JP6373382B2 - 有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法 - Google Patents
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Description
工程1、基板を用意するとともに、前記基板上に薄膜トランジスタを形成する。
工程2、薄膜トランジスタ上に平坦化層を形成する。
工程3、平坦化層及び薄膜トランジスタ上に孔を開けて、薄膜トランジスタの低温ポリシリコン層を露出させる。
工程4、平坦化層及び露出した低温ポリシリコン層上に導電層を形成するとともに、前記導電層をパターン化することにより、低温ポリシリコン層上に新しいソース/ドレインを形成して、平坦化層上に有機発光ダイオードの陽極を形成する。また、前記有機発光ダイオードの陽極は、前記新しいソース/ドレインと接続される。
100 陽極
300 ソース/ドレイン
500 低温ポリシリコン層
(本発明)
20 薄膜トランジスタ
22 基板
24 低温ポリシリコン層
26 ゲート絶縁層
27 保護層
28 ソース/ドレイン
280 新しいソース/ドレイン
29 隔離層
40 有機発光ダイオードの陽極
60 平坦化層
Claims (4)
- 有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法であって、
基板を用意し、
前記基板上に薄膜トランジスタを形成し、
薄膜トランジスタ上に平坦化層を形成し、
このとき、
前記薄膜トランジスタは、スイッチ薄膜トランジスタと駆動薄膜トランジスタとからなり、前記スイッチ薄膜トランジスタと前記駆動薄膜トランジスタとを互いに隣接して設け、
このとき、前記スイッチ薄膜トランジスタは、
前記基板上に低温ポリシリコン層24、前記低温ポリシリコン層24の上にゲート絶縁層26、前記ゲート絶縁層26の上にゲート、前記ゲートの上に保護層27、前記保護層27上において前記ゲート絶縁層26および前記保護層27を貫通して前記低温ポリシリコン層に接続されたソース/ドレイン28、前記保護層27および前記ソース/ドレイン28の上に位置する平坦化層60を順に形成してなるものであり、
前記駆動薄膜トランジスタは、
前記スイッチ薄膜トランジスタを形成する際に同じようにして、
前記基板上に低温ポリシリコン層24、前記低温ポリシリコン層24の上にゲート絶縁層26、前記ゲート絶縁層26の上にゲート、前記ゲートの上に保護層27、前記保護層27上において前記ゲート絶縁層26および前記保護層27を貫通して前記低温ポリシリコン層に接続されたソース/ドレイン28、前記保護層27および前記ソース/ドレイン28の上に位置する平坦化層60を順に形成し、
さらに、前記低温ポリシリコン層24の上において該低温ポリシリコン層24を露出させるように、前記ソース/ドレイン28に対応する位置において前記平坦化層60を貫通する孔を開けて前記ソース/ドレイン28を露出させ、
続いて、ソース/ドレイン28を除去して前記低温ポリシリコン層24を露出させ、
この孔の内側において、底部が前記低温ポリシリコン層24に接続し、かつ、上面が前記平坦化層60上にある導電層を形成してなるものであり、
この導電層を該駆動薄膜トランジスタのソース/ドレイン(280)および前記有機発光ダイオードの前記陽極40とする
ことを特徴とする有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法において、
前記基板は、ガラス基板である
ことを特徴とする有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法において、
前記基板と低温ポリシリコン層の間には、更に隔離層が設けられる
ことを特徴とする有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法において、
前記導電層は、酸化インジウムスズ層・インジウム亜鉛酸化物・アルミニウム層・銀層・モリブデン層の中のいずれか一つであるか、或はこれらの重層である
ことを特徴とする有機発光ダイオードの陽極接続構造の製造方法。
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