JP6381210B2 - 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法 - Google Patents

光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6381210B2
JP6381210B2 JP2013272043A JP2013272043A JP6381210B2 JP 6381210 B2 JP6381210 B2 JP 6381210B2 JP 2013272043 A JP2013272043 A JP 2013272043A JP 2013272043 A JP2013272043 A JP 2013272043A JP 6381210 B2 JP6381210 B2 JP 6381210B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
optical element
cross
element unit
section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013272043A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015126215A5 (ko
JP2015126215A (ja
Inventor
健太郎 牛久
健太郎 牛久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2013272043A priority Critical patent/JP6381210B2/ja
Publication of JP2015126215A publication Critical patent/JP2015126215A/ja
Publication of JP2015126215A5 publication Critical patent/JP2015126215A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6381210B2 publication Critical patent/JP6381210B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
JP2013272043A 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法 Active JP6381210B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272043A JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272043A JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015126215A JP2015126215A (ja) 2015-07-06
JP2015126215A5 JP2015126215A5 (ko) 2017-02-09
JP6381210B2 true JP6381210B2 (ja) 2018-08-29

Family

ID=53536693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013272043A Active JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6381210B2 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI718507B (zh) * 2019-03-25 2021-02-11 大陸商信泰光學(深圳)有限公司 光學模組
CN111736289B (zh) 2019-03-25 2022-06-17 信泰光学(深圳)有限公司 光学模块

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3462997B2 (ja) * 1999-05-11 2003-11-05 シャープ株式会社 光学ピックアップ用対物レンズの調整方法および光学ピックアップ用対物レンズならびに対物レンズ鏡筒およびその調整方法
JP2005524985A (ja) * 2002-05-08 2005-08-18 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー 結晶材料からなるレンズ
JP2004146792A (ja) * 2002-08-29 2004-05-20 Nikon Corp 光学部材の保持装置、照明光学装置、露光装置および露光方法
JP2004253583A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Nikon Corp 投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置、および露光方法
JP4106289B2 (ja) * 2003-02-21 2008-06-25 シャープ株式会社 光ピックアップレンズ及びそれを有する光学ピックアップ装置
JP2006059421A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Olympus Corp 光ピックアップ用光学素子およびそれを用いた光ピックアップ
US7372633B2 (en) * 2006-07-18 2008-05-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, aberration correction device and device manufacturing method
JP5935975B2 (ja) * 2011-11-14 2016-06-15 株式会社ニコン 光学部材位置調整装置、投影光学系及びその調整方法、並びに露光装置
JP6055179B2 (ja) * 2011-12-19 2016-12-27 株式会社トプコン 回転角検出装置及び測量装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015126215A (ja) 2015-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101642552B1 (ko) 계측 방법, 노광 방법 및 장치
US20090214962A1 (en) Exposure apparatus
TWI722389B (zh) 圖案形成裝置、對齊標記檢測方法和圖案形成方法
TWI417679B (zh) 微影裝置及圖案化元件
JP2009004771A (ja) 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
TW200305928A (en) Exposure apparatus and method
TW201530264A (zh) 曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法
TW201800875A (zh) 微影裝置
JP2006005197A (ja) 露光装置
JP6381210B2 (ja) 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法
KR102180702B1 (ko) 리소그래피 장치, 물품의 제조 방법, 및 계측 장치
JP5489849B2 (ja) 位置計測装置及び方法、露光装置並びにデバイス製造方法
JP5057235B2 (ja) 較正方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置
JP6238580B2 (ja) 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
JP6727554B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2010192744A (ja) 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2005085991A (ja) 露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法
JP6748428B2 (ja) リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置
WO2012073483A1 (ja) マーク検出方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US20140168623A1 (en) Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing device
JP2006066836A (ja) 光学部材の支持構造、及び露光装置
JPH11233424A (ja) 投影光学装置、収差測定方法、及び投影方法、並びにデバイス製造方法
JP6226525B2 (ja) 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
KR102605876B1 (ko) 리소그래피 장치, 판정 방법, 및 물품 제조 방법
JP2005129557A (ja) 収差測定装置、露光装置、収差測定方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161221

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171010

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180424

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180619

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180703

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180731

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6381210

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151