JP6378610B2 - 熱処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、熱処理装置に関する。
従来から、反応管の周囲に発熱体を設け、この初滅体により反応管内を加熱して被処理体を熱処理する熱処理装置において、発熱体の周囲に気密な空間を介して設けられた熱輻射板と、気密な空間を減圧する減圧手段とを備え、反応管を昇温させるときには減圧手段により気密な空間を減圧することを特徴とする熱処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開平7−283160号公報
しかしながら、上述の特許文献1に記載の構成では、1つの気密な空間が発熱体の周囲全体を覆っているため、減圧による調整は常に全体に対して行われ、領域毎に異なる減圧調整を行うことはできなかった。
ところが、反応管は熱処理の対象となる基板の搬入・搬出のための開口を確保する必要があるため、発熱体を反応管の周囲全体に均一に設けることは不可能であり、そのため、熱処理時の反応管内の温度を均一に保つことは困難であった。上述の特許文献1に記載の構成では、領域毎の個別の断熱能力の調整は不可能であり、反応管の温度分布を考慮した領域毎の断熱能力の制御は不可能であった。
そこで、本発明は、領域毎に断熱能力の調整が可能な熱処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る熱処理装置は、処理容器と、
該処理容器の周囲に設けられた発熱体と、
該発熱体の周囲に、該発熱体の異なる領域をカバーするように分割して設けられた複数の断熱手段と、
該複数の断熱手段の各々に接続された複数の排気管と、
該複数の排気管に接続された減圧排気手段と、を有し、
前記複数の排気管の各々には、個々に圧力調整が可能な圧力調整手段が設けられている。
本発明によれば、断熱手段の断熱能力を領域毎に調整することができる。
本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置の一例の概略構成図である。 本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置について、断熱カバー部に関連する構成を中心に示した図である。 第1の構成例に係る断熱ユニットを示した図である。 第2の構成例に係る断熱ユニットを示した図である。 第3の構成例に係る断熱ユニットを示した図である。 第4の構成例に係る断熱ユニットを示した図である。 本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置の一例の減圧排気構造を示した図である。 本発明の第2の実施形態に係る熱処理装置の一例の構成を示した図である。 第2の実施形態に係る熱処理装置の部分的変形例を示した図である。 第1の構成例に係るヒータエレメントを示した図である。 第2の構成例に係るヒータエレメントを示した図である。 第3の構成例に係るヒータエレメントを示した図である。 第1の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第2の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第3の構成例に係る断熱ユニットの構造を示した図である。図15(a)は、第3の構成例に係る断熱ユニットの個々の構造を示した図である。図15(b)は、第3の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第4の構成例に係る断熱ユニットの構造を示した図である。 第5の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第6の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第7の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第8の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第9の構成例に係る断熱ユニットの積載構造を示した図である。 第10の構成例に係る断熱ユニットの構造を示した図である。 第11の構成例に係る断熱ユニットの構造を示した図である。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置の一例の概略構成図である。なお、本明細書においては、一例として半導体装置を形成するための縦型熱処理装置の例について説明する。しかしながら、本発明はこの点において限定されず、他の種々のタイプの熱処理装置であっても良い。
図1に示すように、縦型の熱処理装置2は、長手方向が垂直である処理容器4を有する。処理容器4は、有天井の外筒6と、外筒6の内側に同心的に配置された円筒体の内筒8とを有する、2重管構造で構成される。
外筒6及び内筒8は、石英などの耐熱性材料から形成される。外筒6及び内筒8は、ステンレスなどから形成されるマニホールド10によって、その下端部が保持される。マニホールド10は、ベースプレート12に固定される。なお、マニホールド10を設けず、処理容器4全体を、例えば石英により形成する構成であっても良い。
マニホールド10の下端部の開口には、例えばステンレススチール等からなる円盤状のキャップ部14が、O−リング等のシール部材16を介して気密封止可能に取り付けられている。つまり、キャップ部14は、処理容器4の下端部の開口を開閉可能に設けられた蓋体である。また、キャップ部14の略中心部には、例えば磁性流体シール18により気密状態で回転可能な回転軸20が挿通されている。この回転軸20の下端は回転機構22に接続されており、回転軸20の上端は、例えばステンレススチールよりなるテーブル24が固定されている。
テーブル24上には、例えば石英製の保温筒26が設置されている。また、保温筒26上には、支持具として例えば石英製のウエハボート28が載置される。ウエハボート28は、ウエハWを載置保持可能な保持部材である。
ウエハボート28には、例えば50〜150枚の基板としての半導体ウエハWが、所定の間隔、例えば10mm程度のピッチで収容される。ウエハボート28、保温筒26、テーブル24及びキャップ部14は、例えばボートエレベータである昇降機構30により、処理容器4内に一体となってロード、アンロードされる。
このように、キャップ部14には、磁気流体シール18、回転軸20、テーブル24及び保温筒26が設けられ、これらを介してウエハボート28を載置支持することができる。
マニホールド10の下部には、処理容器4内に処理ガスを導入するための、ガス導入手段32が設けられる。ガス導入手段32は、マニホールド10を気密に貫通するように設けられたガスノズル34を有する。
なお、図1では、ガス導入手段32が1つ設置される構成を示したが、本発明はこの点において限定されない。使用するガス種の数などに依存して、複数のガス導入手段32を有する熱処理装置であっても良い。また、ガスノズル34から処理容器4へと導入されるガスは、図示しない流量制御機構により、流量制御される。
マニホールド10の上部には、ガス出口36が設けられており、ガス出口36には排気系38が連結される。排気系38は、ガス出口36に接続された排気通路40と、排気通路40の途中に順次接続された圧力調整弁42及び真空ポンプ44とを含む。排気系38により、処理容器4内の雰囲気を圧力調整しながら排気することができる。
処理容器4の外周側には、処理容器4の周囲を囲むようにしてウエハWなどの基板を加熱するヒータエレメント48が設けられる。ヒータエレメント48は、処理容器4及び処理容器4内のウエハWを加熱するための加熱手段であり、発熱体から構成される。ヒータエレメント48は、処理容器4及びウエハWを加熱できれば、種々の手段から構成されてよいが、例えば、抵抗発熱線から構成されてもよい。ヒータエレメント48が抵抗発熱線で構成されている場合、ヒータエレメント48に電流を流すことにより、ヒータエレメント48が発熱し、処理容器4及び内部のウエハWを加熱することができる。
ヒータエレメント48の外周側には、断熱カバー部50が設けられる。断熱カバー部50は、熱処理装置2の全体を断熱しつつカバーしている。断熱カバー部50は、分割された複数の断熱ユニット51、54を備え、全体として1つの断熱カバー部50として構成されている。断熱ユニット51は、ケーシング52と、断熱部材52とを備える。また、同様に、断熱ユニット54も、ケーシング55と、断熱部材56とを備える。断熱ユニット51と断熱ユニット54は、形状が異なるだけであり、構造自体は同じである。具体的には、断熱ユニット51は、略円筒状の処理容器4及びヒータエレメント48の側面を覆うため、円筒形状に構成されている。一方、断熱ユニット54は、処理容器4及びヒータエレメント48の上面を覆うため、円盤形状に構成されている。上面を覆う断熱ユニット54は、1つだけであるが、側面の一部を覆う断熱ユニット51は、複数積み重ねられるように設けられ、全体で処理容器4及びヒータエレメント48の側面全体をカバーしている。
なお、ケーシング52は、密閉空間を形成するための筐体であり、個々のケーシング52は、排気管を介して減圧排気が可能に構成される。図1には、紙面の都合上、そのような構成が記載されていないが、断熱ユニット51の構成の詳細については後述する。また、ケーシング52は、内部に断熱部材53を収容可能に構成される。断熱部材53は、いわゆる断熱材の他、リフレクター等、断熱に関連する種々の構成部品を含む。ケーシング52は、用途に応じて種々の材料から構成されてよいが、例えば、石英から構成されてもよい。石英は、耐熱性が高く、パーティクルも発生し難いので、半導体製造プロセスに好適に使用され得る。本実施形態においても、処理容器4は石英で形成されており、断熱ユニット51のケーシング52も、石英で構成されることが好ましい。
なお、上述のように、ケーシング52は、減圧排気により減圧が可能な程度の密閉性を有するので、内部に収容している断熱部材53から粉飛散があった場合であっても、飛散した粉がケーシング51の外部にまで飛散することを防ぐ。構成的にも、ケーシング51は、断熱部材52の周囲全体を覆っているので、断熱部材52からの飛散物の流出を防ぐことができる。よって、断熱部材52に用いる断熱材としては、粉飛散の少ないセラミックファイバーのみならず、粉飛散が多いヒュームドシリカ系の断熱材も使用することができる。ヒュームドシリカ系の断熱材は、主成分がシリカ(SiO)であり、添加物として炭化ケイ素(SiC)や酸化チタン(TiO)等が加えられた断熱材であり、従来から熱処理装置2に用いられているセラミックファイバーよりも高い断熱性能を有するため、本実施形態に係る断熱ユニット51及びこれから構成される断熱カバー部50は、従来の断熱材よりも高性能に構成することができる。
図1に示すように、ヒータエレメント48は、断熱部材50のケーシング51の内周面上に、螺旋状に巻回して配置されてもよい。図1において、ヒータエレメント48は、断熱層50の内周側に、側面の軸方向全体に亘って巻回して設けられている。なお、ヒータエレメント48は、実際には、断熱部材50のケーシング51の内周面に設けられた保持構造により保持されて設けられるが、図1では、そのような詳細の構成は省略している。
また、ヒータエレメント48は、軸方向において、複数のゾーン(例えば4つのゾーン)に分割されて構成されてもよい。例えば、各々のゾーン毎に断熱部材50に設けられる図示しない熱電対により検出した温度に基づいて、図示しない制御部により、各ゾーン毎に独立して個別に温度制御できる構成とされてもよい。
次に、図2を用いて、本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置の構成をより詳細に説明する。図2は、本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置について、断熱カバー部50に関連する構成を中心に示した図である。
図2において、断熱カバー部50は、処理容器4及びヒータエレメント48の側面を覆う複数の円筒形状の断熱ユニット51と、処理容器4及びヒータエレメント48の上面を覆う1つの円盤形状の断熱ユニット54とを備える。更に、断熱カバー部50は、必要に応じて、ヒータエレメント48の下端の更に下方に設けられた円筒形状の断熱ユニット57と、処理容器4の下部に設けられた円柱形状の断熱ユニット60と、断熱ユニット57、60の更に下方に設けられた断熱ユニット63とを備える。
断熱ユニット51、54、57、60、63は、各々排気管70を有し、各々の排気管70には、バルブ80が設けられている。また、各排気管70は、共通排気管72を介して、真空ポンプ90に接続されている。
断熱ユニット57は、キャップ部14の周縁部上であって、ヒータエレメント48の下端の更に下方に設けられる。つまり、ヒータエレメント48を下方から覆うように設けられる。一方、断熱ユニット60は、キャップ部14の中央部上であって、処理容器4の下部に設けられる。熱処理時には、ウエハWが保持されたウエハボート28が処理容器4内に収容されているので、熱処理中は、断熱ユニット60は、ウエハボート28の直下に設けられる。なお、断熱ユニット60は、図1で示された保温筒26に該当する。つまり、図1の保温筒26の具体的内部構成が、断熱ユニット60の構成となっている。断熱ユニット51、54、57、60は、全体としては処理容器4及びヒータエレメント48の周囲に配置され、処理容器4及びヒータエレメント48をカバーしている。
また、断熱ユニット63は、断熱ユニット57、60の双方の下面を下方から覆うように設けられ、更に断熱効果を高めている。断熱ユニット63は、水平方向に延び、縦長の断熱ユニット57、60を遮る方向に延在し、断熱ユニット57、60同士の間の隙間も覆っているので、断熱ユニット57、60の断熱効果を別の角度から補うことができる。なお、断熱ユニット63は、キャップ部14に相当し、キャップ部14の内部構成が、断熱ユニット63の構成となっていることを意味する。
なお、断熱ユニット57はケーシング58と、ケーシング58内に収容された断熱部材59を有し、これらは、断熱ユニット51のケーシング51と断熱部材53に相当する。同様に、断熱ユニット60も、ケーシング61とその内部に収容された断熱部材62を有するが、これらはそれぞれ断熱ユニット51のケーシング51と断熱部材53に相当する。また同様に、断熱ユニット63も、ケーシング64とその内部に収容された断熱部材65を有するが、これらはそれぞれ断熱ユニット51のケーシング51と断熱部材53に相当する。よって、断熱ユニット51、54、57、60、63の構成は、以後、断熱ユニット51を代表例として説明する。そして、断熱ユニット51に関する説明は、断熱ユニット54、57、60、63にも適用可能であり、断熱ユニット54、57、60、63の個別の説明は省略する。
図2に示す第1の実施形態に係る熱処理装置2において、断熱カバー部50は複数に分割され、各々が排気管70、72、バルブ80、真空ポンプ90からなる真空ラインに接続されている。ここで、バルブ80はバルブ開度の調整により圧力を調整する圧力調整手段であり、真空ポンプ90は、排気管70、72を介して断熱ユニット51、54、57、60を真空排気する排気手段である。各断熱ユニット51、54、57、60が個別の真空ラインに接続された構成により、用途に応じて各断熱ユニット51、54、57、60、63の断熱性能を変化させることができる。
例えば、省エネモードで熱処理装置2を使用する場合や、高温プロセスでの熱処理装置2の使用時には、断熱ユニット51、54、57、60からの排気量を増加させ、全体の断熱性能を上げて使用するようにする。一方、低温プロセスでの熱処理装置2の使用時、又は熱処理装置2自体が高温であることを許容する状態では、各断熱ユニット51、54、57、60からの排気量を減少させ、全体の断熱性能を低下させて使用する。また、処理容器4内の昇降温スピードを揃えたい場合には、処理容器4のボトム側にある断熱ユニット51、57、60からの排気量を増加させて断熱性能を向上させる一方、トップ側にある断熱ユニット51、54からの排気量を減少させて断熱性能を低下させて使用する。これは、一般的に、ボトム側からの熱の流出が大きく、トップ側の熱の流出は小さいため、ボトム側の断熱性能をトップ側より高めた方が、昇降温スピードは均一化されるからである。更に、制御し難いゾーンにある断熱ユニット51、54、57、60だけ制御し易くなるように断熱性能を低下させる筒、用途に応じて種々の使用方法が可能である。このように、領域毎に分割された断熱ユニット51、54、57、60を設けるとともに、この排気量を個別に制御して断熱能力を個別に調整可能とすることにより、用途に応じた柔軟で多様な使用方法が可能となる。
図2に示すように、ヒータエレメント48が領域毎に分割して構成され、複数設けられている場合、断熱ユニット51、54は、ヒータエレメント48に1対1に対応させて設けるようにしてもよい。これにより、各ヒータエレメント48に対応して各断熱ユニット51、54の断熱能力を調整することができ、より高精度な断熱能力の制御を行うことができる。
なお、かかる制御は、制御部100で行うようにしてよい。制御部100は、真空ポンプ90の排気量及びバルブ70のバルブ開度を調整可能に構成される。制御部100は、例えば、CPU(Central Processing Unit、中央処理装置)、メモリ等を備え、プログラムを読み込むことにより動作するプロセッサとして構成されてもよいし、特定の用途に開発されたASIC(Application Specified Integrated Circuit)等の集積回路で構成されてもよい。また、制御部100がバルブ70を制御する場合には、バルブ70は電磁バルブとして構成することが好ましい。
次に、図3〜6を用いて、断熱ユニット51、54、57、60の種々の構成例について説明する。上述のように、断熱ユニット51を代表例として採り上げて説明する。
図3は、第1の構成例に係る断熱ユニット510を示した図である。第1の構成例に係る断熱ユニット510は、ケーシング52と、ケーシング52内に収容されたリフレクター530を有する。リフレクター530は、光を反射して遮光し、断熱性能を向上させるための手段であり、遮光手段として機能する。例えば、鉛直方向に中心軸を有する円筒形状のリフレクター530を収容することにより、ヒータエレメント48からの輻射熱を反射し、断熱ユニット510の断熱性能を向上させることができる。なお、リフレクター530は、遮光機能を有すれば、種々の材料から構成されてよいが、例えば、Al、Au、Ag、Cr、Ni、Ptやこれらの金属を含む合金等、又はSiC、TiO等から構成されてもよい。更に、図3においては、板状のリフレクター530が複数枚、具体的には2枚、ケーシング52内に設けられた例が示されているが、リフレクター530の代わりに、上述のAl、Au、Ag、Cr、Ni、Ptやこれらの金属を含む合金等、又はSiC、TiO等の材料からなる反射層を石英のケーシング52に直接溶射等でコーティングし、これを反射による遮光で断熱能力を高める遮光手段として機能させてもよい。
なお、第1の構成例に係る断熱ユニット510には、断熱材が設けられていないが、ケーシング52の内部を真空排気することにより、断熱能力は十分高めることができる。つまり、真空排気により、ケーシング52の内部の分子を排気し、対流を減少させるとともに、分子の熱運動を減少させることができ、断熱ユニット510の断熱能力を高めることができる。
図4は、第2の構成例に係る断熱ユニット511を示した図である。第2の構成例に係る断熱ユニット511は、複数に分割された断熱材531と、リフレクター530とをケーシング52の内部に備える。リフレクター530の両面を、断熱材531で挟むことにより、リフレクター530を保持することができる。図4においては、2枚のリフレクター530が、3個に分割された断熱材531に挟まれて保持された例が示されているが、リフレクター530の枚数及び断熱材531の個数は、用途に応じて適宜適切な数とすることができる。
なお、断熱材531には、従来から用いられているセラミックファイバーからなる断熱材531の他、セラミックアルミニウムからなる断熱材531、高性能のヒュームドシリカ系断熱材531等を、用途に応じて選択することができる。
図5は、第3の構成例に係る断熱ユニット512を示した図である。第3の構成例に係る断熱ユニット512は、断熱材532をケーシング52内に収容して構成される。断熱材532は、上述のように、従来から用いられているセラミックファイバーからなる断熱材531の他、アルミナファイバーからなる断熱材531、高性能のヒュームドシリカ系断熱材531等を、用途に応じて選択することができる。
また、断熱材532には、SiO、SiC、TiO、Al等の微粒子又はファイバーや、発砲石英等を用いてもよい。また、単体ではなく、複数の材料の組み合わせであってもよい。
図6は、第4の構成例に係る断熱ユニット513を示した図である。第4の構成例に係る断熱ユニット513では、ケーシング52の完成品自体は他の構成例と同様であるが、ケーシング52が箱体52aと蓋体52bとを有し、箱体52a内に断熱材533を収容してから、封止部52cにおいて箱体52aと蓋体52bとを溶接接合して断熱ユニット513を形成する。そして、ケーシング52の封止(溶接接合)を行う際、断熱材533の耐熱性が不十分であると、断熱材533の断熱能力が損なわれてしまうことから、封止部52cの付近に耐熱性の高い断熱材535を配置した構成の断熱材533を用いている。なお、断熱材533の大半を示す断熱材534には、例えば、ヒュームドシリカ系高性能断熱材を用い、耐熱性の高い断熱材535として、アルミナファイバーからなる断熱材を用いるようにしてもよい。
なお、図4〜6に示したように、断熱材531〜533がケーシング52の内部に設けられている場合には、必要に応じて、断熱材531〜533とケーシング52の内周面との間に所定のクリアランスが設けられてもよいし、更にクリアランスに緩衝剤が充填されていてもよい。
図7は、本発明の第1の実施形態に係る熱処理装置の一例の真空排気構造を示した図である。図7において、断熱ユニット51のケーシング52に排気管70がフランジ71を介して連通接続され、バルブ80を介して真空ポンプ90に接続された構成が示されている。排気管70に設置されたバルブ80を開閉するとともに、バルブ開度でケーシング52内の圧力を調整可能な構造とされている。バルブ80は単体で設けられても、複数設けられてもよい。例えば、バルブ80を2個設けた場合、開閉用と圧力調整用に分けることも可能である。また、排気用ラインを、排気管70又はケーシング52に設置してもよい。図7において、仮想的に、排気用ラインを排気管70、ケーシング52に設置した例が破線で示されている。
第1の実施形態に係る熱処理装置によれば、複数に分割された断熱ユニット51、54、57、60を処理容器4及びヒータユニット48の周囲に配置し、断熱ユニット51、54、57、60の各々を個別に真空排気可能に構成することにより、各断熱ユニット51、54、57、60の断熱能力を個別に制御することができる。
図8は、本発明の第2の実施形態に係る熱処理装置の一例の構成を示した図である。第2の実施形態に係る熱処理装置3は、処理容器4と、ヒータエレメント48とを一体化した構成を有する。図8において、処理容器4と、断熱ユニット514とが示されており、他の構成要素は省略されている。他の構成要素は、実施形態1に係る熱処理装置2と同様であってよく、図8には、実施形態1に係る熱処理装置2と異なる部分のみ示す。
ヒータエレメント48は、カーボンワイヤーヒータが用いられ、ヒータエレメント48が石英保護管49で覆われた構成を有する。処理容器4も石英で構成されているので、石英保護管49は、処理容器4に溶接接合等で容易に取り付けることができる。このように、処理容器4と、ヒータエレメント48とを、一体的に構成してもよい。また、断熱ユニット514は、石英のケーシング52内に、断熱部材535とともにヒータエレメント48及び石英保護管49を収容している。このように、断熱ユニット514内に断熱部材535のみならず、ヒータエレメント48及び石英保護管49を収容する構成としてもよい。
かかる一体化構成により、部品点数を削減することができる。また、処理容器4側にヒータエレメント48を固定できるので、ヒータエレメント48が断線したときの交換がし易くなるというメインテナンス上の利点もある。更に、部品点数の削減とともに、熱処理装置3のスペースを削減することができる。
なお、断熱材等の断熱部材536は、図8に示すように、石英保護管49の外周面に沿うような波型の形状に構成してもよいし、他の構成としてもよい。
また、石英保護管49に収容されたヒータエレメント48を処理容器4に接合させず、組み立て式として処理容器4の外周面上に固定してもよい。更に、ヒータエレメント48は、カーボンワイヤーヒータに限らず、処理容器4と接合や組み付けする一体化が可能であれば、例えば金属、セラミックエレメント等の種々の材料からなるヒータエレメント48を使用することができる。
なお、図8には図示していないが、各断熱ユニット514には、個別の排気管70、バルブ80、共通排気管72、真空ポンプ90が接続され、個々に断熱能力の調整が可能に構成される。この点は、第1の実施形態に係る熱処理装置2と同様である。
図9は、第2の実施形態に係る熱処理装置3の部分的変形例を示した図である。図9は、図8と同様に、ヒータエレメント48は、石英保護管49に覆われて処理容器4と一体化されて構成されているが、断熱ユニット515が、ヒータエレメント48及び石英保護管49を収容しておらず、ヒータエレメント48及び石英保護管49の外部に設けられている例を示している。このように、断熱ユニット515は、ヒータエレメント48を取り込まず、ヒータエレメント48と別体として構成されてもよい。なお、断熱ユニット515は、ケーシング520の内部に断熱部材537を収容しており、基本的構成は今まで説明した断熱ユニット51、54、57、60と同様である。図9に示す構成の場合も、処理容器4、ヒータエレメント48、石英保護管49及び断熱ユニット515は一体的に構成され、図8の場合と同様に、部品点数の削減、ヒータエレメント48の断線時の交換の容易性、及び省スペースという利点を有する。
図10〜12は、本発明の実施形態2に係る熱処理装置3のヒータエレメント48の種々の構成例を示した図である。
図10は、第1の構成例に係るヒータエレメント480を示した図である。図10に示すように、第1の構成例に係るヒータエレメント480は、処理容器4の周囲に螺旋状に巻回して設けられてもよい。
図11は、第2の構成例に係るヒータエレメント481を示した図である。図11に示すように、第2の構成例に係るヒータエレメント481は、処理容器4の周囲に1回巻回されてから鉛直方向に移動するつづら折りに構成され、分割領域の全体をカバーするように設けられてもよい。
図12は、第3の構成例に係るヒータエレメント482を示した図である。図12に示すように、第3の構成例に係るヒータエレメント482は、処理容器4の周囲に、分割領域を縦に波打って移動する波型に構成され、分割領域の全体をカバーするように設けられてもよい。
図10〜12に示したように、ヒータエレメント480〜482の形状は、用途に応じて種々の構成とすることができる。
図13〜23は、第1及び第2の実施形態に係る熱処理装置2、3の双方に適用可能な断熱ユニットの種々の積載構成例を示した図である。
図13は、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101の積載構造を示した図である。図13において、上段の断熱ユニット5100は、外側に下方に突出した突出部5100aを有し、下段の断熱ユニット5101は、内側に上方に突出した突出部5101aを有する。そして、突出部5100a、5101a同士が係合し、段違いの構造で下段の断熱ユニット5101の上に上段の断熱ユニット5100が積載された構造となっている。かかる段違い構造により、断熱ユニット5100、5101の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5100、5101同士の境界面が直線的でなくなり、熱の流出経路が長くかつ複雑になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。
図14は、第2の構成例に係る断熱ユニット5102、5103の積載構造を示した図である。第2の構成例に係る断熱ユニット5102、5103は、外形的には第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と同一の形状を有する。よって、上段の断熱ユニット5102は、外側に下方に突出した突出部5102aを有し、下段の断熱ユニット5103は、内側に上方に突出した突出部5103aを有する。そして、突出部5102a、5103a同士が係合し、段違いの構造で下段の断熱ユニット5103の上に上段の断熱ユニット5102が積載された構造となっている点で、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と共通する。第2の構成例に係る断熱ユニット5102、5103は、内部にリフレクター5104を備える点で、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と異なっている。なお、リフレクター5104の両面を、断熱材5105が挟んで支持してよい点は、図4で説明した通りである。第2の構成例に係る断熱ユニット5102、5103によれば、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と同様に、段違い構造により、断熱ユニット5102、5103の境界面からの熱漏れを抑制することができるとともに、リフレクター5104による遮光で更に断熱機能を高めることができる。
図15は、第3の構成例に係る断熱ユニット5106、5107の構造を示した図である。第3の構成例に係る断熱ユニット5106、5107は、形状的及び構造的には第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と同様の形状及び構造を有する。よって、上段の断熱ユニット5106は、外側に下方に突出した突出部5106aを有し、下段の断熱ユニット5107は、内側に上方に突出した突出部5107aを有する。そして、突出部5106a、5107a同士が係合し、段違いの構造で下段の断熱ユニット5107の上に上段の断熱ユニット5107が積載された構造となっている点で、第1及び第2の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と共通する。第3の構成例に係る断熱ユニット5106、5107は、各々の外周面が、係合面も含めて総てケーシング5108で覆われている点で、係合面のケーシングが共通している第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と異なっている。
図15(a)は、第3の構成例に係る断熱ユニット5106、5107の個々の構造を示した図であり、図15(b)は、第3の構成例に係る断熱ユニット5106、5107の積載構造を示した図である。図15(a)に示されるように、個々の断熱ユニット5106、5107は完全に独立している。図15(b)に示されるように、断熱ユニット5106、5107を積載した場合には、両者の境界面が二重のケーシング5108構造となる。このように、個々の断熱ユニット5106、5107を完全にブロック化して独立させ、積載させて組み立てる方式としてもよい。作用効果は、第1の構成例と同様であるので、その説明を省略する。
図16は、第4の構成例に係る断熱ユニット5109の構造を示した図である。第4の構成例に係る断熱ユニット5109は、内部の断熱材5110、5101の形状としては、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と同様の形状を有する。よって、上段の断熱材5110は、外側に下方に突出した突出部5110aを有し、下段の断熱材5111は、内側に上方に突出した突出部5111aを有する。そして、突出部5110a、5111a同士が係合し、段違いの構造で下段の断熱ユニット5111の上に上段の断熱ユニット5110が積載された構造となっている点で、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と共通する。第4の構成例に係る断熱ユニット5109は、ケーシング5112が1個であり、これが積層構造の断熱材5110、5111の双方を共通に1個のブロックとして覆っている点で、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101と異なっている。このように、ケーシング5112の強度が十分強ければ、1つのケーシング5112で複数の積層構造の断熱材5110、5111を収容してもよい。この場合、収容する断熱材5110、5111の数は、2個に限らず、更に多数個であってもよい。
図17は、第5の構成例に係る断熱ユニット5113、5114の積載構造を示した図である。図17において、上段の断熱ユニット5113は、中央部に下方に突出した凸部5113aを有し、下段の断熱ユニット5113は、対応する中央部に下方に窪んだ凹部5114aを有する。そして、凸部5113aと凹部5114a同士が係合し、段違いの構造で下段の断熱ユニット5114の上に上段の断熱ユニット5113が積載された構造となっている。かかる段違い構造により、断熱ユニット5113、5114の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5113、5114同士の境界が直線的でなくなり、熱の流出経路が長くかつ複雑になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。なお、第5の構成例に係る断熱ユニット5113、5114においても、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101を変形した第2〜第4の構成例に係る断熱ユニット5102、5103、5106、5107、5109のような変形が可能である。
図18は、第6の構成例に係る断熱ユニット5115、5116の積載構造を示した図である。図18において、上段の断熱ユニット5115は、内側に下方に突出した傾斜部5115aを有し、下段の断熱ユニット5116は、外側に上方に突出した傾斜部5116aを有する。そして、傾斜部5115a、5116a同士が互いの斜面で係合し、傾斜構造で下段の断熱ユニット5116の上に上段の断熱ユニット5115が積載された構造となっている。かかる傾斜構造により、断熱ユニット5115、5116の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5115、5116同士の境界面が水平面でなくなり、熱の流出経路が長くなるとともに、水平面と交わる面になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。なお、第6の構成例に係る断熱ユニット5115、5116においても、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101を変形した第2〜第4の構成例に係る断熱ユニット5102、5103、5106、5107、5109のような変形が可能である。
図19は、第7の構成例に係る断熱ユニット5117、5118の積載構造を示した図である。図19において、上段の断熱ユニット5117は、内側に下方に突出した突出部5117aを有し、下段の断熱ユニット5118は、対応する内側に上方に突出した突出部5118aを有する。そして、突出部5117a、5118a同士が接触するとともに、形成された外側の隙間に挿入部材5108が挿入され、挿入部材5108による段違いの構造を有しつつ、下段の断熱ユニット5118の上に上段の断熱ユニット5117が積載された構造となっている。かかる挿入部材5108により形成された段違い構造により、断熱ユニット5117、5118の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5117、5118同士の境界面を遮るように挿入部材5108が挿入され、熱の流出経路が長くかつ複雑になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。なお、第7の構成例に係る断熱ユニット5117、5118においても、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101を変形した第2〜第4の構成例に係る断熱ユニット5102、5103、5106、5107、5109のような変形が可能である。
図20は、第8の構成例に係る断熱ユニット5120、5121の積載構造を示した図である。図13において、上段の断熱ユニット5120は、内側及び外側の双方に下方に突出した突出部5120aを有し、下段の断熱ユニット5121は、対応する内側及び外側の双方に上方に突出した突出部5121aを有する。そして、突出部5120a、5121a同士が接触するとともに、形成された中央の隙間に挿入部材5122が挿入され、挿入部材5122による段違いの構造を有しつつ、下段の断熱ユニット5121の上に上段の断熱ユニット5120が積載された構造となっている。かかる挿入部材5122により形成された段違い構造により、断熱ユニット5120、5121の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5120、5121同士の境界面を遮るように挿入部材5122が挿入され、熱の流出経路が長くかつ複雑になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。なお、第8の構成例に係る断熱ユニット5120、5121においても、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101を変形した第2〜第4の構成例に係る断熱ユニット5102、5103、5106、5107、5109のような変形が可能である。
図21は、第9の構成例に係る断熱ユニット5123、5124の積載構造を示した図である。図13において、上段の断熱ユニット5123に隣接して挿入部材5125、下段の断熱ユニット5124に隣接して挿入部材5126が設けられ、断熱ユニット5123、5124同士の境界面と、挿入部材5125、5126同士の境界面の高さが異なり、段違い構造を形成している。かかる断熱ユニット5123、5124及び挿入部材5125、5126により形成された段違い構造により、断熱ユニット5125、5126の境界面からの熱漏れを抑制することができる。つまり、断熱ユニット5125、5126同士の境界面を遮るように挿入部材5126が設けられ、熱の流出経路が長くかつ複雑になるため、熱漏れを効果的に抑制することができる。なお、第10の構成例に係る断熱ユニット5123、5124においても、第1の構成例に係る断熱ユニット5100、5101を変形した第2〜第4の構成例に係る断熱ユニット5102、5103、5106、5107、5109のような変形が可能である。
図22は、第10の構成例に係る断熱ユニット5127の構造を示した断面図である。第10の構成例に係る断熱ユニット5127は、上下方向ではなく、処理容器4及びヒータエレメント48の周方向において複数に分割された構造を有する。図21においては、4個の円弧状の断熱ユニット5127で、環状の形状を構成し、処理容器4及びヒータユニット48を覆うことができる構造となっている。また、断熱ユニット5127は、内周側の突起部5127aと、外周側の突起部5127bが両端に形成され、突起部5127aと突起部5127bとが係合し、隣接する同一形状の断熱ユニット5127同士が係合している。隣接する断熱ユニット5127とは、水平方向において係合し、境界面は、鉛直方向に延びる面となる。このように、処理容器4及びヒータユニット48の周方向において、この一部をカバーする断熱ユニット5127同士を水平方向に係合させ、処理容器4及びヒータユニット48の周囲を覆うように断熱ユニット5127を構成してもよい。なお、境界面は、処理容器4の中心から半径方向に放射状に延びる方向と交わる方向に延びる面が存在するので熱の漏れを防止することができる。
図23は、第11の構成例に係る断熱ユニット5128の構造を示した断面図である。第11の構成例に係る断熱ユニット5128も、第10に係る断熱ユニット5127と同様に、上下方向ではなく、処理容器4及びヒータエレメント48の周方向において複数に分割された構造を有する。図22においては、4個の縦長の板状の断熱ユニット5128で、正方形を構成し、処理容器4及びヒータユニット48を覆うことができる構造となっている。また、断熱ユニット5128は、突起部5128aが両端に形成され、隣接する同一形状の断熱ユニット5128同士で係合している。隣接する断熱ユニット5128とは、水平方向において係合し、境界面は、鉛直方向に延びる面となる。このように、断熱ユニット5128は、円筒形状のみならず、四角柱等の角柱状に形成してもよい。また、第11の構成例に係る断熱ユニット5128においても、境界面は、処理容器4の中心から半径方向に放射状に延びる方向と交わる方向に延びる面が存在するので熱の漏れを防止することができる。
図22、23に示したように、断熱ユニット5127、5128は、上下方向のみならず、処理容器4及びヒータエレメント48の周方向を囲む方向に分割して構成することができ、また、その形状も、円筒形、角柱形等、種々の形状とすることができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
2、3 熱処理装置
4 処理容器
6 外筒
8 内筒
14 キャップ部
26 保温部
28 ウエハボート
48、480〜482 ヒータエレメント
49 石英保護管
50 断熱カバー部
51、54、57、60、510〜515 断熱ユニット
52、55、58、61、520 ケーシング
53、56、59、62、536、537 断熱部材
530 リフレクター
531〜535 断熱材
70、72 排気管
80 バルブ
90 真空ポンプ
100 制御ユニット
W ウエハ

Claims (22)

  1. 処理容器と、
    該処理容器の周囲に設けられた発熱体と、
    該発熱体の周囲に、該発熱体の異なる領域をカバーするように分割して設けられた複数の断熱手段と、
    該複数の断熱手段の各々に接続された複数の排気管と、
    該複数の排気管に接続された真空排気手段と、を有し、
    前記複数の排気管の各々には、個々に圧力調整が可能な圧力調整手段が設けられている熱処理装置。
  2. 前記断熱手段は、石英のケーシングを有する請求項1に記載の熱処理装置。
  3. 前記断熱手段は、遮光手段を備えている請求項に記載の熱処理装置。
  4. 前記遮光手段は板状のリフレクターからなり、前記ケーシング内に収容されている請求項に記載の熱処理装置。
  5. 前記リフレクターは、前記ケーシング内に複数枚収容されている請求項に記載の熱処理装置。
  6. 前記遮光手段は、反射層として前記ケーシングにコーティングされている請求項又はに記載の熱処理装置。
  7. 前記遮光手段は、Au、Ag、Al、Cr、Ni、Pt及びこれらを含む合金、SiC又はTiOからなる請求項乃至のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  8. 前記断熱手段は、前記ケーシング内に断熱材を有する請求項乃至のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  9. 前記断熱手段は、前記ケーシング内に断熱材を有し、
    前記遮光手段は、反射層として前記断熱材にコーティングされている請求項に記載の熱処理装置。
  10. 前記断熱材は、ヒュームドシリカ系断熱材を含む請求項又はに記載の熱処理装置。
  11. 前記ケーシングは箱体と蓋体とが溶接接合されて形成され、
    溶接接合部付近の前記断熱材は、前記ヒュームドシリカ系断熱材よりも耐熱性が高い断熱材が使用されている請求項10に記載の熱処理装置。
  12. 前記断熱手段は、前記ケーシング内に複数のバルク状の断熱材を有し、該複数のバルク状の断熱材で前記リフレクターを挟んで前記リフレクターを保持する請求項又はに記載の熱処理装置。
  13. 前記断熱手段は、前記処理容器の下部に更に設けられている請求項乃至12のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  14. 前記発熱体は、前記処理容器の外周面に一体的に取り付けられている請求項乃至13のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  15. 前記処理容器は石英から構成され、
    前記発熱体は、石英保護管で覆われた金属ヒータ、セラミックヒータ又はカーボンワイヤーヒータであり、
    前記石英保護管が前記処理容器に接合されることにより前記発熱体が前記処理容器の前記外周面に一体的に取り付けられる請求項14に記載の熱処理装置。
  16. 前記処理容器は石英から構成され、
    前記発熱体は、石英保護管で覆われた金属ヒータ、セラミックヒータ又はカーボンワイヤーヒータであり、組み立て式で前記処理容器の外周面に固定されている請求項14に記載の熱処理装置。
  17. 前記ケーシングは、前記発熱体を収容する請求項14又は15に記載の熱処理装置。
  18. 前記ケーシングは、前記石英保護管の外周面に一体的に接合される請求項15に記載の熱処理装置。
  19. 前記発熱体は、前記異なる領域毎に分割されて複数設けられ、
    前記断熱手段は、複数の前記発熱体に1対1に対応して設けられる請求項1乃至18のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  20. 前記複数の断熱手段は、上下に積み重ねられて配置された分割箇所を含み、
    該分割箇所は、境界面が縦方向の成分を含む形状又は他の挿入部材により遮断される形状を有するように係合される請求項1乃至19のずれか一項に記載の熱処理装置。
  21. 前記複数の断熱手段は、前記発熱体の周方向において前記発熱体の異なる領域をカバーするように分割された請求項1乃至19のいずれか一項に記載の熱処理装置。
  22. 前記発熱体の昇温時には前記真空排気手段の排気量を増加させ、前記発熱体の降温時には前記真空排気手段の排気量を減少させる制御を行うとともに、前記処理容器内の温度分布に基づいて前記複数の断熱手段の各々に対応して設けられた前記圧力調整手段を個別に制御する制御手段を更に有する請求項2乃至21のいずれか一項に記載の熱処理装置。
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