１０ｂを配置せず、搬出ローラ１１ｆから、（又は支持ローラ１１ｄから）未焼成膜ＦＡを巻き取ってロール体Ｒを形成してもよい。

［送り出し部］
図５は、焼成ユニット２０の−Ｙ側の構成を概略的に示す斜視図である。
図５に示すように、焼成ユニット２０の−Ｙ側には、未焼成膜ＦＡを搬入する搬入口２０ａが設けられている。送り出し部６０は、搬入口２０ａに対して未焼成膜ＦＡを送り出す。

送り出し部６０は、軸受６１に軸部材ＳＦが装着可能な構成となっている。軸部材ＳＦは、巻き取り部５０の軸受５１に装着するものと共通で使用可能である。したがって、巻き取り部５０から取り外した軸部材ＳＦを送り出し部６０の軸受６１に装着可能である。これにより、巻き取り部５０で形成されたロール体Ｒを送り出し部６０に配置することが可能である。なお、軸受６１及び巻き取り部５０の軸受５１については、それぞれ床面からの高さが等しくなるように設定可能であるが、異なる高さ位置に設定されてもよい。

軸部材ＳＦは、軸受６１に装着される場合、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能となるように支持される。送り出し部６０は、軸受６１に装着される軸部材ＳＦを回転させる不図示の駆動機構を有している。駆動機構によって軸部材ＳＦを図１の時計回りに回転させることにより、ロール体Ｒを構成する未焼成膜ＦＡが搬入口２０ａへ向けて送り出されるようになっている。なお、上記の巻き取り部５０において、未焼成膜ＦＡのうち第１塗布膜Ｆ１側の面が外側に配置されるように未焼成膜ＦＡが巻き取られるため、ロール体Ｒから未焼成膜ＦＡが引き出される場合には、第１塗布膜Ｆ１側が上方に配置されることになる。

［焼成ユニット］
焼成ユニット２０は、本実施形態において、未焼成膜ＦＡに対する高温処理を行うユニットである。焼成ユニット２０は、未焼成膜ＦＡを焼成し、微粒子を含んだ焼成膜ＦＢを形成する。焼成ユニット２０は、チャンバー２１と、加熱部２２と、搬送部２３とを有する。チャンバー２１は、未焼成膜ＦＡを搬入する搬入口２０ａと、焼成膜ＦＢを搬出する搬出口２０ｂとを有している。チャンバー２１は、加熱部２２及び搬送部２３を収容する。

加熱部２２は、チャンバー３１内に搬入された未焼成膜ＦＡを加熱する。加熱部２２は、Ｙ方向に並んで配置される複数のヒータ２２ａを有する。このヒータ２２ａとしては、例えば赤外線ヒータなどが用いられる。加熱部２２は、チャンバー２１の内部の−Ｙ側端部から＋Ｙ側端部に亘って配置されている。加熱部２２は、Ｙ方向のほぼ全体で未焼成膜ＦＡを加熱することが可能となっている。加熱部２２は、例えば未焼成膜ＦＡを１２０℃〜４５０℃程度に加熱することが可能である。加熱部２２による加熱温度は、未焼成膜ＦＡの搬送速度や未焼成膜ＦＡの構成成分等に応じて適宜調整する。

搬送部２３は、搬送ベルト２３ａと、駆動ローラ２３ｂと、従動ローラ２３ｃと、テンションローラ２３ｄ、２３ｅとを有している。搬送ベルト２３ａは、無端状に形成されており、Ｙ方向に沿って配置されている。搬送ベルト２３ａは、未焼成膜ＦＡの焼成温度に耐久性を有する材料を用いて形成される。搬送ベルト２３ａは、テンションを有する状態で、ＸＹ平面にほぼ平行となるように、駆動ローラ２３ｂと従動ローラ２３ｃとの間に架け渡されている。未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢは、搬送ベルト２３ａに載置された状態で＋Ｙ方向に搬送される。

駆動ローラ２３ｂは、チャンバー２１の内部の＋Ｙ側端部に配置される。駆動ローラ２３ｂは、例えば円筒状に形成され、Ｘ方向に平行に配置されている。駆動ローラ２３ｂには、例えばモータ等の回転駆動装置が設けられている。駆動ローラ２３ｂは、この回転駆動装置により、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能に設けられている。駆動ローラ２３ｂが回転することで、搬送ベルト２３ａが図２の時計回りに回転するようになっている。搬送ベルト２３ａが回転することにより、搬送ベルト２３ａ上に載置された未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢが＋Ｙ方向に搬送される。

従動ローラ２３ｃは、チャンバー２１の内部の−Ｙ側端部に配置される。従動ローラ２３ｃは、例えば円筒状に形成され、Ｘ方向に平行に配置されている。従動ローラ２３ｃは、駆動ローラ２３ｂと同一の径に形成され、Ｚ方向の位置（高さ位置）が駆動ローラ２３ｂとほぼ等しくなるように配置されている。従動ローラ２３ｃは、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能に設けられている。従動ローラ２３ｃは、搬送ベルト２３ａの回転に追従して回転する。

テンションローラ２３ｄは、従動ローラ２３ｃの＋Ｚ側に配置されている。テンションローラ２３ｄは、Ｘ方向に平行に配置されており、Ｘ軸周りに回転可能に設けられている。テンションローラ２３ｄは、Ｚ方向に昇降移動可能に設けられる。テンションローラ２３ｄは、従動ローラ２３ｃとの間で未焼成膜ＦＡを挟むことが可能である。テンションローラ２３ｄは、未焼成膜ＦＡを挟んだ状態で回転可能である。

テンションローラ２３ｅは、駆動ローラ２３ｂの＋Ｚ側に配置されている。テンションローラ２３ｅは、Ｘ方向に平行に配置されており、Ｘ軸周りに回転可能に設けられている。テンションローラ２３ｅは、Ｚ方向に昇降移動可能に設けられる。テンションローラ２３ｅは、駆動ローラ２３ｂとの間で焼成膜ＦＢを挟むことが可能である。テンションローラ２３ｅは、焼成膜ＦＢを挟んだ状態で回転可能である。

テンションローラ２３ｄ、２３ｅがそれぞれ従動ローラ２３ｃ及び駆動ローラ２３ｂとの間で未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢをそれぞれ挟んだ状態とすることにより、一続きの未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢのうち挟まれた２か所の間の部分は、外部からのテンションがカットされることになる。これにより、未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢに対して過剰な負荷がかかることを防止できる。テンションローラ２３ｄ、２３ｅは、チャンバー２１内に配置される未焼成膜ＦＡ及び焼成膜ＦＢにテンションがかからないように調整可能である。

［除去ユニット（処理装置）］
除去ユニット（処理装置）３０は、チャンバー３１と、浸漬部（処理部）３２と、洗浄部（処理部）３３と、液切部３４と、搬送部３５と、を有する。図６（ａ）及び（ｂ）は、除去ユニット３０の一例を示す図である。図６（ａ）は除去ユニット３０を−Ｘ方向に見たときの図、（ｂ）は除去ユニット３０を−Ｚ方向に見たときの図である。なお、図６（ｂ）では、カバー部Ｃの図示を省略している。図６に示すように、チャンバー３１は、搬入口３０ａ及び搬出口３０ｂを有する。また、チャンバー３１は、搬入側壁部Ｗ１と、仕切り壁部Ｗ２、Ｗ３及びＷ４と、搬出側壁部Ｗ５とを有している。浸漬部３２、洗浄部３３及び液切部３４は、搬入側壁部Ｗ１、仕切り壁部Ｗ２、Ｗ３及びＷ４、搬出側壁部Ｗ５によって仕切られた内部空間（Ｋ１〜Ｋ４）にそれぞれ設けられている。

浸漬部３２は、−Ｙ側が搬入側壁部Ｗ１によって仕切られ、＋Ｙ側が仕切り壁部Ｗ２によって仕切られた内部空間Ｋ１に設けられている。また、洗浄部３３は、後述するように、Ｙ方向に並んで配置された第１洗浄部（処理部）３３ａ及び第２洗浄部（処理部）３３ｂを有する。第１洗浄部３３ａは、−Ｙ側が仕切り壁部Ｗ２によって仕切られ、＋Ｙ側が仕切り壁部Ｗ３によって仕切られた内部空間Ｋ２に設けられている。第２洗浄部３３ｂは、−Ｙ側が仕切り壁部Ｗ３によって仕切られ、＋Ｙ側が仕切り壁部Ｗ４によって仕切られた内部空間Ｋ３に設けられている。また、液切部３４は、−Ｙ側が仕切り壁部Ｗ４によって仕切られ、＋Ｙ側が搬出側壁部Ｗ５によって仕切られた内部空間Ｋ４に設けられている。

また、搬入側壁部Ｗ１には、焼成膜ＦＢを搬入する搬入口としての開口部ＯＰ１が形成されている。搬出側壁部Ｗ５には、多孔性樹脂膜Ｆを搬出する搬出口としての開口部ＯＰ５が形成されている。また、仕切り壁部Ｗ２〜Ｗ４には、それぞれ焼成膜ＦＢを通過させるための開口部ＯＰ２〜ＯＰ４が設けられている。浸漬部３２を基準とした場合、開口部ＯＰ１は焼成膜ＦＢが搬入される入口開口部であり、開口部ＯＰ２は多孔性樹脂膜Ｆが搬出される出口開口部である。第１洗浄部３３ａを基準とした場合、開口部ＯＰ２は多孔性樹脂膜Ｆが搬入される入口開口部であり、開口部ＯＰ３は多孔性樹脂膜Ｆが搬出される出口開口部である。第２洗浄部３３ｂを基準とした場合、開口部ＯＰ３は多孔性樹脂膜Ｆが搬入される入口開口部であり、開口部ＯＰ４は多孔性樹脂膜Ｆが搬出される出口開口部である。開口部ＯＰ１〜ＯＰ５は、後述する搬送ベルト３５ａ及び焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）を通過させる。開口部ＯＰ１〜ＯＰ５は、例えばＹ方向視において矩形状に形成される。

また、搬入側壁部Ｗ１、仕切り壁部Ｗ２〜Ｗ４には、それぞれカバー部Ｃが設けられている。カバー部Ｃは、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６を有する。

上部カバーＵＣ１は、搬入側壁部Ｗ１の内部空間Ｋ１側に設けられる。上部カバーＵＣ２は、仕切り壁部Ｗ２の内部空間Ｋ１側に設けられる。上部カバーＵＣ３は、仕切り壁部Ｗ２の内部空間Ｋ２側に設けられる。上部カバーＵＣ４は、仕切り壁部Ｗ３の内部空間Ｋ２側に設けられる。上部カバーＵＣ５は、仕切り壁部Ｗ３の内部空間Ｋ３側に設けられる。上部カバーＵＣ６は、仕切り壁部Ｗ４の内部空間Ｋ３側に設けられる。

上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６は、開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の上方を覆っている。例えば、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６は、開口部ＯＰ１〜ＯＰ４に対して上方（＋Ｚ側）に取り付けられている。上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６は、開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の上方側から下方（−Ｚ側）に向けて折り曲げられており、Ｘ方向視においてＬ字状に形成されている。

下部カバーＬＣ１は、搬入側壁部Ｗ１の内部空間Ｋ１側に設けられる。下部カバーＬＣ２は、仕切り壁部Ｗ２の内部空間Ｋ１側に設けられる。下部カバーＬＣ３は、仕切り壁部Ｗ２の内部空間Ｋ２側に設けられる。下部カバーＬＣ４は、仕切り壁部Ｗ３の内部空間Ｋ２側に設けられる。下部カバーＬＣ５は、仕切り壁部Ｗ３の内部空間Ｋ３側に設けられる。下部カバーＬＣ６は、仕切り壁部Ｗ４の内部空間Ｋ３側に設けられる。

下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６は、開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の下方を覆っている。例えば、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６は、それぞれ開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の下方に取り付けられている。下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６は、開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の下方側から上方（＋Ｚ側）に向けて折り曲げられており、Ｘ方向視においてＬ字状に形成されている。

搬入側壁部Ｗ１、仕切り壁部Ｗ２〜Ｗ４のうち開口部ＯＰ１〜ＯＰ４の近傍には、これら上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６と下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６とで覆われた空間が形成される。搬入側壁部Ｗ１の＋Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ１が配置される。仕切り壁部Ｗ２の−Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ２が配置される。仕切り壁部Ｗ２の＋Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ３が配置される。仕切り壁部Ｗ３の−Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ４が配置される。仕切り壁部Ｗ３の＋Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ５が配置される。仕切り壁部Ｗ４の−Ｙ側に形成される空間には、吸水ローラＲ６が配置される。

各吸水ローラ（除去ローラ）Ｒ１〜Ｒ６は、焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）の搬送経路の−Ｚ側及び＋Ｚ側に１つずつ配置される。例えば、吸水ローラＲ１〜Ｒ６は、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆを上下方向（Ｚ方向）に挟むように一対設けられる。なお、上下の吸水ローラＲ１〜Ｒ６がＹ方向にずれて配置されてもよい。また、上下の吸水ローラＲ１〜Ｒ６の少なくとも一方がＹ方向に移動可能に設けられてもよい。搬送経路の−Ｚ側に配置される吸水ローラＲ１〜Ｒ６は、後述の搬送ベルト３５ａに接するように配置される。また、搬送経路の＋Ｚ側に配置される吸水ローラＲ１〜Ｒ６は、焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）に接するように配置される。

吸水ローラＲ１〜Ｒ６は、搬送ベルト３５ａ及び焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）に接触させることにより、これら搬送ベルト３５ａ及び焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）を搬送しつつ、それぞれに付着している液体を吸収可能である。吸水ローラＲ１〜Ｒ６は、例えば吸収した液体を軸方向（Ｘ方向）に流通させ、軸方向の端部から排出するように形成される。なお、吸水ローラＲ１〜Ｒ６に代えて、搬送ベルト３５ａ及び焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）に対してガスを噴射して液体を除去するガス噴射部が設けられてもよい。

図７（ａ）及び（ｂ）は、仕切り壁部Ｗ２の近傍を拡大して示す図である。以下、図７を参照して上側カバー部ＵＣ２、ＵＣ３、下側カバー部ＬＣ２、ＬＣ３、吸水ローラＲ２、Ｒ３の構成を代表して説明するが、他の下側カバー部ＵＣ１、ＵＣ４〜ＵＣ６、他の下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ４〜ＬＣ６、他の吸水ローラＲ１、Ｒ４〜Ｒ６についても同様の説明が可能である。

図７（ａ）に示すように、上側カバー部ＵＣ２、ＵＣ３の先端部（端部）ＵＣａ及び下側カバー部ＬＣ２、ＬＣ３の先端部（端部）ＬＣａは、それぞれ吸水ローラＲ２、Ｒ３に近接して配置される。これにより、先端部ＵＣａ、ＬＣａと吸水ローラＲ２、Ｒ３とで開口部ＯＰ２の近傍が覆われるため、内部空間Ｋ１、Ｋ２の液体が開口部ＯＰ２に到達するのをより効果的に防ぐことができる。なお、先端部ＵＣａ、ＬＣａは、多孔性樹脂膜Ｆ（又は焼成膜ＦＢ）の近傍に配置されてもよい。

吸水ローラＲ２、Ｒ３は、吸収部Ｒａ及び液体排出部Ｒｂを有している。吸収部Ｒａは、例えばスポンジなどの多孔性材料を用いて形成される。吸収部Ｒａは、各処理部において用いられる液体を吸収する。例えば吸水ローラＲ２に設けられる吸収部Ｒａは、エッチング液Ｑ１を吸収する。また、吸水ローラＲ３に設けられる吸収部Ｒａは、洗浄液Ｑ２を吸収する。

液体排出部Ｒｂは、吸収部Ｒａによって吸収された液体を排出する。液体排出部Ｒｂは、円筒状に形成され、長手方向の端部が解放されている。液体排出部Ｒｂは、周面に貫通穴（不図示）が形成されている。この貫通穴により、液体排出部Ｒｂの内部と吸収部Ｒａとが連通された状態となっている。吸水ローラＲ２、Ｒ３では、吸収部Ｒａで吸収された液体が貫通穴から液体排出部Ｒｂの内部に流れ込み、液体排出部Ｒｂの端部から排出されるようになっている。

また、図７（ｂ）に示すように、吸水ローラＲ２、Ｒ３は、それぞれローラ保持部ＨＤによって保持されている。ローラ保持部ＨＤは、例えば板状に形成され、仕切り壁部Ｗ２に固定されている。ローラ保持部ＨＤは、吸水ローラＲ２、Ｒ３の液体排出部Ｒｂを収容可能な収容部ＨＤａを有している。ローラ保持部ＨＤは、吸水ローラＲ２、Ｒ３をＸ方向に挟むように一対配置されている。吸水ローラＲ２、Ｒ３は、液体排出部Ｒｂが収容部ＨＤａに収容された状態で配置される。このとき、重力方向の上方（＋Ｚ側）の吸水ローラＲ２、Ｒ３は、重力方向の下方（−Ｚ側）の吸水ローラＲ２、Ｒ３を自重で押圧した状態で配置される。これにより、吸水ローラＲ２、Ｒ３の液体排出部Ｒｂを順に収容部ＨＤａに収容させることで吸水ローラＲ２、Ｒ３の装着が完了するため、容易に組み立てを行うことができる。なお、上側の吸水ローラＲ２を下方に押さえつける押圧機構が取り付けられた構成であってもよい。

また、図６に示すように、搬送部３５は、浸漬部３２、洗浄部３３及び液切部３４に亘る搬送領域ＴＲにおいて、焼成膜ＦＢを＋Ｙ方向に搬送する。搬送部３５は、搬送ベルト（搬送部材）３５ａと、駆動ローラ３５ｂと、従動ローラ３５ｃ〜３５ｆとを有する。駆動ローラ３５ｂ及び従動ローラ３５ｃ〜３５ｆの他に、浸漬部３２、洗浄部３３、液切部３４の内部に、搬送ベルト３５ａを支持する支持ローラが配置されてもよい。

搬送ベルト３５ａは、焼成膜ＦＢ（又はエッチング後の多孔性樹脂膜Ｆ）を＋Ｙ方向に搬送する。搬送ベルト３５ａは、帯状に形成され、搬送方向に沿ったＹ方向に長手となるように配置される。搬送ベルト３５ａは、環状に形成されており、Ｙ方向に沿って配置されている。搬送ベルト３５ａは、例えばアラミドなど、後述のエッチング液（Ｑ１）に耐久性を有する材料を用いて形成される。なお、搬送ベルト３５ａの表面がフッ素樹脂などによってコーティングされていてもよい。これにより、エッチング液に対する耐久性がより向上することになる。搬送ベルト３５ａは、例えば全面が網状に形成されており、エッチング液が搬送ベルト３５ａを通過可能となっている。搬送ベルト３５ａは、ＸＹ平面にほぼ平行となるように、テンションを有する状態で駆動ローラ３５ｂと従動ローラ３５ｃとの間に架け渡されている。多孔性樹脂膜Ｆは、搬送ベルト３５ａに載置されて搬送される。また、図６（ｂ）に示すように、搬送ベルト３５ａのうち移動方向に交差する方向（Ｘ方向）の両端辺には、移動方向（Ｙ方向）に連続する帯部３５ｇが形成される。帯部３５ｇが設けられることにより、搬送ベルト３５ａの強度を高めることができ焼成膜ＦＢ（又は多孔性樹脂膜Ｆ）の位置ずれを防ぐことができる。

駆動ローラ３５ｂは、チャンバー３１の内部の＋Ｙ側端部に配置される。駆動ローラ３５ｂは、例えば円筒状に形成され、Ｘ方向に平行に配置されている。駆動ローラ３５ｂには、例えばベルト３５ｍが掛けられている。ベルト３５ｍは、無端状に形成され、駆動ローラ３５ｂとベルト回転ローラ３５ｎとの間に架け渡されている。ベルト回転ローラ３５ｎには、不図示のモータが接続されている。ベルト回転ローラ３５ｎでベルト３５ｍを回転させることにより、駆動ローラ３５ｂがＸ方向に平行な軸線の周りに回転可能となっている。

駆動ローラ３５ｂが回転することで、搬送ベルト３５ａが図６の時計回りに回転し、焼成膜ＦＢの搬送領域ＴＲに対して循環して供給されるようになっている。また、この搬送ベルト３５ａが搬送領域ＴＲに対して循環して供給されることにより、搬送ベルト３５ａ上に載置された焼成膜ＦＢが搬送領域ＴＲにおいて＋Ｙ方向に搬送されるようになっている。

従動ローラ３５ｃは、チャンバー３１の内部の−Ｙ側端部に配置される。従動ローラ３５ｄ〜３５ｆは、それぞれ従動ローラ３５ｃ及び駆動ローラ３５ｂの−Ｚ側に配置される。従動ローラ３５ｃ〜３５ｆは、例えば円筒状に形成され、Ｘ方向に平行に配置されている。従動ローラ３５ｃは、駆動ローラ３５ｂと同一の径に形成され、Ｚ方向の位置（高さ位置）が駆動ローラ３５ｂとほぼ等しくなるように配置されている。従動ローラ３５ｃ〜３５ｆは、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能に設けられている。従動ローラ３５ｃ〜３５ｆは、搬送ベルト３５ａの回転に追従して回転する。

また、従動ローラ３５ｄ〜３５ｆは、搬送ベルト３５ａのテンションを調整するものであり、例えば互いに同一の径に形成されている。従動ローラ３５ｆは、不図示の駆動機構によって、Ｚ方向に移動可能（昇降可能）に設けられている。従動ローラ３５ｆが昇降することにより、搬送ベルト３５ａのテンションを調整可能となっている。このように、従動ローラ３５ｆは、搬送ベルト３５ａのテンションを調整するテンション調整部として用いられる。

浸漬部３２は、焼成膜ＦＢに対してエッチングを行い、焼成膜ＦＢに含まれる微粒子を除去して、多孔性樹脂膜Ｆを形成する。浸漬部３２では、微粒子を溶解又は分解可能なエッチング液に焼成膜ＦＢを浸すことで微粒子を除去する。浸漬部３２は、床部３２ａと、壁部３２ｂと、上側ノズル３２ｃと、下側ノズル３２ｄと、ローラ３２ｅとを有する。なお、浸漬部３２は、内部を排気する排気部（不図示）などを有してもよい。

床部３２ａは、ＸＹ平面に沿って形成され、Ｚ方向視で矩形に形成されている。床部３２ａは、Ｙ方向が長手方向となるように形成され、搬送領域ＴＲに沿って配置されている。床部３２ａの材料については、エッチング液Ｑ１の種類または濃度に応じて、耐久性を有する材料を適宜選択すればよく、例えば、塩化ビニル等が用いられる。なお、図６では、床部３２ａが板状に形成された構成が示されているが、これに限定するものではなく、中空部が形成された構成であってもよい。

床部３２ａは、上面（＋Ｚ側の面）で搬送ベルト３５ａを支持する。床部３２ａには、複数の孔部（不図示）が形成されている。孔部は、床部３２ａをＺ方向に貫通して形成されている。孔部は、後述の下側ノズル３２ｄから吐出されるエッチング液を通過させる。床部３２ａは、後述の上側ノズル３２ｃから吐出されるエッチング液と、後述の下側ノズル３２ｄから吐出され孔部を通過したエッチング液とを支持する。

壁部３２ｂは、床部３２ａのＸ方向の両側部に配置されており、Ｙ方向に沿って形成されている。壁部３２ｂは、床部３２ａで支持されたエッチング液を後述のローラ３２ｅと共に保持する。各壁部３２ｂの上面には、複数の切り欠き部３２ｇが形成されている。複数の切り欠き部３２ｇは、Ｙ方向に並んで配置されている。各切り欠き部３２ｇは、Ｚ方向に互いに等しい深さで形成されている。切り欠き部３２ｇは、壁部３２ｂによって保持されたエッチング液を排出可能である。また、切り欠き部３２ｇは、後述のローラ３２ｅを支持する軸受として用いられる。

上側ノズル３２ｃは、床部３２ａの＋Ｚ側に配置される。上側ノズル３２ｃは、例えば、Ｙ方向に複数並んで配置されている。各上側ノズル３２ｃは、Ｘ方向に複数の吐出口（不図示）を有する。各吐出口は、−Ｚ側に向けられている。各吐出口からは、スプレー状のエッチング液Ｑ１が−Ｚ方向に吐出されるようになっている。上側ノズル３２ｃは、床部３２ａの上方から下方へ向けてエッチング液Ｑ１を吐出する。各上側ノズル３２ｃには、エッチング液Ｑ１の供給源（不図示）が接続されている。

下側ノズル３２ｄは、床部３２ａの−Ｚ側に配置される。下側ノズル３２ｄは、例えば、Ｙ方向に複数並んで配置されている。各下側ノズル３２ｄは、Ｘ方向に複数の吐出口（不図示）を有する。各吐出口からは、スプレー状のエッチング液Ｑ１が＋Ｚ方向に吐出されるようになっている。下側ノズル３２ｄは、床部３２ａの下方から上方へ向けてエッチング液Ｑ１を吐出する。各下側ノズル３２ｄには、エッチング液Ｑ１の供給源（不図示）が接続されている。なお、上側ノズル３２ｃ及び下側ノズル３２ｄの配置については、図６に示す配置に限定するものではない。例えば、上側ノズル３２ｃ及び下側ノズル３２ｄのうち、一方が設けられなくてもよい。上側ノズル３２ｃ及び下側ノズル３２ｄの単位時間当たりの吐出量は、全て同一に設定してもよいし、ノズル毎に異なるように設定してもよい。

ローラ３２ｅは、例えば浸漬部３２の＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部にそれぞれ１つずつ配置されている。ローラ３２ｅのＸ方向の両端部からは、軸部３２ｋが突出して設けられている。軸部３２ｋのＸ方向の両端部は、上記の壁部３２ｂに形成された切り欠き部３２ｇに装着され、回転可能に支持される。ローラ３２ｅは、搬送ベルト３５ａとの間で焼成膜ＦＢを挟持可能である。なお、ローラ３２ｅは、搬送ベルト３５ａの回転に伴って回転可能である。

また、浸漬部３２には、エッチング液Ｑ１の廃液を排出する排出口３２ｌが設けられている。排出口３２ｌは、下側ノズル３２ｄの−Ｚ側に配置されている。排出口３２ｌは、回収部３６に接続されている。回収部３６は、排出口３２ｌの−Ｚ側に配置される。回収部３６は、排出口３２ｌから排出されたエッチング液Ｑ１を回収する。

回収部３６は、循環部３７に接続されている。循環部３７は、回収部３６で回収されたエッチング液Ｑ１を浸漬部３２に供給する。循環部３７は、上記の回収部３６と、エッチング液Ｑ１の供給管３２ｍとを接続している。なお、供給管３２ｍは、上側ノズル３２ｃ及び下側ノズル３２ｄに接続される配管である。供給管３２ｍは、上側ノズル３２ｃ及び下側ノズル３２ｄに供給されるエッチング液Ｑ１を流通させる。

浸漬部３２では、２つのローラ３２ｅを−Ｚ方向へ移動（下降）させることで、この２つのローラ３２ｅと床部３２ａとの間で焼成膜ＦＢ及び搬送ベルト３５ａを挟むことが可能となっている。焼成膜ＦＢ及び搬送ベルト３５ａが２つのローラ３２ｅと床部３２ａとの間で挟まれた状態において、上側ノズル３２ｃからエッチング液Ｑ１を吐出すると、エッチング液Ｑ１は、Ｙ方向について２つのローラ３２ｅで挟まれ、かつＸ方向について２つの壁部３２ｂで挟まれる区間に溜まりやすくなる。上側ノズル３２ｃから継続してエッチング液Ｑ１を吐出することにより、この区間にはエッチング液Ｑ１が貯留する貯留部が形成される。なお、エッチング液Ｑ１の上面が壁部３２ｂの切り欠き部３２ｇに到達した場合、この切り欠き部３２ｇを介してエッチング液Ｑ１が外部に排出される。

また、下側ノズル３２ｄから噴出されたエッチング液Ｑ１は、床部３２ａに形成された孔部３２ｆを通過し、床部３２ａの上面で支持される。床部３２ａの上面で支持されるエッチング液Ｑ１は、搬送ベルト３５ａのメッシュを通過して焼成膜ＦＢの−Ｚ側の面に到達する。したがって、浸漬部３２では、焼成膜ＦＢの＋Ｚ側の面及び−Ｚ側の面の両面にエッチング液Ｑ１を浸すことができるようになっている。

なお、搬入側壁部Ｗ１及び仕切り壁部Ｗ２には、上記のように、それぞれ上側カバー部ＵＣ１、ＵＣ２及び下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ２が設けられる。この上側カバー部ＵＣ１、ＵＣ２及び下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ２は、エッチング液Ｑ１が開口部ＯＰ１、ＯＰ２から浸漬部３２の外部に漏れ出すのを防いでいる。

また、上側カバー部ＵＣ１、ＵＣ２及び下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ２によって形成される空間には、吸水ローラＲ１、Ｒ２が配置される。この吸水ローラＲ１、Ｒ２は、焼成膜ＦＢ及び搬送ベルト３５ａに付着したエッチング液Ｑ１を吸収する。この構成により、エッチング液Ｑ１が浸漬部３２の外部に流出するのを防ぐことができる。

また、上記のように、上側カバー部ＵＣ１、ＵＣ２と、下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ２と、吸水ローラＲ１、Ｒ２とが、入口開口部である開口部ＯＰ１側と出口開口部である開口部ＯＰ２側とのそれぞれに配置されることにより、確実にエッチング液Ｑ１が浸漬部３２の外部に流出するのを防ぐことができる。

続いて、洗浄部３３は、浸漬部３２で焼成膜ＦＢがエッチングされて形成された多孔性樹脂膜Ｆを洗浄する。洗浄部３３は、浸漬部３２の＋Ｙ側（多孔性樹脂膜Ｆの搬送方向の前方）に配置される。本実施形態では、洗浄部３３は、搬送ベルト３５ａの搬送方向であるＹ方向に沿って配置された２つの洗浄部（第１洗浄部３３ａ及び第２洗浄部３３ｂ）を有している。このように、本実施形態では、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆに対して液体を用いて処理を行う処理部（浸漬部３２、第１洗浄部３３ａ及び第２洗浄部３３ｂ）が、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆの搬送方向（＋Ｙ方向）に沿って複数配置されている。

第１洗浄部３３ａ及び第２洗浄部３３ｂには、それぞれ、上側洗浄液ノズル３３ｃと、下側洗浄液ノズル３３ｄとが設けられている。上側洗浄液ノズル３３ｃ及び下側洗浄液ノズル３３ｄは、多孔性樹脂膜Ｆ及び搬送ベルト３５ａに向けて洗浄液を吐出する。上側洗浄液ノズル３３ｃは、搬送ベルト３５ａの＋Ｚ側に配置される。上側洗浄液ノズル３３ｃは、Ｙ方向に複数並んで配置されている。各上側洗浄液ノズル３３ｃは、Ｘ方向に並んで配置された複数の吐出口（不図示）を有する。各吐出口は、−Ｚ側に向けられている。各吐出口からは、スプレー状の洗浄液Ｑ２が−Ｚ方向に吐出されるようになっている。上側洗浄液ノズル３３ｃは、搬送ベルト３５ａの上方から下方へ向けて洗浄液Ｑ２を吐出する。各上側洗浄液ノズル３３ｃには、洗浄液Ｑ２の供給源（不図示）が接続されている。

下側洗浄液ノズル３３ｄは、搬送ベルト３５ａの−Ｚ側に配置される。下側洗浄液ノズル３３ｄは、Ｙ方向に複数並んで配置されている。各下側洗浄液ノズル３３ｄは、Ｘ方向に複数の吐出口（不図示）を有する。各吐出口は、＋Ｚ側に向けられている。各吐出口からは、スプレー状の洗浄液Ｑ２が＋Ｚ方向に吐出されるようになっている。下側洗浄液ノズル３３ｄは、搬送ベルト３５ａの下方から上方へ向けて洗浄液Ｑ２を吐出する。各下側洗浄液ノズル３３ｄには、洗浄液Ｑ２の供給源（不図示）が接続されている。

なお、上側洗浄液ノズル３３ｃ及び下側洗浄液ノズル３３ｄの配置については、図６に示す配置に限定するものではない。図６では、上側洗浄液ノズル３３ｃ及び下側洗浄液ノズル３３ｄの数について、第１洗浄部３３ａの方が第２洗浄部３３ｂよりも多く配置されているが、これに限定するものではない。例えば、上側洗浄液ノズル３３ｃ及び下側洗浄液ノズル３３ｄの数について、第１洗浄部３３ａと第２洗浄部３３ｂとで同一であってもよいし、第２洗浄部３３ｂの方が第２洗浄部３３ｂよりも多くてもよい。また、例えば、上側洗浄液ノズル３３ｃ及び下側洗浄液ノズル３３ｄのうち、一方が設けられなくてもよい。

仕切り壁部Ｗ２、Ｗ３の内部空間Ｋ２側には、それぞれ上側カバー部ＵＣ３、ＵＣ４と、下側カバー部ＬＣ３、ＬＣ４と、が設けられる。これらの上側カバー部ＵＣ３、ＵＣ４及び下側カバー部ＬＣ３、ＬＣ４は、洗浄液Ｑ２が開口部ＯＰ２、ＯＰ３から第１洗浄部３３ａの外部に漏れ出すのを防いでいる。

また、上側カバー部ＵＣ３、ＵＣ４及び下側カバー部ＬＣ３、ＬＣ４によって形成される空間には、吸水ローラＲ３、Ｒ４が配置される。この吸水ローラＲ３、Ｒ４は、多孔性樹脂膜Ｆ及び搬送ベルト３５ａに付着した洗浄液Ｑ２を吸収する。この構成により、洗浄液Ｑ２が第１洗浄部３３ａの外部に流出するのをより確実に防ぐことができる。

同様に、仕切り壁部Ｗ３、Ｗ４の内部空間Ｋ３側には、それぞれ上側カバー部ＵＣ５、ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ５、ＬＣ６が設けられる。これらの上側カバー部ＵＣ５、ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ５、ＬＣ６は、洗浄液Ｑ２が開口部ＯＰ３、ＯＰ４から第２洗浄部３３ｂの外部に漏れ出すのを防いでいる。

また、上側カバー部ＵＣ５、ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ５、ＬＣ６によって形成される空間には、吸水ローラＲ５、Ｒ６が配置される。この吸水ローラＲ５、Ｒ６は、多孔性樹脂膜Ｆ及び搬送ベルト３５ａに付着した洗浄液Ｑ２を吸収する。この構成により、洗浄液Ｑ２が第２洗浄部３３ｂの外部に流出するのをより確実に防ぐことができる。

液切部３４は、洗浄後の多孔性樹脂膜Ｆに付着した液体（エッチング液、洗浄液など）を除去する。液切部３４において予備乾燥等を行ってもよい。液切部３４は、洗浄部３３の＋Ｙ側（多孔性樹脂膜Ｆの搬送方向の前方）に配置される。液切部３４には、案内ローラ３４ａが設けられる。案内ローラ３４ａは、洗浄後の多孔性樹脂膜Ｆを搬送ベルト３５ａから分離させて駆動ローラ３５ｂに案内する。

液切部３４には、吸水ローラＲ７及びＲ８が設けられている。吸水ローラＲ７は、吸水ローラを多孔性樹脂膜Ｆに接触させることにより、多孔性樹脂膜Ｆを搬送しつつ、多孔性樹脂膜Ｆに付着している液体を吸収可能である。また、吸水ローラＲ８は、案内ローラ３４ａによって分離されて案内される搬送ベルト３５ａに接触させることにより、搬送ベルト３５ａに付着している液体を吸収可能である。吸水ローラＲ７及びＲ８は、例えば吸収した液体を軸方向に流通させ、端部から排出するように形成される。吸水ローラＲ７、Ｒ８の搬送方向に対する配置は液切部３４から搬出される手前であれば特に制限されない。また、分離させた多孔性樹脂膜Ｆ及び搬送ベルト３５ａをそれぞれ加熱して乾燥する加熱部が設けられた構成であってもよい。また、液切部３４には、カバー部Ｃ（上側カバー部及び下側カバー部）が設けられていない。したがって、仕切り壁部Ｗ４には、内部空間Ｋ３側（第２洗浄部３３ｂ側）にのみカバー部Ｃ（上側カバー部ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ６）が設けられている。このように、１つ仕切り壁部を挟んで隣り合う処理部のうち一方が液体を用いない場合には、仕切り壁部のうち液体を用いた処理を行う処理部側にのみカバー部Ｃが設けられればよい。

［巻き取り部（２）］
図８は、除去ユニット３０の＋Ｙ側の構成を概略的に示す斜視図である。
図８に示すように、除去ユニット３０の＋Ｙ側には、多孔性樹脂膜Ｆを搬出する搬出口３０ｂが設けられている。搬出口３０ｂから搬出された多孔性樹脂膜Ｆは、巻き取り部８０によって巻き取られる。

巻き取り部８０は、軸受８１に軸部材ＳＦが装着された構成となっている。軸部材ＳＦは、搬出口３０ｂから搬出された多孔性樹脂膜Ｆを巻き取ってロール体ＲＦを形成する。軸部材ＳＦは、軸受８１に対して着脱可能に設けられる。軸部材ＳＦは、軸受８１に装着される場合、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能となるように支持される。巻き取り部８０は、軸受８１に装着される軸部材ＳＦを回転させる不図示の駆動機構を有する。駆動機構によって軸部材ＳＦを回転させることにより、多孔性樹脂膜Ｆが巻き取られるようになっている。ロール体ＲＦが形成された状態で軸部材ＳＦを軸受８１から取り外すことにより、ロール体ＲＦを回収することが可能となる。

［製造方法］
次に、上記のように構成された製造システムＳＹＳを用いて多孔性樹脂膜Ｆを製造する動作の一例を説明する。図９（ａ）〜（ｆ）は、多孔性樹脂膜Ｆの製造過程の一例を示す図である。

まず、塗布ユニット１０において、未焼成膜ＦＡを形成する。塗布ユニット１０では、基材送出ローラ１１ａを回転させて搬送基材Ｓを送り出し、搬送基材Ｓを支持ローラ１１ｂ〜１１ｄに掛けた後、基材巻取ローラ１１ｅで巻き取らせる。その後、基材送出ローラ１１ａから搬送基材Ｓを順次送り出すと共に、基材巻取ローラ１１ｅで巻き取りを行う。

この状態で、第１ノズル１２を吐出位置Ｐ１に配置させ、吐出口１２ａを＋Ｙ方向に向ける。これにより、搬送基材Ｓのうち支持ローラ１１ｂによって支持される部分に吐出口１２ａが向けられる。その後、吐出口１２ａから第１塗布液ＥＱ１を吐出させる。第１塗布液ＥＱ１は、吐出口１２ａから＋Ｙ方向に向けて吐出され、搬送基材Ｓに到達した後、搬送基材Ｓの移動に伴って搬送基材Ｓ上に塗布される。これにより、図９（ａ）に示すように、搬送基材Ｓ上に第１塗布液ＥＱ１による第１塗布膜Ｆ１が形成される。

続いて、第２ノズル１２を吐出位置Ｐ２に配置させ、吐出口１３ａを−Ｚ方向に向ける。これにより、搬送基材Ｓのうち支持ローラ１１ｃによって支持される部分に吐出口１３ａが向けられる。その後、吐出口１３ａから第２塗布液ＥＱ２を吐出させる。第２塗布液ＥＱ２は、吐出口１３ａから−Ｚ方向に向けて吐出され、搬送基材Ｓに形成された第１塗布膜Ｆ１上に到達した後、搬送基材Ｓの移動に伴って第１塗布膜Ｆ１上に塗布される。これにより、図９（ｂ）に示すように、第１塗布膜Ｆ１上に第２塗布液による第２塗布膜Ｆ２が形成される。なお、第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２には、樹脂材料Ａ１に微粒子Ａ２が互いに異なる体積比で含まれる。なお、微粒子の含有率は、第１塗布膜Ｆ１の方が第２塗布膜Ｆ２よりも大きく設定される。

なお、搬送基材Ｓのうち支持ローラ１１ｂ、１１ｃによって支持される部分に吐出口１２ａ、１３ａを向けた状態で第１塗布液ＥＱ１及び第２塗布液ＥＱ２が塗布されるため、第１塗布液ＥＱ１及び第２塗布液ＥＱ２が搬送基材Ｓに到達するときに搬送基材Ｓに作用する力が支持ローラ１１ｂ、１１ｃによって受けられる。このため、搬送基材Ｓの撓みや振動等の発生が抑制され、搬送基材Ｓ上に均一な厚さで安定して第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２が形成される。

続いて、搬送基材Ｓが移動し、第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２の積層部分が乾燥部１４のチャンバー１４ａ内に搬入された場合、乾燥部１４において第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２の乾燥を行う。乾燥部１４では、加熱部１４ｂを用いて、例えば５０℃〜１００℃程度の温度で第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２を加熱する。この温度範囲であれば、搬送基材Ｓに歪みや変形等が発生することなく、第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２を加熱できる。第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２の積層体を乾燥することにより、図９（ｃ）に示すように、未焼成膜ＦＡが形成される。

なお、本明細書において、積層体とは前記第１塗布膜Ｆ１及び前記第２塗布膜Ｆ２からなる未焼成膜をいう。本発明に係る多孔性のイミド系樹脂膜を形成する際、第１の液体及び第２の液体において、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリアミドのうち、それぞれ同種の樹脂を使用した場合、形成された前記第１塗布膜Ｆ１及び前記第２塗布膜Ｆ２からなる未焼成膜（または多孔性のイミド系樹脂膜）は、実質１層となるが、微粒子の含有率が異なる未焼成膜（または空孔率の異なる領域を有する多孔性のイミド系樹脂膜）が形成されるため、第１の液体及び第２の液体に同種の樹脂を使用した場合も含め、本明細書においては、積層体という。

続いて、搬送基材Ｓが移動し、未焼成膜ＦＡの先端部分が支持ローラ１１ｄ（剥離部１５）に到達した場合には、例えば作業者の手作業により、この先端部分を搬送基材Ｓから剥離する。本実施形態では、搬送基材Ｓの材料として例えばＰＥＴが用いられているため、第１塗布膜Ｆ１及び第２塗布膜Ｆ２を乾燥させて未焼成膜ＦＡを形成した場合、搬送基材Ｓから剥がれやすくなるため、作業者は容易に剥離を行うことができる。

未焼成膜ＦＡの先端部分を剥離した後、引き続き搬送基材Ｓが移動し、第１ノズル１２によって第１塗布膜Ｆ１が形成される。また、引き続き第２ノズル１３によって第２塗布膜Ｆ２が形成され、乾燥部１４によって未焼成膜ＦＡが形成される。これにより、未焼成膜ＦＡが帯状に形成され、乾燥部１４から＋Ｙ側に搬出される未焼成膜ＦＡの長さが徐々に長くなる。作業者は、剥離部１５において未焼成膜ＦＡを剥離し続ける。そして、剥離された未焼成膜ＦＡの先端が巻き取り部５０の軸部材ＳＦに到達する長さになった場合、作業者は手作業によって未焼成膜ＦＡを搬出ローラ１１ｆに掛けると共に、未焼成膜ＦＡの先端部分を軸部材ＳＦに取り付ける。その後、未焼成膜ＦＡが順次形成され、剥離されていくのに応じて、巻き取り部５０で軸部材ＳＦを回転させる。これにより、剥離された未焼成膜ＦＡが順次塗布ユニット１０から搬出され、巻き取り部５０の軸部材ＳＦによって巻き取られてロール体Ｒが形成される。ロール体Ｒを構成する未焼成膜ＦＡは、図９（ｄ）に示すように、搬送基材Ｓから剥離された状態となり、表面及び裏面が共に露出する。

なお、未焼成膜ＦＡの先端部分を剥離する作業、及び剥離した先端部分を軸部材ＳＦに装着する作業等については、作業者が手作業で行う態様に限られず、例えばマニピュレータ等を用いて自動で行ってもよい。また、未焼成膜ＦＡの剥離性を高めるため、搬送基材Ｓの表面に離型層を形成しておいてもよい。

所定の長さの未焼成膜ＦＡが軸部材ＳＦに巻き取られた後、未焼成膜ＦＡをカットすると共に、軸部材ＳＦをロール体Ｒごと軸受５１から取り外す。そして、新たな軸部材ＳＦを巻き取り部５０の軸受５１に装着し、未焼成膜ＦＡの切り取り端部をこの軸部材ＳＦに取り付けて回転させ、未焼成膜ＦＡを引き続き形成することにより、新たなロール体Ｒを作成可能である。

一方、例えば作業者は、軸受５１からロール体Ｒごと取り外した軸部材ＳＦを送り出し部６０に搬送し、軸受６１に装着する。この軸部材ＳＦの搬送動作及び装着動作は、マニピュレータや搬送装置等を用いて自動で行ってもよい。軸部材ＳＦを軸受６１に装着した後、軸部材ＳＦを回転させることでロール体Ｒから未焼成膜ＦＡが順次引き出され、未焼成膜ＦＡが焼成ユニット２０のチャンバー２１内に搬入される。なお、未焼成膜ＦＡの先端をチャンバー２１に搬入する場合には、作業者が手作業で行ってもよいし、マニピュレータ等を用いて自動的に行ってもよい。

チャンバー２１内に搬入された未焼成膜ＦＡは、搬送ベルト２３ａ上に載置され、搬送ベルト２３ａの回転に従って＋Ｙ方向に搬送される。なお、テンションローラ２３ｄ、２３ｅを用いてテンションの調整を行ってもよい。そして、未焼成膜ＦＡを搬送させつつ、加熱部２２を用いて未焼成膜ＦＡの焼成が行われる。

焼成時の温度は、未焼成膜ＦＡの構造により異なるが、１２０℃〜３７５℃程度であることが好ましく、更に好ましくは１５０℃〜３５０℃である。また、微粒子に有機材料が含まれる場合は、その熱分解温度よりも低い温度に設定する必要がある。なお、塗布液がポリアミド酸を含む場合、この焼成においてはイミド化を完結させることが好ましいが、未焼成膜ＦＡがポリイミド、ポリアミドイミド又はポリアミドから構成され、焼成ユニット２０により未焼成膜ＦＡに対し高温処理を行う場合はこの限りでない。

また、焼成条件は、例えば、塗布液がポリアミド酸及び／又はポリイミドを含む場合、室温から３７５℃までを３時間で昇温させた後、３７５℃で２０分間保持させる方法や、室温から５０℃刻みで段階的に３７５℃まで昇温（各ステップ２０分保持）し、最終的に３７５℃で２０分保持させる等の段階的な加熱を行ってもよい。また、未焼成膜ＦＡの端部をＳＵＳ製の型枠等に固定し変形を防ぐようにしてもよい。

このような焼成により、図９（ｅ）に示すように、焼成膜ＦＢが形成される。焼成膜ＦＢでは、イミド化又は高温処理された樹脂層Ａ３の内部に微粒子Ａ２が含まれている。焼成膜ＦＢの膜厚は、例えばマイクロメータ等で複数の箇所の厚さを測定し平均することで求めることができる。好ましい平均膜厚としては、セパレータ等に用いられる場合は、３μｍ〜５００μｍであることが好ましく、５μｍ〜１００μｍであることがより好ましく、１０μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。

焼成ユニット２０において形成された焼成膜ＦＢは、焼成ユニット２０から搬出されると、巻き取られることなく、除去ユニット３０に搬入される。なお、焼成膜ＦＢの先端部分を除去ユニット３０に搬入する場合には、作業者が手作業で行ってもよいし、マニピュレータ等を用いて自動的に行ってもよい。

除去ユニット３０に搬入された焼成膜ＦＢは、搬送ベルト３５ａ上に載置され、搬送ベルト３５ａの回転に従って＋Ｙ方向に搬送される。除去ユニット３０では、焼成膜ＦＢの搬送に伴い、まずは浸漬部３２において微粒子Ａ２の除去が行われる。微粒子Ａ２の材質として例えばシリカが用いられる場合、浸漬部３２では、低濃度のフッ化水素水等のエッチング液Ｑ１に焼成膜ＦＢが浸される。これにより、微粒子Ａ２がエッチング液Ｑ１に溶解して除去され、図９（ｆ）に示すように、樹脂層Ａ３の内部に多孔部Ａ４が含まれた多孔性樹脂膜Ｆが形成される。なお、搬入側壁部Ｗ１及び仕切り壁部Ｗ２に設けられた上側カバー部ＵＣ１、ＵＣ２及び下側カバー部ＬＣ１、ＬＣ２と、吸水ローラＲ１、Ｒ２とにより、ミスト状になったエッチング液Ｑ１が浸漬部３２の外部に漏れ出すことが防止される。

その後、搬送ベルト３５ａの回転に従って、多孔性樹脂膜Ｆが洗浄部３３及び液切部３４に順に搬入される。洗浄部３３では、洗浄液Ｑ２によって多孔性樹脂膜Ｆが洗浄される。具体的には、第１洗浄部３３ａと第２洗浄部３３ｂとで、洗浄液Ｑ２による洗浄処理が順に行われる。この場合、仕切り壁部Ｗ２〜Ｗ４に設けられた上側カバー部ＵＣ３〜ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ３〜ＬＣ６と、吸水ローラＲ３〜Ｒ６とにより、ミスト状になった洗浄液Ｑ２がそれぞれ第１洗浄部３３ａ、第２洗浄部３３ｂの外部に漏れ出すことが防止される。また、液切部３４では、吸水ローラＲ７、Ｒ８によって多孔性樹脂膜Ｆの液切りが行われ、洗浄液Ｑ２が除去される。そして、多孔性樹脂膜Ｆが除去ユニット３０から搬出され、巻き取り部８０の軸部材ＳＦによって巻き取られる。

以上のように、本実施形態に係る除去ユニット３０は、帯状の処理対象物（焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆ）を通過させる開口部ＯＰ１〜ＯＰ６を有する壁部（搬入側壁部Ｗ１、仕切り壁部Ｗ２〜Ｗ４）で仕切られ、かつ内部空間Ｋ１〜Ｋ３において液体により処理対象物を処理する処理部（浸漬部３２、第１洗浄部３３ａ、第２洗浄部３３ｂ）と、壁部（Ｗ１〜Ｗ４）の内部空間（Ｋ１〜Ｋ３）側に設けられ、開口部ＯＰ１〜ＯＰ６の上方及び下方を囲うように設けられたカバー部Ｃ（上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６）と、開口部ＯＰ１〜ＯＰ６の内部空間Ｋ１〜Ｋ３側に配置され、処理対象物（ＦＢ、Ｆ）に当接してこの処理対象物（ＦＢ、Ｆ）に付着する液体（Ｑ１、Ｑ２）を除去する吸水ローラＲ１〜Ｒ６と、を備えるため、処理対象物（ＦＢ、Ｆ）を処理する際に用いられる液体（Ｑ１、Ｑ２）が処理部（３２、３３ａ、３３ｂ）の外部に漏れ出すのを抑制することができる。これにより、処理環境の清浄化を図ることができる。

また、本実施形態に係る製造システムＳＹＳは、このような除去ユニット３０を含むため、未焼成膜ＦＡの形成、未焼成膜ＦＡの焼成（焼成膜ＦＢの形成）、及び微粒子Ａ２の除去（多孔性樹脂膜Ｆの形成）の３つの工程を一連の流れで行うことができ、微粒子Ａ２の除去においては清浄な処理環境で効率的に処理を行うことができる。これにより、多孔性樹脂膜Ｆの製造効率を向上させることができる。

［変形例］
図１０は、変形例に係る除去ユニット（処理装置）３０Ａの一例を示す図である。
図１０に示すように、除去ユニット３０Ａでは、焼成膜ＦＢ及び多孔性樹脂膜Ｆを載置して搬送する搬送部３５が設けられず、これらの膜をローラで直接搬送する構成となっている。この場合、浸漬部３２Ａでは、例えばエッチング液Ｑ１が容器３２ｐに貯留された構成となっており、案内ローラ３２ｑによって焼成膜ＦＢがエッチング液Ｑ１に浸漬されるようになっている。また、下方（−Ｚ側）の吸水ローラＲ２には、モータ装置などの駆動源ＡＣが設けられている。これにより、焼成膜ＦＢ及び多孔性樹脂膜Ｆを効率的に搬送することができる。

図１１は、他の変形例に係る除去ユニット３０Ｂの一部の例を示す図である。
上記実施形態では、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６と、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６とで形成される１つの空間について１つの吸水ローラが配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、図１１に示すように、１つの空間について吸水ローラが多段に配置された構成であってもよい。図１１では、吸水ローラＲ２を多段に配置した構成を例に挙げて説明しているが、これに限定するものではなく、他の休止ローラＲ１、Ｒ３〜Ｒ６について多段に配置してもよい。これにより、液体の漏れ出しを一層確実に防ぐことができる。また、多段に配置する除去ローラとして、表面がスポンジ等の多孔性材料で形成された吸水ローラに限定するものではなく、表面がゴム等で形成されたローラが用いられてもよい。この場合、液体を吸収するのではなく、処理対象物に付着した液体を掬い取ることによって除去することができる。

図１２は、他の変形例に係る除去ユニット３０Ｃの一部の例を示す図である。なお、図１２では、吸水ローラの図示を省略している。
例えば、図１２に示すように、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６に付着した液体の流れる方向を規制する規制部ＵＣｂが上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６の表面に設けられてもよい。規制部ＵＣｂは、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６に付着した液体が焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆを避けて落下するように配置される。例えば、Ｘ方向の中央部から端部にかけて下方に傾斜するように規制部ＵＣｂが設けられてもよい。これにより、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６に付着した液体は、規制部ＵＣｂに沿ってＸ方向の端部側に到達し、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆを避けて落下することになる。

また、上記実施形態では、巻き取り部５０、８０として、軸部材ＳＦを軸受５１、８１に着脱させる構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではなく、例えば図１３に示すような巻き取り装置９０が用いられてもよい。以下、巻き取り部５０に代えて巻き取り装置９０が用いられる場合を例に挙げて説明する。

図１３に示すように、巻き取り装置９０は、フレーム９１と、軸部材ＳＦと、軸受９２と、駆動部９３と、中継ローラ９４ａ〜９４ｅと、ローラ支持部９５とを有する。フレーム９１は、軸部材ＳＦ、軸受９２、駆動部９３、中継ローラ９４ａ〜９４ｅ、ローラ支持部９５の各部を支持する。

軸部材ＳＦは、塗布ユニット１０から搬出された未焼成膜ＦＡを巻き取ってロール体Ｒを形成する。軸部材ＳＦは、軸受９２に対して着脱可能に設けられている。軸部材ＳＦは、軸受９２に装着される場合、Ｘ方向に平行な軸線の周りに回転可能となるように軸受９２に支持される。ロール体Ｒが形成された状態で軸部材ＳＦを軸受９２から取り外すことにより、ロール体Ｒを他のユニットに移動又は回収することができる。

中継ローラ９４ａ〜９４ｅは、未焼成膜ＦＡのテンションを調整しつつ、未焼成膜ＦＡを軸部材ＳＦに送る。中継ローラ９４ａ〜９４ｅは、例えば円筒状に形成され、それぞれＸ方向に平行に配置されている。本実施形態では、未焼成膜ＦＡは、中継ローラ９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄ、９４ｅの順に架け渡されるが、これに限定されるものではなく、一部の中継ローラを用いなくてもよい。なお、中継ローラ９４ａ〜９４ｅのうち少なくとも１つは、ローラ支持部９５によって移動可能であってもよい。例えば、ローラ支持部９５が中継ローラ９４ｂをＺ方向又はＹ方向に移動可能であってもよい。また、ローラ支持部９５によって、Ｘ軸に平行な軸線ＡＸの周りに中継ローラ９４ｂを回動させる構成であってもよい。この場合、中継ローラ９４ｂが移動（回動）する量（距離）を軸受９２の巻取り速度にフィードバックさせることにより、未焼成膜ＦＡのテンションを一定に保つことが可能となる。また、中継ローラ９４ｂの−Ｙ側にあり、支点軸を介して配置される移動可能な重り（不図示）を移動させて中継ローラ９４ｂへの負荷を変更する構成であってもよい。この場合、中継ローラ９４ｂにかかる負荷を前記重りにより調整することで、未焼成膜ＦＡのテンションを調整することが可能となる。

中継ローラ９４ａ〜９４ｅは、Ｘ方向に平行な配置に限られず、Ｘ方向に対して傾いて配置されてもよい。また、中継ローラＲ２１〜Ｒ２５は、円筒形に限られず、テーパー型、ラジアル型、コンケイブ型等のクラウンが形成されたものが用いられてもよい。

なお、上記の巻き取り装置９０は、巻き取り部８０に代えて用いてもよい。また、未焼成膜ＦＡ等の膜を巻き取る場合とは反対の方向に軸部材ＳＦを回転させることにより、未焼成膜ＦＡ等の膜を送り出すことができる。このため、例えば上記の送り出し部６０に代えて巻き取り装置９０を用いることも可能である。

［セパレータ］
次に、実施形態に係るセパレータ１００を説明する。図１４は、リチウムイオン電池２００の一例を示す模式図であり、一部が切り開かれた状態を示している。図１４に示すように、リチウムイオン電池２００は、正極端子を兼ねた金属ケース２０１と、負極端子２０２とを有する。金属ケース２０１の内部には、正極２０１ａと、負極２０２ａと、セパレータ１００とが設けられており、不図示の電解液に浸されている。セパレータ１００は、正極２０１ａと負極２０２ａとの間に配置され、正極２０１ａと負極２０２ａとの間の電気的接触を防いでいる。正極２０１ａとしては、リチウム遷移金属酸化物が用いられ、負極２０２ａとしては、例えばリチウムやカーボン（グラファイト）等が用いられている。

上記実施形態に記載の多孔性樹脂膜Ｆは、このリチウムイオン電池２００のセパレータ１００として用いられる。この場合、例えば第１塗布膜Ｆ１が形成される面をリチウムイオン電池の負極２０２ａ側とすることにより、電池性能を向上することができる。なお、図１４では、角型のリチウムイオン電池２００のセパレータ１００を例に挙げて説明しているが、これに限定するものではない。上記の多孔性樹脂膜Ｆは、円筒型やラミネート型等のいずれのタイプのリチウムイオン電池のセパレータであっても用いることができる。なお、リチウムイオン電池のセパレータの他、上記の多孔性樹脂膜Ｆは、燃料電池電解質膜、ガス又は液体の分離用膜、低誘電率材料として使用することが可能である。

以上、実施形態について説明したが、本発明は、上述した説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
例えば、上記実施形態では、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６と、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６との両方が設けられた構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６と下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６は、いずれか一方を省略することができる。

この場合、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６及び下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６のいずれを省略するかについては、内部空間Ｋ１〜Ｋ３において上側ノズルと下側ノズルの有無に対応させることができる。例えば、内部空間Ｋ１、Ｋ２又はＫ３に上側ノズルのみが設けられる場合、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６のみを設け、下側ノズルＬＣ１〜ＬＣ６を省略することができる。また、内部空間Ｋ１、Ｋ２又はＫ３に下側ノズルのみが設けられる場合、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６のみを設け、上側ノズルＵＣ１〜ＵＣ６を省略することができる。上側ノズルＵＣ１〜ＵＣ６の配置を省略する場合には、すべてを省略してもよいし、少なくとも１つを省略してもよい。下側ノズルＬＣ１〜ＬＣ６を省略する場合についても同様である。

また、例えば、除去ユニット３０の構成として、上記実施形態に記載の構成に加え、例えば焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆにエアを噴射するエア噴射部が設けられてもよい。このエア噴射部は、処理対象物である焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆに付着した液体を除去するために用いられる。エア噴射部は、例えば各処理部（浸漬部３２、第１洗浄部３３ａ、第２洗浄部３３ｂ）において多孔性樹脂膜Ｆの搬送方向の下流側（＋Ｙ側）の吸水ローラＲ２、Ｒ４、Ｒ６よりも上流側（−Ｙ側）に配置することができる。これにより、吸水ローラＲ２、Ｒ４、Ｒ６で吸収する液体の量を減少することができる。なお、エア噴射部は、例えばカバー部Ｃとは別個に設けることができるが、エア噴射部をカバー部Ｃに取り付けてもよい。また、例えば上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６の先端ＵＣａをエア噴射部のノズルとして用いてもよい。

また、例えば、上記実施形態の構成に加えて、除去ユニット３０で形成された多孔性樹脂膜Ｆに対して後処理を行う後処理ユニットが設けられてもよい。このような後処理ユニットとしては、例えば多孔性樹脂膜Ｆに対して除電処理を行う帯電防止ユニットが挙げられる。帯電防止ユニットとしては、例えばイオナイザーなどの除電装置が搭載される。

また、後処理ユニットとして、例えば多孔性樹脂膜Ｆの一部を除去するケミカルエッチングユニット（不図示）を用いることができる。ケミカルエッチングユニットは、例えば上記実施形態の除去ユニット３０と同様の構成を有しており、処理液として、フッ酸溶液に代えてアルカリ溶液などが用いられる。処理液に多孔性樹脂膜Ｆを所定時間浸すことにより、多孔部Ａ４の内部が除去される。この場合、多孔部Ａ４のバリが取れると共に、連通性が確保されることになる。また、カバー部Ｃ及び吸水ローラＲ１〜Ｒ６と同様の構成が設けられるため、ケミカルエッチング液や洗浄液が外部に漏れ出すのを抑制することができ、処理環境の清浄化を図ることができる。

また、このようなケミカルエッチングユニットによって多孔性樹脂膜Ｆの一部を除去する場合、ケミカルエッチング法に限定するものではない。例えば、ケミカルエッチング法と物理的除去方法とを組合せた方法により多孔性樹脂膜Ｆの一部を除去するようにしてもよい。物理的な方法としては、例えば、プラズマ（酸素、アルゴン等）、コロナ放電等によるドライエッチング、研磨剤（例えば、アルミナ（硬度９）等）を液体に分散し、これを芳香族ポリイミドフィルムの表面に３０ｍ／ｓ〜１００ｍ／ｓの速度で照射することでポリイミドフィルム表面を処理する方法等が使用できる。これらの手法は、除去ユニット３０において焼成膜ＦＢから微粒子を除去する前及び微粒子の除去後のいずれの場合にも適用可能である。また、微粒子を除去した後に行う場合にのみ適用可能な物理的方法として、対象表面を液体で濡らした台紙フィルム（例えばＰＥＴフィルム等のポリエステルフィルム）に圧着後、乾燥しないで又は乾燥した後、多孔性樹脂膜Ｆを台紙フィルムから引きはがす方法を採用することもできる。液体の表面張力あるいは静電付着力に起因して、多孔性樹脂膜Ｆの表面層のみが台紙フィルム上に残された状態で、多孔性樹脂膜Ｆが台紙フィルムから引きはがされる。

例えば、上記実施形態及び変形例では、微粒子の含有率が異なる２種類の塗布液を用いて未焼成膜ＦＡを形成する場合を例に挙げて説明したが、これに限定するものではなく、１種類の塗布液で未焼成膜を形成するものであってもよい。この場合、第１ノズル１２及び第２ノズル１３のうちいずれか一方が用いられなくてもよいし、一方のノズルを省略してもよい。一方のノズルを省略する場合は、第１ノズル１２を省略し、第２ノズル１３を使用することが好ましい。

また、上記実施形態及び変形例では、塗布ユニット１０、焼成ユニット２０、除去ユニット３０が１台ずつ配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、上記ユニットの少なくとも１つが複数台設けられてもよい。この場合、例えば単位時間あたりに処理可能な未焼成膜ＦＡ、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆの分量（例、長さ、等）が少ないユニットを多く配置することにより、製造システムＳＹＳ全体の製造効率を高めることができる。また、各除去ユニット３０について、上側カバー部ＵＣ１〜ＵＣ６、下側カバー部ＬＣ１〜ＬＣ６及び吸水ローラＲ１〜Ｒ６が設けられるため、処理環境を清浄に維持ことができる。

また、上記実施形態及び変形例では、塗布ユニット１０、焼成ユニット２０、及び除去ユニット３０の各ユニットが、未焼成膜ＦＡ、焼成膜ＦＢ又は多孔性樹脂膜Ｆの各膜をＹ方向に沿って搬送する場合を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、いずれかのユニットが膜をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向又はこれらの合成方向に搬送してもよいし、１つのユニット内で搬送方向を適宜変更してもよい。

また、上記実施形態及び変形例では、塗布ユニット１０における塗布、焼成ユニット２０における焼成、除去ユニット３０における除去、の３つの工程を行う場合を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、塗布膜の材料としてポリイミド、ポリアミドイミド、又はポリアミドが用いられる場合、焼成を行わなくてもよい。このため、焼成を行わない場合、例えば焼成ユニット２０と除去ユニット３０との間に巻き取り装置及び送り出し装置等を設けることにより、塗布ユニット１０で形成された未焼成膜ＦＡを、焼成ユニット２０を介することなく、除去ユニット３０に搬入させることが可能となる。また、焼成を行わない場合、多孔性のイミド系樹脂膜を製造する製造システムは、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリアミド及び微粒子を含む液体を基材に塗布して未焼成膜を形成する塗布ユニットと、前記塗布ユニット内又は前記塗布ユニット外で前記基材から剥離した前記未焼成膜から前記微粒子を除去する除去ユニットとを含む製造システムとすることができる。なお、焼成を行わない場合、微粒子を除去する除去ユニット３０から多孔性樹脂膜Ｆを搬出させた後、前述のポストベーク処理工程を行ってもよい。また、ケミカルエッチングユニットを用いる場合には、ポストベーク処理工程前に、ケミカルエッチングユニットを介してもよい。この場合、ポストベーク処理工程は、例えばケミカルエッチングユニット内に加熱部を設け、この加熱部により行ってもよい。

また、上記実施形態及び変形例では、いわゆるロール・ツー・ロール方式によって多孔性樹脂膜Ｆを形成する構成を例に挙げて説明したが、これに限定するものではない。例えば、除去ユニット３０（又はケミカルエッチングユニット）における処理が終了した後、多孔性樹脂膜Ｆが除去ユニット３０（又はケミカルエッチングユニット）から搬出された場合に、巻き取り部８０で巻き取らせることなく所定の長さで切断し、切断したものを回収してもよい。

また、上記実施形態では、処理装置の処理対象物として多孔性樹脂膜Ｆ（多孔性のイミド系樹脂膜）を例に挙げて説明したが、これに限定するものではなく、他の種類の基板であってもよい。また、処理対象物を処理する液体として、エッチング液Ｑ１及び洗浄液Ｑ２を例に挙げて説明したが、これに限定するものではなく、例えば塗布液や表面処理液など、他の処理液が用いられた場合であっても、上記構成を適用することができる。

ＳＹＳ…製造システム Ｆ…多孔性樹脂膜 ＦＡ…未焼成膜 ＦＢ…焼成膜 Ｗ１…搬入側壁部 Ｗ２〜Ｗ４…仕切り壁部 Ｗ５…搬出側壁部 ＯＰ１〜ＯＰ５…開口部 Ｃ…カバー部 ＵＣ１〜ＵＣ６…上側カバー部（上部カバー） ＬＣ１〜ＬＣ６…下側カバー部（下部カバー） Ｒ１〜Ｒ８…吸水ローラ Ｑ１…エッチング液 Ｑ２…洗浄液 １０…塗布ユニット ２０…焼成ユニット ３０、３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ…除去ユニット ３１…チャンバー ３２…浸漬部 ３３…洗浄部 ３３ａ…第１洗浄部 ３３ｂ…第２洗浄部 ３２ｃ…上側ノズル ３２ｄ…下側ノズル １００…セパレータ ２００…リチウムイオン電池

Claims (14)

1. 長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により前記処理対象物を処理する処理部と、
   前記壁部の前記内部空間側に設けられ、前記開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、
   前記開口部の前記内部空間側に配置され、前記処理対象物に当接して前記処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、
   前記処理部は、前記処理対象物の搬送方向に沿って複数配置される処理装置。
2. 長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により前記処理対象物を処理する処理部と、
   前記壁部の前記内部空間側に設けられ、前記開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、
   前記開口部の前記内部空間側に配置され、前記処理対象物に当接して前記処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、
   前記開口部は、前記処理対象物を前記処理部に搬入する入口開口部と、前記処理対象物を前記処理部から搬出する出口開口部と、を有し、
   前記入口開口部及び前記出口開口部のそれぞれに、前記カバー部及び前記除去ローラが設けられる処理装置。
3. 長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により前記処理対象物を処理する処理部と、
   前記壁部の前記内部空間側に設けられ、前記開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、
   前記開口部の前記内部空間側に配置され、前記処理対象物に当接して前記処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、
   前記除去ローラは、前記処理対象物の搬送方向に多段に設けられる処理装置。
4. 長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により前記処理対象物を処理する処理部と、
   前記壁部の前記内部空間側に設けられ、前記開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、
   前記開口部の前記内部空間側に配置され、前記処理対象物に当接して前記処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備え、
   前記処理対象物は、多孔性のイミド系樹脂膜を含む処理装置。
5. 前記処理部は、前記処理対象物の上方から前記処理対象物に対して前記液体を供給する上側供給部を有し、
   前記カバー部は、前記開口部の上部に配置される上部カバーを有する
   請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の処理装置。
6. 前記上部カバーは、該上部カバーに付着した前記液体が前記処理対象物を避けて落下するように前記液体の流れる方向を規制する規制部を有する
   請求項５記載の処理装置。
7. 前記処理部は、前記処理対象物の下方から前記処理対象物に対して前記液体を供給する下側供給部を有し、
   前記カバー部は、前記開口部の下部に配置される下部カバーを有する
   請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の処理装置。
8. 前記カバー部は、端部が前記除去ローラまたは前記処理対象物に近接して配置される
   請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の処理装置。
9. 前記除去ローラは、前記液体を吸収する吸収部を有する
   請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の処理装置。
10. 前記除去ローラは、前記処理対象物を上下方向に挟むように一対設けられる
    請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の処理装置。
11. 前記重力方向の上方の前記除去ローラは、前記重力方向の下方の前記除去ローラを自重で押圧した状態で配置される
    請求項１０記載の処理装置。
12. 前記除去ローラは、駆動源に接続される
    請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の処理装置。
13. 前記処理部による処理は、前記処理対象物をエッチングする処理及び前記処理対象物を洗浄する処理の少なくとも一方を含む
    請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の処理装置。
14. 多孔性のイミド系樹脂膜を製造する製造システムであって、
    長さ方向が長い帯状の処理対象物を通過させる開口部を有する壁部で仕切られ、かつ内部空間において液体により前記処理対象物を処理する処理部と、
    前記壁部の前記内部空間側に設けられ、前記開口部の上方及び下方の少なくとも一方を囲うように設けられたカバー部と、
    前記開口部の前記内部空間側に配置され、前記処理対象物に当接して前記処理対象物に付着する液体を除去する除去ローラと、を備える処理装置を含む製造システム。

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