JP6383629B2 - ノズルプレート、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 - Google Patents
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Description
本発明によれば、凹部にリブが形成されているため、ノズルプレートの厚さを増加させることなく、ノズル列の延在方向周りの曲げに対するノズルプレートの強度を向上させることができる。また、凹部を形成する際には、リブに区分けされた領域毎に各別にエッチングを行うことになるので、隣り合うリブに挟まれた領域内における深さのばらつき、および隣り合うリブに挟まれた領域間における深さのばらつきを低減させることができる。これにより、凹部の底部におけるノズル孔の開口径のばらつきを抑制できる。したがって、高強度を有し、印字品質に優れたノズルプレートが得られる。
また、本発明によれば、ノズルプレートの表面に付着したインクをワイピングする際に、ワイパに付着したインクがリブによってそぎ落とされ、このリブに付着することを防止できる。これにより、インクが凹部に溜まることを防止できる。
本発明によれば、リブが各ノズル孔に対応して配置される構成に比べて、ノズル孔の吐出口周辺の空間を広く設けることができる。これにより、ノズル孔の吐出口から吐出されたインクがリブに付着し、ノズルプレートが汚れることを防止できる。
本発明によれば、ノズル列の延在方向周りの曲げに対するノズルプレートの強度をより向上させることができる。また、凹部の底部におけるノズル孔の開口径の精度をより向上させることができる。
本発明によれば、非吐出時においてノズル孔の内部にあるインクのメニスカスが、吐出口よりも内側(一面側)に形成される。このため、ノズルプレートの表面にインクが付着してノズルプレートが汚れることを防止できる。また、アクチュエータプレート側の開口径を大きく確保することで、ノズル孔内におけるインクの圧力を高め易くすることができ、インクの吐出性能を向上できる。
本発明によれば、加工性に優れ、かつ高耐久性を有するノズルプレートが得られる。
本発明によれば、上記のノズルプレートを備えているため、高強度を有し、印字品質に優れた液体噴射ヘッドを提供できる。
本発明によれば、上記の液体噴射ヘッドを備えているため、高強度を有し、印字品質に優れた液体噴射装置を提供できる。
(プリンタ)
図1は、プリンタの構成を示す斜視図である。
図1に示すように、プリンタ1は、記録紙等の被記録媒体Sを搬送する一対の搬送手段2,3と、被記録媒体Sに図示しないインクを噴射するインクジェットヘッド4と、インクジェットヘッド4にインクを供給するインク供給手段5と、インクジェットヘッド4を被記録媒体Sの搬送方向Yと直交する走査方向Xに走査させる走査手段6と、を備える。
なお、本実施形態では、搬送方向Yおよび走査方向Xの2方向に直交する方向を上下方向Zとする。
そして、一対の搬送手段2,3のグリッドローラ2A,3Aを回転させることで、被記録媒体Sを搬送方向Yに沿った矢印A方向に搬送することが可能とされている。
図示の例では、インクタンク10は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(B)の四色のインクがそれぞれ収容されたインクタンク10Y、10M、10C、10Bが搬送方向Yに並んで配置されている。インク配管11は、例えば可撓性を有するフレキシブルホースであり、インクジェットヘッド4を支持するキャリッジ16の動作(移動)に追従可能とされている。
駆動機構17は、一対のガイドレール15の間に配置され、走査方向Xに間隔をあけて配置された一対のプーリ18と、これら一対のプーリ18の間に巻回されて走査方向Xに移動する無端ベルト19と、一方のプーリ18を回転駆動させる駆動モータ20と、を備えている。
図示の例では、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(B)の各インクをそれぞれ噴射する4つのインクジェットヘッド4、すなわちインクジェットヘッド4Y,4M,4C,4Bが搭載されている。
次に、インクジェットヘッド4について説明する。
図2は、インクジェットヘッドの斜視図である。
図2に示すように、インクジェットヘッド4は、キャリッジ16に固定される固定プレート25と、この固定プレート25上に固定されたヘッドチップ26と、インク供給手段5から供給されたインクを、ヘッドチップ26の後述するインク導入孔41Aにさらに供給するインク供給部27と、ヘッドチップ26に駆動電圧を印加する制御手段28と、を備えている。
なお、これら流路部材31、圧力緩衝器32およびインク連結管33は、上記インク供給部27として機能する。
なお、これら制御回路35が搭載されたIC基板36、およびフレキシブル基板37は、上記制御手段28として機能する。
続いて、ヘッドチップ26について詳細に説明する。
図3は、ヘッドチップの斜視図、図4は、ヘッドチップの分解斜視図である。
図3および図4に示すように、ヘッドチップ26は、アクチュエータプレート40、カバープレート41、支持プレート42、およびノズルプレート43を備えている。ヘッドチップ26は、後述する液体噴射チャネル45Aの長手方向端部に臨むノズル孔47からインクを吐出する、いわゆるエッジシュートタイプとされている。
このアクチュエータプレート40は、厚さ方向L1に直交する第1方向(配列方向)L2に長く、厚さ方向L1および第1方向L2に対して直交する第2方向L3に短い、平面視略長方形状に形成されている。
このうち、液体噴射チャネル45Aは、アクチュエータプレート40の上端面40E側に開口することなく、下端面40D側にだけ開口した状態で形成されている。一方、ダミーチャネル45Bについては、アクチュエータプレート40の下端面40D側だけでなく、上端面40E側にも開口するように形成されている
一方、ダミーチャネル45Bの内壁面のうち、第1方向L2に向かい合う一対の側壁面には、不図示のダミー電極がそれぞれ形成されている。これらダミー電極は、ダミーチャネル45Bに沿って第2方向L3に延び、アクチュエータプレート40の一方の主面40C上に形成されたダミー端子(電極端子部)53に導通している。
このインク導入孔41Aには、流路部材31を介して供給されてきたインクを液体噴射チャネル45A内に導入させ、かつダミーチャネル45B内への導入を規制する複数のスリット55Aが形成されたインク導入板55が形成されている。つまり、複数のスリット55Aは、液体噴射チャネル45Aに対応する位置に形成されており、各液体噴射チャネル45A内にのみインクを充填することが可能とされる。
ノズルプレート43は、例えばガラスにより形成された矩形板状の部材である。なお、ガラスに限らず、ステンレスによりノズルプレート43を形成してもよい。
ノズルプレート43の厚さは、例えば50〜100μm程度に設定されている。ノズルプレート43は、支持プレート42およびアクチュエータプレート40の下端面40Dに、例えば接着等により固定されている。
図5〜7に示すように、複数のノズル孔47は、第1方向L2に所定の間隔をあけて形成されている。ノズル孔47は、裏面側から表面側に向かって先細りとなるように円錐台状に形成されている。図4に示すように、これらノズル孔47は、複数の液体噴射チャネル45Aに対してそれぞれ対向する位置に形成され、一列に並んでノズル列48を構成している。そして、各ノズル孔47は、それぞれ対応する液体噴射チャネル45A内に連通している。なお、通常時にノズル孔47からインクが吐出されないように、各ノズル孔47において適切なメニスカスが保たれている。
図6および図7に示すように、凹部60は、表面側から裏面側に向かって先細りとなる四角錐台状に形成され、ノズルプレート43の厚さの半分よりもやや深くなっている。凹部60は、その底部においてノズル孔47と連通する吐出口47aを形成している。つまり、吐出口47aはノズル孔47の先端であり、凹部60とノズル孔47との境界に位置している。
次に、図8〜17に基づいて、本実施形態のノズルプレート43の製造方法について説明する。
図8は、第1実施形態におけるノズルプレートの製造方法を示すフローチャートである。図9〜17は、第1実施形態におけるノズルプレートの製造方法を示す工程図であり、図5のVI−VI線に相当する部分における断面図である。
まずノズル孔形成工程S10を行う。ノズル孔形成工程S10は、母材71の表面にノズル孔形成用のエッチングマスク74を形成する第1エッチングマスク形成工程S11と、エッチングマスク74を介して母材71のエッチングを行う第1エッチング工程S13と、エッチングマスク74を除去する第1マスク除去工程S15と、を有する。
図9に示すように、第1エッチングマスク形成工程S11では、まず母材71の一面にノズル孔形成用のエッチングマスク74の形成材料となる金属膜72を形成する。金属膜72の形成材料としては、例えばクロム等を用いる。
次に、図10に示すように、金属膜72の表面上にフォトレジスト膜73を形成する。次いで、フォトレジスト膜73に対して、ノズル孔47に対応する円形状の遮光パターンを有するノズル孔形成用のフォトマスクを用いて露光する。その後、フォトレジスト膜73を現像することで、フォトレジスト膜73にノズル孔47に対応する開口部73aが形成される。
次に、図11に示すように、フォトレジスト膜73の開口部73aを介して、金属膜72をエッチングする。これにより、金属膜72には、ノズル孔47に対応する開口部72aが形成され、ノズル孔形成用のエッチングマスク74となる。
図12に示すように、第1エッチング工程S13では、エッチングマスク74をマスクとして、母材71をエッチングする。この第1エッチング工程S13では、ドライエッチング方式を用いて異方性エッチングを行う。この際、エッチング量は、母材71の厚さの半分程度の深さとする。これにより、母材71の一面側には、円錐台状のノズル孔47が、母材71の厚さ方向に非貫通の状態で形成される。
図13に示すように、第1マスク除去工程S15では、エッチングマスク74を構成するフォトレジスト膜73および金属膜72を除去する。なお、フォトレジスト膜73が第1エッチング工程S13におけるドライエッチングにより消滅している場合には、金属膜72の除去のみを行う。
次に凹部形成工程S20を行う。凹部形成工程S20は、母材71の表面に凹部形成用のエッチングマスク78を形成する第2エッチングマスク形成工程S21と、エッチングマスク78を介して母材71のエッチングを行う第2エッチング工程S23と、エッチングマスク78を除去する第2マスク除去工程S25と、を有する。
図14に示すように、第2エッチングマスク形成工程S21では、ノズル孔47が形成された母材71の両面に、凹部形成用のエッチングマスク78の形成材料となる金属膜76を形成する。金属膜76の形成材料としては、金属膜72と同様に、例えばクロム等を用いる。
次に、図15に示すように、金属膜76の表面上にフォトレジスト膜77を形成する。次いで、フォトレジスト膜77に対して、リブ61が形成された凹部60に対応する遮光パターンを有する凹部形成用のフォトマスクを用いて露光する。その後、フォトレジスト膜77を現像することで、フォトレジスト膜77にリブ61が形成された凹部60に対応する開口部77aが形成される。次いで、フォトレジスト膜77の開口部77aを介して、金属膜76をエッチングする。これにより、金属膜76には、リブ61が形成された凹部60に対応する開口部76aが形成され、凹部形成用のエッチングマスク78となる。
図16に示すように、第2エッチング工程S23では、エッチングマスク78をマスクとして、母材71をエッチングする。この第2エッチング工程S23では、第1エッチング工程S13と同様に、ドライエッチング方式を用いて異方性エッチングを行う。この際、エッチング量は、母材71の厚さの半分よりやや深い程度とする。これにより、母材71の他面側には、凹部60が形成されるとともに、母材71の一面側に形成されたノズル孔47が、凹部60の底面と連通する。
図17に示すように、第2マスク除去工程S25では、エッチングマスク78を構成するフォトレジスト膜77および金属膜76を除去する。なお、第1マスク除去工程S15と同様に、フォトレジスト膜77が第2エッチング工程S23におけるドライエッチングにより消滅している場合には、金属膜76の除去のみを行う。
以上により、ノズルプレート43の製造は終了する。
この構成によれば、凹部60にリブ61が形成されているため、ノズルプレート43の厚さを増加させることなく、ノズル列48の延在方向(第1方向L2)周りの曲げに対するノズルプレート43の強度を向上させることができる。また、凹部60を形成する際には、リブ61に区分けされた領域毎に各別にエッチングを行うことになるので、隣り合うリブ61に挟まれた領域内における深さのばらつき、および隣り合うリブ61に挟まれた領域間における深さのばらつきを低減させることができる。これにより、凹部60の底部におけるノズル孔47(吐出口47a)の開口径のばらつきを抑制できる。したがって、高強度を有し、印字品質に優れたノズルプレート43が得られる。
次に、図18に基づいて、本実施形態の変形例におけるノズルプレート143について説明する。
図18は、第1実施形態の変形例におけるノズルプレートの表面側から見た平面図である。
ここで、図5〜7に示す第1実施形態では、リブ61が隣り合う3つのノズル孔47を間に挟んだ両側に配置されていた。一方で、図18に示す変形例では、リブ61が各ノズル孔47の両側に配置されている点で、第1実施形態と異なっている。なお、図5〜7に示す第1実施形態と同様の構成となる部分については、詳細な説明を省略する(以下の実施形態についても同様)。
このように構成することで、ノズル列48(図3参照)の延在方向(第1方向L2)周りの曲げに対するノズルプレート143の強度をより向上させることができる。また、凹部60の底部におけるノズル孔47(吐出口47a)の開口径の精度をより向上させることができる。
(ノズルプレート)
次に、図19〜21に基づいて、第2実施形態におけるノズルプレート243について説明する。
図19は、第2実施形態におけるノズルプレートの表面側から見た平面図である。図20は、図19のXX−XX線に沿う断面図である。図21は、図19のXXI−XXI線に沿う断面図である。
ノズル孔247は、裏面側から表面側に向かって先細りとなるように椀状に形成されている。
掘り込み部260aは、平面視においてノズル孔247よりも大きい円形状に形成されている。掘り込み部260aは、表面側から裏面側に向かって先細りとなる椀状に形成され、ノズルプレート243の厚さの半分よりもやや深くなっている。掘り込み部260aは、その底部においてノズル孔247と連通する吐出口247aを形成している。つまり、吐出口247aはノズル孔247の先端であり、凹部260とノズル孔247との境界に位置している。この掘り込み部260aが第1方向L2に沿って連なるように配置されることで、凹部260が形成されている。このとき、各掘り込み部260aは、平面視において隣り合う掘り込み部260aと重複するように配置されている。
次に、図22〜29に基づいて、本実施形態のノズルプレート243の製造方法について説明する。
図22〜29は、第2実施形態におけるノズルプレートの製造方法を示す工程図であり、図19のXX−XX線に相当する部分における断面図である。
まずノズル孔形成工程を行う。ノズル孔形成工程は、母材71の表面にノズル孔形成用のエッチングマスク274を形成する第1エッチングマスク形成工程と、エッチングマスク274を介して母材71のエッチングを行う第1エッチング工程と、エッチングマスク274を除去する第1マスク除去工程と、を有する。
図22に示すように、第1エッチングマスク形成工程では、まず母材71の両面にノズル孔形成用のエッチングマスク274の形成材料となる金属膜272を形成する。金属膜272の形成材料としては、クロム等の金属を下地層とし、金等の金属を上地層とした積層膜を用いる。
次に、図23に示すように、金属膜272の表面上にフォトレジスト膜273を形成する。次いで、一面側のフォトレジスト膜273に対して、ノズル孔247に対応する円形状の遮光パターンを有するノズル孔形成用のフォトマスクを用いて露光する。その後、フォトレジスト膜273を現像することで、フォトレジスト膜273にノズル孔247に対応する開口部273aが形成される。
次に、図24に示すように、フォトレジスト膜273の開口部273aを介して、金属膜272をエッチングする。これにより、金属膜272には、ノズル孔247に対応する開口部272aが形成され、ノズル孔形成用のエッチングマスク274となる。
図25に示すように、第1エッチング工程では、エッチングマスク274をマスクとして、母材71をエッチングする。この第1エッチング工程では、ウェットエッチング方式を用いて等方性エッチングを行う。この際、エッチング量は、母材71の厚さの半分程度の深さとする。これにより、母材71の一面側には、他面側に向かって先細りとなる椀状のノズル孔247が、母材71の厚さ方向に非貫通の状態で形成される。
図26に示すように、第1マスク除去工程では、エッチングマスク274を構成するフォトレジスト膜273、および金属膜272のうち母材71の一面側に形成された金属膜272を除去する。具体的には、母材71の一面側(ノズル孔247を形成した表面側)に形成されたフォトレジスト膜273を、例えば酸素プラズマアッシング等により除去し、母材71の一面側に形成された金属膜272を露出させる。次いで、露出した金属膜272をウェットエッチングにより除去する。次いで、母材71の他面側に形成されたフォトレジスト膜273を、上記フォトレジスト膜273の除去と同様に、例えば酸素プラズマアッシング等により除去する。これにより、母材71上には、他面側(ノズル孔247を形成した表面とは反対側)に形成された金属膜272のみが残され、後述する凹部形成工程においてエッチングマスク278を形成する金属膜として利用することができる。
次に凹部形成工程を行う。凹部形成工程は、母材71の表面に凹部形成用のエッチングマスク278を形成する第2エッチングマスク形成工程と、エッチングマスク278を介して母材71のエッチングを行う第2エッチング工程と、エッチングマスク278を除去する第2マスク除去工程と、を有する。
図27に示すように、第2エッチングマスク形成工程では、ノズル孔247が形成された母材71の一面側に、凹部形成時の保護膜の形成材料となる金属膜276を形成する。金属膜276の形成材料としては、金属膜272と同様に、クロム等の金属を下地層とし、金等の金属を上地層とした積層膜を用いる。なお、母材71の他面側は、上述した第1マスク除去工程において残した金属膜272を、第2エッチングマスク形成工程における他面側のマスクとして活用する。
図29に示すように、第2エッチング工程では、エッチングマスク278をマスクとして、母材71をエッチングする。この第2エッチング工程では、ウェットエッチング方式を用いて等方性エッチングを行う。これにより、母材71のエッチングは、平面視において各開口部272bを中心に広がるように進行し、各掘り込み部260aが平面視において隣り合う掘り込み部260aと重複するように形成され、凹部260の深さよりも低いリブ261が形成される。また、エッチング量を母材71の厚さの半分よりやや深い程度とすることで、母材71の他面側には、凹部260が形成されるとともに、母材71の一面側に形成されたノズル孔247が、凹部260の底面と連通する。
なお、第2エッチング工程においてエッチング不足が生じ、ノズル孔247と凹部260とが連通しなかった際には、再度ウェットエッチングを行うことでノズル孔247と凹部260とを連通させる。このとき、凹部260はノズル孔247と比べて外側の開口面積が広いため、凹部260にはノズル孔247に比べて気泡が入りにくい。このため、ノズル孔247を所定の形状に形成した後に凹部260を形成する構成とすることで、再度ウェットエッチングを行う必要性が生じた場合も、気泡の入り込みによるエッチングのばらつきを抑制でき、凹部260を高い寸法精度で形成できる。したがって、凹部260の底部におけるノズル孔247(吐出口247a)の開口径に、ばらつきが生じることを抑制できる。
しかしながらこれに限られることなく、凹部260を先にエッチングにより形成してもよい。
例えば、上記実施形態においては、ノズル孔47,247は裏面側から表面側に向かって先細りとなる円錐台状または椀状に形成されているが、これに限定されず、例えば漏斗状に形成されてもよい。
Claims (7)
- 一面側に形成され、液滴が吐出される複数のノズル孔を有するノズル列と、
他面側に形成され、前記ノズル列の延在方向に沿って前記ノズル孔と連通するように形成された凹部と、を備え、
前記凹部には、隣り合う前記ノズル孔の間に、少なくとも1箇所リブが形成され、
前記リブの高さは、前記凹部の深さよりも低く設定されている、
ことを特徴とするノズルプレート。 - 請求項1に記載のノズルプレートにおいて、
前記リブは、隣り合う少なくとも2つの前記ノズル孔を間に挟んだ両側に配置されている、
ことを特徴とするノズルプレート。 - 請求項1に記載のノズルプレートにおいて、
前記リブは、前記ノズル孔の各々の周囲に配置されている、
ことを特徴とするノズルプレート。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載のノズルプレートにおいて、
前記複数のノズル孔は、前記他面側に向かって先細りとなるように椀状に形成されている、
ことを特徴とするノズルプレート。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載のノズルプレートにおいて、
ガラスおよびステンレスの少なくとも何れか一方により形成されている、
ことを特徴とするノズルプレート。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載のノズルプレートと、
前記ノズルプレートに接合され、前記ノズル孔と連通する複数のチャネルを有するアクチュエータプレートと、
を備えていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項6に記載の液体噴射ヘッドを備えていることを特徴とする液体噴射装置。
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