JP6360660B2 - Base material with antireflection film and method for producing the same - Google Patents

Base material with antireflection film and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、撥水性に優れるとともに反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜付基材およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、膜の下部から上部になるに従って屈折率が徐々に低下しているために、撥水性に優れるとともに反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜付基材およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a substrate with an antireflection film that has excellent water repellency and excellent antireflection performance and antiglare performance, and a method for producing the same. More specifically, since the refractive index gradually decreases from the bottom to the top of the film, the present invention relates to a substrate with an antireflection film that has excellent water repellency and excellent antireflection performance and antiglare performance, and a method for producing the same. .

従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、基材表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、CVD法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている(たとえば、特許文献1:特開平7-133105号公報など参照)。このとき、反射防止性能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。   Conventionally, it has been known to form an antireflection film on the surface of a substrate in order to prevent reflection on the surface of the substrate such as glass, plastic sheet, and plastic lens. For example, a coating method, a vapor deposition method, a CVD method, etc. To form a film of a low refractive index substance such as fluororesin or magnesium fluoride on the surface of a glass or plastic substrate, or apply a coating solution containing low refractive index fine particles such as silica fine particles to the substrate surface. Thus, a method of forming an antireflection coating is known (for example, see Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 7-133105). At this time, in order to improve the antireflection performance, it is also known to form a high refractive index film containing fine particles of high refractive index under the antireflection coating.

さらに、前記表示装置等では、防弦性(アンチグレア性ということがある)を付与するために表面に凹凸を形成することも知られている。(特許文献2:特開2002−169001号公報、特許文献3:特開2002−71904号公報、特許文献4:特開2001−281411号公報、特許文献5:特開2001−34350号公報) Furthermore, in the display device or the like, it is also known to form irregularities on the surface in order to provide string-proofing properties (sometimes referred to as anti-glare properties). (Patent Literature 2: JP 2002-169001, JP-Patent Document 3: JP 2002-71904, JP-Patent Document 4: JP 2001-281411, JP-Patent Document 5: JP 2001-34350 3 JP)

一方、一般に固体表面がフラクタル構造を有している場合、固体表面が親水的な場合には親水性が向上して超親水性を示し、逆に固体表面が疎水的な場合には撥水性が向上して超撥水性を示すことが知られている。   On the other hand, in general, when the solid surface has a fractal structure, when the solid surface is hydrophilic, the hydrophilicity is improved and super hydrophilicity is exhibited. Conversely, when the solid surface is hydrophobic, the water repellency is improved. It is known to improve and exhibit super water repellency.

特許文献6(特開2005−343016号公報)には、基材表面に超撥水性被膜を被覆した超撥水性被膜被覆物品において、超撥水性被膜が微粒子集合体からなる突起体及び撥水性膜を備えた、被膜の被覆領域において、突起体が存在する部分と存在しない部分とが混在し、かつ、突起体が存在する部分の被膜表面に突起体による凹凸が形成されている超撥水性被膜被覆物品が開示されている。   In Patent Document 6 (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-343016), in a super water-repellent coating-coated article in which the surface of a base material is coated with a super-water-repellent coating, a protrusion and a water-repellent film in which the super-water-repellent coating is a fine particle aggregate A super-water-repellent coating in which in the coating area of the coating, there are a portion where the protrusion is present and a portion where the protrusion is not present, and the surface of the coating where the protrusion is present is uneven A coated article is disclosed.

具体的には、三次元に結合したコロイダルシリカとアルキルアルコキシシランとフッ素を含有するアルキルアルコキシシランを混合し、撥水材料と珪素酸化物微粒子との共加水分解・縮重合物を調製し、これを撥水処理用分散液として用い、フローコート法にて塗布し、自然乾燥して超撥水処理ガラス基板を調製している。   Specifically, colloidal silica bonded in three dimensions, alkylalkoxysilane, and alkylalkoxysilane containing fluorine are mixed to prepare a cohydrolyzed / condensed polymer of water repellent material and silicon oxide fine particles. Is used as a dispersion for water repellent treatment, applied by a flow coat method, and naturally dried to prepare a super water repellent treated glass substrate.

また、特許文献7(WO2003/039856号公報)には、基体と、基体の表面に形成された微小凹凸を有する下地膜と、下地膜の微小凹凸上に形成された撥水性皮膜とを含む超撥水性基体であって、撥水性皮膜の表面形状が、粒子状突起物と、粒子状突起物よりも基板の表面から測定した高さが高い柱状突起物とにより構成された超撥水性基体が開示されている。   Patent Document 7 (WO2003 / 039856) discloses a superstructure including a base, a base film having micro unevenness formed on the surface of the base, and a water-repellent film formed on the micro unevenness of the base film. A super-water-repellent substrate comprising a water-repellent substrate, wherein the surface shape of the water-repellent coating is composed of particulate protrusions and columnar protrusions having a height measured from the surface of the substrate higher than the particulate protrusions. It is disclosed.

特許文献8(特開2004−137137号公報)には、表面に微小凹凸を有した珪素酸化物を主成分とする皮膜が被覆された物品であって、微小凹凸は、微小突起および柱状突起により構成されていることを特徴とする皮膜被覆物品が開示されている。その製造方法として、クロルシリル基含有化合物を、シリコン油を主成分とする溶媒に溶解した塗布溶液を塗布することで、かかる構造を有する皮膜が形成できる旨開示されている。   Patent Document 8 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-137137) discloses an article coated with a film mainly composed of silicon oxide having fine irregularities on the surface, and the fine irregularities are formed by minute protrusions and columnar protrusions. A film-coated article characterized by being configured is disclosed. As its production method, it is disclosed that a film having such a structure can be formed by applying a coating solution in which a chlorosilyl group-containing compound is dissolved in a solvent mainly composed of silicon oil.

特許文献9(特開平8−40748号公報)には、ガラス基板と、基板の表面に、表面処理することなく成膜した状態でマイクロピット状表層、凹凸状表層、凸状表層のうち少なくとも1種以上の表層形状を呈している酸化物薄膜あるいは混合酸化物薄膜で成る下地層と、該下地層の上に、少なくともフルオロアルキルシランと、酸化アンチモンをドーパントとする酸化錫の粒子と、シリコーン化合物と、水と、有機溶媒からなる混合溶液に、酸をフルオロアルキルシラン1molに対して5×10-4 mol 〜2×10-2 molになるよう添加した撥水撥油液を塗布成膜した薄膜である撥水層とからなることを特徴とする撥水性ガラスが開示されている。 Patent Document 9 (JP-A-8-40748) discloses at least one of a glass substrate and a micropit-like surface layer, an uneven surface layer, and a convex surface layer in a state where the film is formed on the surface of the substrate without performing surface treatment. An underlayer composed of an oxide thin film or mixed oxide thin film having a surface layer shape of more than one species, tin oxide particles containing at least fluoroalkylsilane and antimony oxide as a dopant on the underlayer, and a silicone compound Then, a water / oil repellent liquid in which an acid is added to 5 × 10 −4 mol to 2 × 10 −2 mol with respect to 1 mol of fluoroalkylsilane was applied to a mixed solution composed of water and an organic solvent. A water repellent glass comprising a water repellent layer that is a thin film is disclosed.

特開平7−133105号公報JP 7-133105 A 特開2002−169001号公報JP 2002-169001 A 特開2002−71904号公報JP 2002-71904 A 特開2001−281411号公報JP 2001-281411 A 特開2001−343503号公報JP 2001-343503 A 特開2005−343016号公報JP 2005-343016 A WO2003/039856号公報WO2003 / 039856 特開2004−137137号公報JP 2004-137137 A 特開平8−40748号公報JP-A-8-40748

しかしながら、近年、単に反射防止性能、防眩性能を有しているだけでなく、加えて指紋付着性等の抑制された、さらには耐水性・撥水性に優れた反射防止膜が求められている。従来、これらの性能を併せ持った反射防止膜は得られてなかった。   However, in recent years, there has been a demand for an antireflection film that not only has antireflection performance and antiglare performance, but also has suppressed water adhesion and water repellency, as well as suppressed adhesion of fingerprints. . Conventionally, an antireflection film having both of these performances has not been obtained.

本発明者らは、柔軟な樹脂フィルム基材表面に、特定の形状の粒子から構成された無機酸化物微粒子層からなる反射防止膜を形成することによって、該膜は超撥水性を示すとともに基材との密着性、耐摩耗性、耐擦傷性等に優れ、しかも反射防止性能に優れていることを見出して本発明を完成するに至った。   The present inventors have formed an antireflection film comprising an inorganic oxide fine particle layer composed of particles of a specific shape on the surface of a flexible resin film substrate, whereby the film exhibits super water repellency and is based on The present invention has been completed by finding that it has excellent adhesion to materials, abrasion resistance, scratch resistance, etc., and excellent antireflection performance.

本発明係る反射防止膜付基材は、樹脂基材、および該基材上に形成された反射防止膜からなり、
該反射防止膜の水との接触角が130〜180°、反射率(Rf)が2%以下、ヘーズが10%以下であることを特徴とする。
The substrate with antireflection film according to the present invention comprises a resin substrate and an antireflection film formed on the substrate,
The contact angle of the antireflection film with water is 130 to 180 °, the reflectance (Rf) is 2% or less, and the haze is 10% or less.

前記反射防止膜が、表面処理無機酸化物微粒子を含む無機酸化物微粒子層を含んでなり、反射防止膜表面が凹凸構造を有し、該凸部の平均高さ(TF)が30〜500nmの範囲にあり、平均凸部間距離(ピッチ幅)(WF)が50〜1000nmの範囲にある。
前記反射防止膜が、無機酸化物微粒子層上にオーバーコート層を有する。
The antireflection film comprises an inorganic oxide fine particle layer containing surface-treated inorganic oxide fine particles, the antireflection film surface has an uneven structure, and the average height (T F ) of the convex portions is 30 to 500 nm. The average inter-convex distance (pitch width) (W F ) is in the range of 50 to 1000 nm.
The antireflection film has an overcoat layer on the inorganic oxide fine particle layer.

前記平均高さ(TF)と前記平均凸部間距離(WF)との比(TF)/(WF)が0.1〜10の範囲にある。
前記凹凸構造の凸部の表面がさらに微細凹凸を有し、該微細凸部の平均高さ(TFF)が3〜50nmの範囲にあり、平均凸部間距離(WFF)が、前記凸部の平均凸部間距離(WF)よりも小さく、3〜50nmの範囲にある。
The ratio (T F ) / (W F ) between the average height (T F ) and the average inter-convex distance (W F ) is in the range of 0.1-10.
The surface of the convex part of the concavo-convex structure further has fine irregularities, the average height (T FF ) of the fine convex part is in the range of 3 to 50 nm, and the average distance between convex parts (W FF ) is It is smaller than the average inter-convex distance (W F ) of the part and is in the range of 3 to 50 nm.

前記表面処理無機酸化物微粒子が下記式(1)および/または(2)で表される加水分解性有機ケイ素化合物またはその加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物で表面処理されている
n-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10のフッ素置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
n-SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の(メタ)アクリロイル基、アミノ基、メルカプト基で置換されていてもよい炭化水素基(フッ素置換を除く)であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
前記無機酸化物微粒子層が結合材を含んでなる。
The surface-treated inorganic oxide fine particles are surface-treated with a hydrolyzable organosilicon compound represented by the following formula (1) and / or (2) or a hydrolyzate of the hydrolyzable organosilicon compound: R n − SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, Hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
R n -SiX 4-n (2)
(In the formula, R is a hydrocarbon group (excluding fluorine substitution) which may be substituted with a (meth) acryloyl group having 1 to 10 carbon atoms, an amino group, or a mercapto group, and is the same as each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)
The inorganic oxide fine particle layer contains a binder.

本発明によれば、樹脂基材を用い、撥水性に優れるとともに反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜付基材およびその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the base material with an anti-reflective film which was excellent in water repellency while being excellent in anti-reflective performance and anti-glare performance using a resin base material, and its manufacturing method can be provided.

本発明に係る反射防止膜付基材の一態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the one aspect | mode of the base material with an antireflection film concerning this invention. 実施例1で調製したアルミナ水和物微粒子の走査型電子顕微鏡写真(SEM)を示す。The scanning electron micrograph (SEM) of the alumina hydrate microparticles prepared in Example 1 is shown.

[反射防止膜付基材]
本発明に係る反射防止膜付基材は、樹脂基材、および該基材上に形成された反射防止膜からなり、該反射防止膜の水との接触角が130〜180°の範囲にあることを特徴としている。
[Base material with antireflection film]
The base material with an antireflection film according to the present invention comprises a resin base material and an antireflection film formed on the base material, and the contact angle of the antireflection film with water is in the range of 130 to 180 °. It is characterized by that.

樹脂基材
本発明に用いる樹脂基材としては、従来公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロポリオレフィン、ノルボルネン等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。
Resin Substrate As the resin substrate used in the present invention, conventionally known ones can be used without particular limitation, and polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), cyclohexane Examples thereof include plastic sheets such as polyolefin and norbornene, plastic films, and plastic panels.

反射防止膜
反射防止膜は表面処理無機酸化物微粒子を含む無機酸化物微粒子層を含んで構成されている。
(i)無機酸化物微粒子層
本発明に用いる無機酸化物微粒子としては、その形状が板状、繊維状、鎖状であることが好ましい。
Antireflection film The antireflection film includes an inorganic oxide fine particle layer containing surface-treated inorganic oxide fine particles.
(i) Inorganic oxide fine particle layer The inorganic oxide fine particles used in the present invention preferably have a plate shape, a fiber shape, or a chain shape.

板状無機酸化物微粒子としては、板状アルミナ微粒子、板状アルミナ水和物微粒子、板状アルミナ・シリカ微粒子が挙げられる。
板状アルミナ水和物微粒子の場合、多くは、擬ベーマイトアルミナ水和物微粒子(Al23・nH2O、n=0.5〜2.5)が用いられ、これは結晶性アルミナ水和物微粒子の一種であり、通常一次粒子が板状に配列して二次粒子を形成している。
Examples of the plate-like inorganic oxide fine particles include plate-like alumina fine particles, plate-like alumina hydrate fine particles, and plate-like alumina / silica fine particles.
In the case of plate-like alumina hydrate fine particles, pseudo boehmite alumina hydrate fine particles (Al 2 O 3 .nH 2 O, n = 0.5 to 2.5) are often used, which is crystalline alumina water. It is a kind of Japanese fine particles, and primary particles are usually arranged in a plate shape to form secondary particles.

無機酸化物微粒子の形状が板状である場合は、板状無機酸化物微粒子が面を接しながら積層した粒子群が凹凸を形成する形で基材上に無機酸化物微粒子層を形成する。 板状無機酸化物微粒子の平均粒子径(DP)が10〜300nmの範囲にあり、平均厚み(TP)が1〜60nmの範囲にあり、平均粒子径(DP)と平均厚み(TP)との比(DP)/(TP)が1.5〜30の範囲にあることが好ましい。 When the shape of the inorganic oxide fine particles is plate-like, the inorganic oxide fine particle layer is formed on the base material in such a manner that the particle group formed by laminating the plate-like inorganic oxide fine particles in contact with the surface forms irregularities. The average particle diameter (D P ) of the plate-like inorganic oxide fine particles is in the range of 10 to 300 nm, the average thickness (T P ) is in the range of 1 to 60 nm, and the average particle diameter (D P ) and the average thickness (T it is preferred to P) and the ratio of (D P) / (T P) is in the range of 1.5 to 30.

板状アルミナ微粒子の平均粒子径(DP)は10〜300nm、さらには30〜250nmの範囲にあることが好ましい。平均粒子径(DP)が前記範囲の下限を超えて小さいものは得ることが困難であり、得られたとしても前記した板状とならず、所望の凹凸を形成できないために最終的に得られる反射防止膜の撥水性が不十分となる場合があり、併せて反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下しする屈折率の低下が不充分となり、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。 The average particle diameter (D P ) of the plate-like alumina fine particles is preferably in the range of 10 to 300 nm, more preferably 30 to 250 nm. It is difficult to obtain a particle having an average particle size (D P ) exceeding the lower limit of the above range, and even if it is obtained, it does not have the plate shape described above, and the desired unevenness cannot be formed. In some cases, the water repellency of the antireflective film is insufficient, and the refractive index of the antireflective film gradually decreases from the bottom to the top. The dazzling performance may be insufficient.

平均粒子径(DP)が大きすぎても、最終的に得られる反射防止膜の強度、硬度、基材との密着性が不十分となる場合がある。
また、板状アルミナ微粒子の平均厚み(TP)は1〜60nm、さらには3〜50nmの範囲にあることが好ましい。平均厚み(TP)が薄すぎるものは得ることが困難であり、得られたとしても所望の凹凸を形成できないために最終的に得られる反射防止膜の撥水性が不十分となる場合があり、併せて反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下しする屈折率の低下が不充分となり、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。
Even if the average particle diameter (D P ) is too large, the strength and hardness of the finally obtained antireflection film and the adhesion to the substrate may be insufficient.
Further, the average thickness (T P) of the plate-like alumina fine particles 1 nm to 60 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm. It is difficult to obtain a film having an average thickness (T P ) that is too thin, and even if it is obtained, the desired unevenness cannot be formed, so that the finally obtained antireflection film may have insufficient water repellency. In addition, the refractive index of the antireflection film gradually decreases as it goes from the lower part to the upper part, so that the refractive index is not sufficiently lowered, and the antireflection performance and the antiglare performance may be insufficient.

平均厚み(TP)が厚すぎると板状構造を取ることは困難で、立方体に近くなり、充分な凹凸を形成できないために最終的に得られる反射防止膜の撥水性、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能等が不十分となる場合がある。 If the average thickness (T P ) is too thick, it is difficult to take a plate-like structure, it becomes close to a cube, and since sufficient unevenness cannot be formed, the water repellency, strength, Adhesion, antireflection performance, antiglare performance, etc. may be insufficient.

前記平均粒子径(DP)と平均厚み(TP)との比(DP)/(TP)は1.5〜50、さらには4〜40の範囲にあることが好ましい。 平均粒子径(DP)と平均厚み(TP)との比(DP)/(TP)が前記範囲にあると、所望の凹凸を形成することができ、最終的に撥水性、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能等に優れた反射防止膜を得ることができる。 The ratio (D P ) / (T P ) between the average particle diameter (D P ) and the average thickness (T P ) is preferably in the range of 1.5 to 50, more preferably 4 to 40. The ratio between the average particle diameter (D P) and the average thickness (T P) (D P) / (T P) is in the range, it is possible to form a desired uneven, finally water repellency, strength An antireflection film excellent in adhesion to the substrate, antireflection performance, antiglare performance and the like can be obtained.

繊維状無機酸化物微粒子としては、繊維状アルミナ微粒子、繊維状アルミナ水和物微粒子、繊維状アルミナ・シリカ微粒子、繊維状シリカ微粒子、繊維状酸化チタン微粒子等が挙げられる。   Examples of the fibrous inorganic oxide fine particles include fibrous alumina fine particles, fibrous alumina hydrate fine particles, fibrous alumina / silica fine particles, fibrous silica fine particles, and fibrous titanium oxide fine particles.

繊維状アルミナ水和物微粒子の場合も、擬ベーマイトアルミナ水和物微粒子(Al23・nH2O、n=0.5〜2.5)を用いることが好ましい。 無機酸化物微粒子の形状が繊維状である場合は、繊維状無機酸化物微粒子が交絡した粒子群が凹凸を形成する形で基材上に無機酸化物微粒子層を形成する。そして、これらの微粒子層が、最終的に得られる撥水性被膜の表面に所望の凹凸を形成する。 Also in the case of fibrous alumina hydrate fine particles, it is preferable to use pseudo boehmite alumina hydrate fine particles (Al 2 O 3 .nH 2 O, n = 0.5 to 2.5). In the case where the shape of the inorganic oxide fine particles is fibrous, the inorganic oxide fine particle layer is formed on the base material in such a manner that the particle group entangled with the fibrous inorganic oxide fine particles forms irregularities. These fine particle layers form desired irregularities on the surface of the finally obtained water-repellent coating.

無機酸化物微粒子の形状が繊維状である場合、繊維状無機酸化物微粒子の平均長さ(LF)が10〜500nmの範囲にあり、平均粒子幅(WFF)が1〜100nmの範囲にあり、平均長さ(LF)と平均粒子幅(WPF)との比(LF)/(WFF)が1.5〜50の範囲にあることが好ましい。繊維状無機酸化物微粒子の平均長さ(LF)はさらには30〜400nmの範囲にあることが好ましい。 When the shape of the inorganic oxide fine particles is fibrous, the average length (L F ) of the fibrous inorganic oxide fine particles is in the range of 10 to 500 nm, and the average particle width (W FF ) is in the range of 1 to 100 nm. And the ratio (L F ) / (W FF ) of the average length (L F ) to the average particle width (W PF ) is preferably in the range of 1.5-50. The average length (L F ) of the fibrous inorganic oxide fine particles is preferably in the range of 30 to 400 nm.

平均長さ(LF)が短いものは、粒子を安定的に再現性よく調製することができない場合があり、得られたとしても繊維状とならず、凹凸を形成できないために最終的に得られる撥水性被膜の撥水性が不十分となる場合があり、また、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。 When the average length (L F ) is short, the particles may not be prepared stably and with good reproducibility. The water repellency of the resulting water repellent coating may be insufficient, and the antireflection performance and antiglare performance may be insufficient.

平均長さ(LF)が長すぎると、同様に粒子を安定的に再現性良く調製することができない場合があり、得られたとしても前記した所定の大きさの繊維状とならず、凹凸を形成できないために最終的に得られる撥水性被膜の撥水性が不十分となる場合があり、また、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。 If the average length (L F ) is too long, the particles may not be prepared stably and with good reproducibility. In some cases, the water repellency of the finally obtained water repellent film may be insufficient, and the antireflection performance and antiglare performance may be insufficient.

平均粒子幅(WF)は、さらには3〜80の範囲にあることが好ましい。
平均粒子幅(WF)が小さいと、粒子を安定的に再現性良く調製することが困難であり、得られたとしても前記した繊維状とならず、凹凸を形成できないために最終的に得られる撥水性被膜の撥水性が不十分となる場合があり、また、反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下する屈折率の低下が不充分となり、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。平均粒子幅(WF)が大きすぎると、繊維状とならず、凹凸を形成できないために最終的に得られる撥水性被膜の撥水性が不十分となり、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。
The average particle width (W F ) is further preferably in the range of 3-80.
When the average particle width (W F ) is small, it is difficult to stably prepare particles with good reproducibility. In some cases, the water repellency of the resulting water repellent film may be insufficient, and the refractive index of the antireflective film gradually decreases from the lower part to the upper part. Performance may be insufficient. If the average particle width (W F ) is too large, it will not be fibrous and will not form irregularities, resulting in insufficient water repellency of the resulting water-repellent coating, resulting in strength, adhesion to the substrate, and reflection. The prevention performance and antiglare performance may be insufficient.

前記平均長さ(LF)と平均粒子幅(WPF)との比(LF)/(WPF)は、さらには4〜40の範囲にあることが好ましい。平均長さ(LF)と平均粒子幅(WPF)との比(LF)/(WPF)が前記範囲にあると、所定の繊維形状となるため、所望の凹凸を形成することができ、最終的に撥水性、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能等に優れた反射防止膜を得ることができる。 The ratio (L F ) / (W PF ) between the average length (L F ) and the average particle width (W PF ) is preferably in the range of 4 to 40. If the average length (L F) the ratio of the average particle width (W PF) (L F) / (W PF) is in the range, for a predetermined fibrous form, to form a desired uneven Finally, an antireflection film excellent in water repellency, strength, adhesion to a substrate, antireflection performance, antiglare performance and the like can be obtained.

鎖状無機酸化物微粒子としては、鎖状シリカ微粒子、鎖状ジルコニア微粒子、鎖状五酸化アンチモン微粒子等が挙げられる。無機酸化物微粒子の形状が鎖状である場合は、前記した繊維状無機酸化物微粒子の場合と同様に鎖状無機酸化物微粒子が交絡した粒子群が凹凸を形成する形で基材上に無機酸化物微粒子層を形成する。そして、これらの微粒子層が、最終的に得られる撥水性被膜の表面に所望の凹凸を形成する。   Examples of the chain inorganic oxide fine particles include chain silica fine particles, chain zirconia fine particles, and chain antimony pentoxide fine particles. When the shape of the inorganic oxide fine particles is a chain shape, as in the case of the fibrous inorganic oxide fine particles described above, the particle group in which the chain inorganic oxide fine particles are entangled forms an irregularity on the base material. An oxide fine particle layer is formed. These fine particle layers form desired irregularities on the surface of the finally obtained water-repellent coating.

無機酸化物微粒子の形状が鎖状である場合、鎖状無機酸化物微粒子が、平均粒子径(DC)が3〜50nmの範囲にある一次微粒子が鎖状に2〜100個連結した微粒子であり、平均長さ(LC)が6〜500nmの範囲にあり、平均長さ(LC)と平均粒子径(DC)との比(LC)/(DC)が2〜50の範囲にあることが好ましい。 When the shape of the inorganic oxide fine particles is a chain shape, the chain inorganic oxide fine particles are fine particles in which 2 to 100 primary fine particles having an average particle diameter (D C ) in the range of 3 to 50 nm are connected in a chain shape. Yes, the average length (L C ) is in the range of 6 to 500 nm, and the ratio of the average length (L C ) to the average particle diameter (D C ) (L C ) / (D C ) is 2 to 50 It is preferable to be in the range.

鎖状無機酸化物微粒子を構成する一次粒子の平均粒子径(DC)は3〜100nm、さらには5〜80nmの範囲にあることが好ましい。一次粒子の平均粒子径(DC)が前記範囲の下限未満のものは、容易に凝集して鎖状粒子が得られない場合があり、大きすぎると一次粒子が連結しにくく鎖状粒子が得られない場合がある。 The average particle size (D C ) of the primary particles constituting the chain inorganic oxide fine particles is preferably in the range of 3 to 100 nm, more preferably 5 to 80 nm. When the average particle diameter (D C ) of the primary particles is less than the lower limit of the above range, chain particles may not be easily aggregated, and if they are too large, the primary particles are difficult to connect to obtain chain particles. It may not be possible.

鎖状無機酸化物微粒子の平均長さ(LC)は10〜500nm、さらには30〜400nmの範囲にあることが好ましい。
平均長さ(LC)が短い場合は、鎖状無機酸化物微粒子が交絡した粒子群が小さく、所望の凹凸を形成できないために最終的に得られる反射防止膜の撥水性が不十分となる場合があり、また、反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下する屈折率の低下が不充分となり、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。
The average length (L C ) of the chain inorganic oxide fine particles is preferably in the range of 10 to 500 nm, more preferably 30 to 400 nm.
When the average length (L C ) is short, the particle group in which the chain-like inorganic oxide fine particles are entangled is small, and the desired anti-reflection cannot be formed, so that the finally obtained antireflection film has insufficient water repellency. In some cases, the refractive index gradually decreases as the refractive index of the antireflection film increases from the lower part to the upper part, and the antireflective performance and antiglare performance may be insufficient.

平均長さ(LC)が長すぎても所定の凹凸を形成できないために最終的に得られる反射防止膜の撥水性が不十分となる場合があり、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。 Even if the average length (L C ) is too long, it is impossible to form the predetermined unevenness, so that the final antireflection film may have insufficient water repellency, strength, adhesion to the substrate, and reflection. The prevention performance and antiglare performance may be insufficient.

前記平均長さ(LC)と平均一次粒子径(DC)との比(LC)/(DC)は1.5〜50、さらには4〜40の範囲にあることが好ましい。
平均長さ(LC)と平均一次粒子径(DC)との比(LC)/(DC)が前記範囲にあると、所定の鎖状形状となるため、所望の凹凸を形成することができ、最終的に撥水性、強度、基材との密着性、反射防止性能、防眩性能等に優れた反射防止膜を得ることができる。
The ratio (L C ) / (D C ) between the average length (L C ) and the average primary particle size (D C ) is preferably in the range of 1.5 to 50, more preferably 4 to 40.
When the ratio (L C ) / (D C ) between the average length (L C ) and the average primary particle diameter (D C ) is within the above range, a predetermined chain shape is formed, and thus desired irregularities are formed. Finally, an antireflection film excellent in water repellency, strength, adhesion to a substrate, antireflection performance, antiglare performance and the like can be obtained.

本発明では、粒子形状および大きさが重要となる。本発明で使用される粒子は後述する凹凸を形成できるとともに、凹凸の表面に微細な凹凸が形成されるために、反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下し、さらに表層部の屈折率が低くなり、撥水性に優れるとともに反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜を得ることができる。   In the present invention, the particle shape and size are important. The particles used in the present invention can form unevenness as described later, and because fine unevenness is formed on the surface of the unevenness, the refractive index of the antireflection film gradually decreases from the bottom to the top, and further the surface layer The refractive index of a part becomes low, and while being excellent in water repellency, the antireflection film excellent in antireflection performance and antiglare performance can be obtained.

本発明で、前記板状無機酸化物微粒子の平均粒子径(DP)、平均厚み(TP)、前記繊維状無機酸化物微粒子の平均長さ(LF)、平均粒子幅(WF)、および鎖状無機酸化物微粒子の平均長さ(LC)、平均一次粒子径(DC)は、原料で使用される板状、繊維状、鎖状の無機酸化物微粒子の数値が対応する。 In the present invention, the average particle diameter (D P ), the average thickness (T P ), the average length (L F ), and the average particle width (W F ) of the fibrous inorganic oxide fine particles. The average length (L C ) and average primary particle diameter (D C ) of the chain inorganic oxide fine particles correspond to the numerical values of the plate-like, fiber-like, and chain-like inorganic oxide fine particles used in the raw material. .

このような無機酸化物微粒子は、式(1)で表される有機ケイ素化合物および/または式(2)で表される有機ケイ素化合物、またはその加水分解物で表面処理される。
n-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10のフッ素置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
n-SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の(メタ)アクリロイル基、アミノ基、メルカプト基で置換されていてもよい炭化水素基(フッ素置換を除く)であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
Such inorganic oxide fine particles are surface-treated with an organosilicon compound represented by the formula (1) and / or an organosilicon compound represented by the formula (2) or a hydrolyzate thereof.
R n -SiX 4-n (1 )
(In the formula, R is a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, Hydrogen, n: an integer of 1 to 3)
R n -SiX 4-n (2)
(In the formula, R is a hydrocarbon group (excluding fluorine substitution) which may be substituted with a (meth) acryloyl group having 1 to 10 carbon atoms, an amino group, or a mercapto group, and is the same as each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)

式(1)で表される加水分解性有機ケイ素化合物としては、パ−フルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パ−フルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パ−フルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン、ジメトキシメチルトリフルオロプロピルシラン、ペンタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリプロポキシシランなどが挙げられる。   Examples of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (1) include perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxy. Examples include silane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecatrifluorodecyltrimethoxysilane, dimethoxymethyltrifluoropropylsilane, pentadecatrifluorodecyltrimethoxysilane, heptadecatrifluorodecyltripropoxysilane, and the like.

また式(2)で表される加水分解性有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメイtルジエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the hydrolyzable organosilicon compound represented by formula (2) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and diphenyl. Dimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3, 3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimeth Xysilane, γ-glycidoxymethyltriexisilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxy Silane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meta ) Acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysiloctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane , Isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (amino Ethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosila , Dimethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyl Examples include methyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and the like, and mixtures thereof.

本発明では、表面処理に式(1)で表される加水分解性有機ケイ素化合物を使用する場合、結合材を使用する必要はなく、またオーバーコート層を形成する必要は必ずもない。また、式(1)で表される有機ケイ素化合物と、式(2)で表される有機ケイ素化合物を併用してもよい。   In the present invention, when the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (1) is used for the surface treatment, it is not necessary to use a binder and it is not always necessary to form an overcoat layer. Further, the organosilicon compound represented by the formula (1) and the organosilicon compound represented by the formula (2) may be used in combination.

このとき、式(2)で表される加水分解性有機ケイ素化合物のn=0(4官能)の加水分解性有機ケイ素化合物、またはn=0(4官能)の加水分解性有機ケイ素化合物とn=1(3官能)の加水分解性有機ケイ素化合物との混合物を用いると、基材との密着性、強度、硬度等に優れ、後述するオーバーコート層がとの結合性も増し、最終的に強度、硬度、撥水性、反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜付基材を得ることができる。   At this time, n = 0 (tetrafunctional) hydrolyzable organosilicon compound represented by formula (2) or n = 0 (tetrafunctional) hydrolyzable organosilicon compound and n = 1 (Trifunctional) mixture with a hydrolyzable organosilicon compound is excellent in adhesion to the substrate, strength, hardness, etc., and the overcoat layer described later also increases the bondability with the final, finally A base material with an antireflection film excellent in strength, hardness, water repellency, antireflection performance and antiglare performance can be obtained.

無機酸化物微粒子の加水分解性有機ケイ素化合物での表面処理量は、無機酸化物微粒子を酸化物(1)として100重量部に対し加水分解性有機ケイ素化合物をRn-SiO(4-n)/2として1〜200重量部、さらには5〜100重量部の範囲にあることが好ましい。 The amount of surface treatment of the inorganic oxide fine particles with the hydrolyzable organosilicon compound is such that the hydrolyzable organosilicon compound is R n —SiO 2 (4-n) with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles as the oxide (1 ). / 2 is preferably in the range of 1 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight.

無機酸化物微粒子の加水分解性有機ケイ素化合物で表面処理量が前記範囲にあると、分散性が高く、結合材との結合が促進され、最終的に強度、硬度、ヘーズ、反射防止性能、防眩性能等に優れた撥水性を有する反射防止膜付基材を得ることができる。
表面処理無機酸化物微粒子層には結合材が含まれていることが好ましい。
When the surface treatment amount is within the above range with a hydrolyzable organosilicon compound of inorganic oxide fine particles, the dispersibility is high and the bonding with the binder is promoted, and finally the strength, hardness, haze, antireflection performance, A substrate with an antireflection film having water repellency excellent in dazzling performance and the like can be obtained.
The surface-treated inorganic oxide fine particle layer preferably contains a binder.

(ii)結合材
反射防止膜は、前記表面処理無機酸化物微粒子を結合し、基材との密着性、強度、硬度を向上させる目的で、結合材を含んでいることが好ましい。
(ii) Binder The antireflection film preferably contains a binder for the purpose of binding the surface-treated inorganic oxide fine particles and improving the adhesion, strength, and hardness with the substrate.

式(2)で表される有機ケイ素化合物で表面処理された場合、結合材を含ませると、密着性や強度を高めることができるので、望ましい。なお、式(1)の有機ケイ素化合物で表面処理されたものに結合材を含ませることを除外するものでない。   In the case where the surface treatment is performed with the organosilicon compound represented by the formula (2), it is preferable to include a binder because the adhesion and strength can be increased. In addition, it does not exclude including a binder in what was surface-treated with the organosilicon compound of Formula (1).

結合材としては、シリカが望ましく、さらには、シリカゾル、酸性珪酸酸液、加水分解性有機ケイ素化合物に由来するシリカが好適である。
なかでも、下記式(3)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物であるシリカ結合材が好ましい。
As the binder, silica is desirable, and silica derived from silica sol, acidic silicic acid solution, and hydrolyzable organosilicon compound is more preferable.
Among these, a silica binder which is a hydrolyzed polycondensate of a hydrolyzable organosilicon compound represented by the following formula (3) is preferable.

n-SiX4-n (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:0〜1の整数)
R n -SiX 4-n (3 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 1)

ここで、加水分解重縮合物とは、後述する製造工程で、加水分解性有機ケイ素化合物、これらの部分加水分解物、加水分解物であったものが加熱処理によって重縮合したものであることを意味している。   Here, the hydrolyzed polycondensate is a hydrolyzable organosilicon compound, a partial hydrolyzate thereof, or a hydrolyzate that has been polycondensed by heat treatment in the production process described later. I mean.

このような加水分解性有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。   Such hydrolyzable organosilicon compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxy. Silane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltri Methoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysila , Γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxy Silane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylic Rooxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyl Triethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriiso Propoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (amino Ethyl) .gamma.-aminopropyltrimethoxysilane, N- phenyl--γ- aminopropyltrimethoxysilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyl trichlorosilane, and the like and mixtures thereof.

なかでも、n=0(4官能)の加水分解性有機ケイ素化合物、またはn=0(4官能)の加水分解性有機ケイ素化合物とn=1(3官能)の加水分解性有機ケイ素化合物との混合物を用いると、基材との密着性、強度、硬度等に優れ、後述するフッ素含有シリカ系層からなるオーバーコート層との結合性も増し、最終的に強度、硬度、撥水性に優れた反射防止膜付基材を得ることができる。   Among them, n = 0 (tetrafunctional) hydrolyzable organosilicon compound, or n = 0 (tetrafunctional) hydrolyzable organosilicon compound and n = 1 (trifunctional) hydrolyzable organosilicon compound When the mixture is used, it has excellent adhesion to the base material, strength, hardness, etc., and also increases the bondability with the overcoat layer composed of the fluorine-containing silica-based layer described later, and finally has excellent strength, hardness, water repellency. A substrate with an antireflection film can be obtained.

結合材の含有量は無機酸化物微粒子層中の無機酸化物微粒子を酸化物換算し100重量部に対し、結合材を酸化物に換算して1〜200重量部、さらには10〜190重量部の範囲にあることが好ましい。   The content of the binder is 1 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 190 parts by weight when the binder is converted to an oxide with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles in the inorganic oxide fine particle layer. It is preferable that it exists in the range.

結合材の含有量が少ないと、無機酸化物微粒子層と基材との密着性、強度、硬度等が不充分となる場合がある。シリカ結合材の含有量が多すぎても、無機酸化物微粒子層表面の凹凸が小さくなる場合があり、最終的に得られる反射防止膜の撥水性が不充分となる場合があり、また、反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下する屈折率の低下が不充分となり、反射防止性能、防眩性能が不充分となる場合がある。   If the binder content is low, the adhesion, strength, hardness, etc. between the inorganic oxide fine particle layer and the substrate may be insufficient. Even if the content of the silica binder is too much, irregularities on the surface of the inorganic oxide fine particle layer may be reduced, and the water repellency of the finally obtained antireflection film may be insufficient, The refractive index gradually decreases as the refractive index of the prevention film decreases from the lower part to the upper part, so that the antireflection performance and the antiglare performance may be insufficient.

(iii)オーバーコート層
前記無期酸化物微粒子層上にはオーバーコート層が形成されている。
特に、前記した無機酸化物微粒子の表面処理に式(2)で表される加水分解性有機ケイ素化合物を用いてない場合は、オーバーコート層の形成が必須である。
このようなオーバーコート層としては、無機酸化物微粒子層と結合し、撥水性を向上できれば特に制限はないが、本発明では、下記式(4)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物であるフッ素含有シリカ系層が好ましい。
(iii) Overcoat layer An overcoat layer is formed on the infinite oxide fine particle layer.
In particular, when the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (2) is not used for the surface treatment of the inorganic oxide fine particles, the formation of an overcoat layer is essential.
Such an overcoat layer is not particularly limited as long as it can bind to the inorganic oxide fine particle layer and improve water repellency, but in the present invention, the hydrolyzable organosilicon compound represented by the following formula (4) is hydrolyzed. A fluorine-containing silica-based layer that is a decomposed polycondensate is preferred.

n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10のフッ素置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
R n -SiX 4-n (4 )
(In the formula, R is a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, Hydrogen, n: an integer of 1 to 3)

ここで、加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物とは、後述する製造工程で、加水分解性有機ケイ素化合物、これらの部分加水分解物、加水分解物であったものが加熱処理によって重縮合したものであることを意味している。   Here, the hydrolyzable polycondensate of a hydrolyzable organosilicon compound means a hydrolyzable organosilicon compound, a partial hydrolyzate thereof, or a hydrolyzate that has been subjected to heat treatment in the production process described later. It means that it is condensed.

このような加水分解性有機ケイ素化合物としては、前記した式(1)で表される加水分解性有機ケイ素化合物と同じ化合物が挙げられる。
前記フッ素含有シリカ系層が、さらに下記式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物を含んでいてもよい。
Examples of such a hydrolyzable organosilicon compound include the same compounds as the hydrolyzable organosilicon compound represented by the above formula (1).
The fluorine-containing silica-based layer may further contain a hydrolysis polycondensate of a hydrolyzable organosilicon compound represented by the following formula (5).

SiX4 (5)
(但し、式中、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素)
ここで、加水分解重縮合物とは、後述する製造工程で、加水分解性有機ケイ素化合物、これらの部分加水分解物、加水分解物であったものが加熱処理によって重縮合したものであることを意味している。
SiX 4 (5)
(Wherein, X: C1-C4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen)
Here, the hydrolyzed polycondensate is a hydrolyzable organosilicon compound, a partial hydrolyzate thereof, or a hydrolyzate that has been polycondensed by heat treatment in the production process described later. I mean.

式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (5) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, and the like, and mixtures thereof.

なお、上記以外に、Xとして炭素数が5以上のアルコキシ基を有する加水分解性有機ケイ素化合物を併用することもできる。
式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物が混合して含まれている場合、式(4)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物のRn-SiO(4-n)/2の100重量部に対して、式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物をSiO2として200重量部以下、さらには1〜100重量部の範囲で含んでいることが望ましい。式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物の含有量が前記範囲にあると、反射防止膜の撥水性を低下することなく強度、硬度等に優れた反射防止膜付基材を得ることができる。
In addition to the above, a hydrolyzable organosilicon compound having an alkoxy group having 5 or more carbon atoms as X can also be used in combination.
When the hydrolyzable polycondensate of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (5) is mixed and contained, the hydrolyzate polycondensate of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (4) The hydrolyzable polycondensate of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (5) as SiO 2 is less than 200 parts by weight based on 100 parts by weight of R n —SiO 2 (4-n) / 2. Is preferably contained in the range of 1 to 100 parts by weight. When the content of the hydrolyzable polycondensate of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (5) is in the above range, the antireflection excellent in strength, hardness and the like without reducing the water repellency of the antireflection film. A substrate with a film can be obtained.

オーバーコート層は前記無機酸化物微粒子層中の無機酸化物微粒子100重量部に対し、酸化物換算(Rn-SiO(4-n)/2)で1〜100重量部、さらには2〜80重量部の範囲にあることが好ましい。 The overcoat layer is 1 to 100 parts by weight in terms of oxide (R n —SiO (4-n) / 2 ), more preferably 2 to 80 parts per 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles in the inorganic oxide fine particle layer. It is preferably in the range of parts by weight.

オーバーコート層の含有量が少ないと、一部、オーバーコート層が形成されていない塗布ムラが生じ、充分な撥水性、強度、硬度、耐擦傷性が得られない場合があり、また、オーバーコート層の含有量が多すぎても、後述する反射防止膜表面の凹凸の凸部間距離(WF)が小さくなり、撥水性はむしろ低下する場合があり、また、反射防止膜の強度、硬度が不十分となる場合がある。 If the content of the overcoat layer is small, uneven coating may occur in some cases where the overcoat layer is not formed, and sufficient water repellency, strength, hardness, and scratch resistance may not be obtained. Even if the layer content is too large, the distance (W F ) between the projections and depressions on the surface of the antireflection film, which will be described later, may be reduced, and the water repellency may rather decrease, and the strength and hardness of the antireflection film May become insufficient.

ハードコート層
本発明では、前記した基材と無機酸化物微粒子層との間にハードコート層を有することが望ましい。これによって、無機酸化物微粒子層の密着性をより高めることが可能となるとともに、硬度、耐擦傷性に優れた反射防止膜付基材を得ることができる。
Hard Coat Layer In the present invention, it is desirable to have a hard coat layer between the base material and the inorganic oxide fine particle layer. As a result, the adhesion of the inorganic oxide fine particle layer can be further improved, and a substrate with an antireflection film excellent in hardness and scratch resistance can be obtained.

ハードコート層としては、無機酸化物微粒子層、さらには反射防止膜の密着性を向上でき、ハードコート性(硬度、耐擦傷性)を向上できれば特に制限はないが、従来公知の有機樹脂あるいは無機酸化物からなる膜、さらにはこれらにシリカ微粒子等の無機酸化物微粒子を配合した膜を形成することができる。   The hard coat layer is not particularly limited as long as the adhesion of the inorganic oxide fine particle layer and the antireflection film can be improved and the hard coat properties (hardness and scratch resistance) can be improved. A film made of an oxide, and a film in which inorganic oxide fine particles such as silica fine particles are blended with these can be formed.

さらには、本願出願人の出願による特開2005−186435号公報に開示した鎖状の五酸化アンチモン粒子、本願出願人の出願による特開2009−83224号公報等に開示した球状係数が特定反にあるシリカを主成分とする金属酸化物粒子を配合したハードコート層も好適に採用することができる。   Furthermore, the chain antimony pentoxide particles disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-186435 filed by the applicant of the present application, the spherical coefficient disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-83224 filed by the present applicant, and the like are specified. A hard coat layer containing metal oxide particles mainly composed of a certain silica can also be suitably employed.

形成方法は、基材との密着性、耐擦傷性等を向上できれば特に制限はなく、有機樹脂成分あるいは無機酸化物成分と前記した粒子を含む塗布液をバーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等周知の方法で、基材上に塗布し、乾燥し、ついで加熱処理、電子線照射などによって硬化させることによって形成することができる。   The forming method is not particularly limited as long as it can improve adhesion to the substrate, scratch resistance, etc., and a coating solution containing the organic resin component or the inorganic oxide component and the above-described particles is a bar coater method, a dip method, a spray method, It can be formed by applying on a substrate, drying by a well-known method such as spinner method, roll coating method, gravure coating method, slit coating method, and then curing by heat treatment, electron beam irradiation or the like.

ハードコート層は、ハードコート層の厚さが0.5〜20μm、さらには1.0〜15μmの範囲にあるように形成されることが好ましい。
ハードコート層が薄いと前記ハードコート性を向上させる効果が不充分となる場合がある。ハードコート層が厚すぎても、さらにハードコート性が向上することもなく、クラックが発生して硬度が低下したり、不十分となる場合がある。
The hard coat layer is preferably formed so that the thickness of the hard coat layer is in the range of 0.5 to 20 μm, more preferably 1.0 to 15 μm.
If the hard coat layer is thin, the effect of improving the hard coat property may be insufficient. Even if the hard coat layer is too thick, the hard coat properties are not further improved, cracks may be generated, and the hardness may be lowered or insufficient.

中間膜
本発明では、前記した基材または基材上のハードコート層と無機酸化物微粒子層との間に高屈折率微粒子および/または導電性微粒子を含む中間膜を有することが望ましい。これによって、反射防止膜の反射防止性能をより高めたり、帯電防止性能を付与することができる。
Intermediate Film In the present invention, it is desirable to have an intermediate film containing high refractive index fine particles and / or conductive fine particles between the base material or the hard coat layer on the base material and the inorganic oxide fine particle layer. Thereby, the antireflection performance of the antireflection film can be further increased, or the antistatic performance can be imparted.

高屈折率微粒子としては、TiO2、ZrO2、ZnO、Sb25、ZnO2、SnO2、In23等およびこれらの複合酸化物微粒子、混合物等が挙げられる。
また、導電性微粒子としては上記Sb25、ZnO2、SnO2、In23等の他アンチモンドープ酸化錫(ATO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化錫(FTO)、リンドープ酸化錫(PTO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)等の高屈折率の導電性微粒子が挙げられる。
Examples of the high refractive index fine particles include TiO 2 , ZrO 2 , ZnO, Sb 2 O 5 , ZnO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 and the like, and composite oxide fine particles, mixtures thereof, and the like.
Further, as the conductive fine particles, antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), F-doped tin oxide (FTO), such as Sb 2 O 5 , ZnO 2 , SnO 2 , In 2 O 3, etc. Examples thereof include conductive fine particles having a high refractive index such as phosphorus-doped tin oxide (PTO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO).

中間膜の屈折率(nM)は反射防止膜の屈折率(nR)より高く、屈折率差(nM)−屈折率(nR)が0.01〜0.5、さらには0.02〜0.3の範囲にあることが好ましい。
また、中間膜の厚さは概ね、10〜300nm、さらには30〜200nmの範囲にあることが好ましい。
The refractive index (n M ) of the intermediate film is higher than the refractive index (n R ) of the antireflection film, the refractive index difference (n M ) −refractive index (n R ) is 0.01 to 0.5, and further It is preferable to be in the range of 02 to 0.3.
The thickness of the intermediate film is preferably in the range of 10 to 300 nm, more preferably 30 to 200 nm.

凹凸構造
本発明に係る反射防止膜付基材は、表面が凹凸構造を有する。
該凹凸構造は、凸部の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(ピッチ幅)、水との接触角で定義される。
Irregular structure The surface of the substrate with an antireflection film according to the present invention has an uneven structure.
The concavo-convex structure is defined by the average height (T F ) of the convex portions, the distance between the average convex portions (pitch width), and the contact angle with water.

該凹凸構造の凸部の平均高さ(TF)が30〜500nm、さらには50〜400nmの範囲にあることが好ましい。凸部の平均高さ(TF)が小さいと、反射防止膜の撥水性が不十分となる場合があり、併せて前記した屈折率の低下が小さくなり、反射防止性能が不充分となる場合がある。 It is preferable that the average height (T F ) of the projections of the concavo-convex structure is in the range of 30 to 500 nm, more preferably 50 to 400 nm. When the average height (T F ) of the convex portion is small, the water repellency of the antireflection film may be insufficient, and the decrease in the refractive index described above is also small, resulting in insufficient antireflection performance. There is.

凸部の平均高さ(TF)が大きすぎると、反射防止膜の強度が不十分となる場合がある。
また、平均凸部間距離(ピッチ幅ということがある)(WF)は50〜1000nm、さらには70〜800nmの範囲にあることが好ましい。平均凸部間距離(WF)が短いと、反射防止膜の撥水性が不十分となる場合がある。平均凸部間距離(WF)が大きすぎても、反射防止膜の撥水性が不十分となる場合がある。
If the average height (T F ) of the convex portions is too large, the strength of the antireflection film may be insufficient.
Moreover, it is preferable that the distance between average convex parts (it may be called pitch width) (W F ) is in the range of 50 to 1000 nm, more preferably 70 to 800 nm. If the average distance between convex portions (W F ) is short, the water repellency of the antireflection film may be insufficient. Even if the average inter-convex distance (W F ) is too large, the water repellency of the antireflection film may be insufficient.

前記平均高さ(TF)と前記平均凸部間距離(WF)との比(TF)/(WF)(アスペクト比ということがある)は0.1〜10、さらには0.2〜5の範囲にあることが好ましい。(TF)/(WF)が小さい場合は、表面の凹凸構造の凸部の高さが不十分であるため、反射防止膜の撥水性が不十分となる場合がある。
(TF)/(WF)が大きすぎると無機酸化物微粒子を配列することが困難で、例え無機酸化物微粒子が配列できたとしても、反射防止膜の強度、硬度が不十分となる場合がある。
A ratio (T F ) / (W F ) (sometimes referred to as an aspect ratio) between the average height (T F ) and the average distance between the convex portions (W F ) is 0.1 to 10, more preferably 0. It is preferable that it exists in the range of 2-5. When (T F ) / (W F ) is small, the height of the convex portion of the concavo-convex structure on the surface is insufficient, and thus the water repellency of the antireflection film may be insufficient.
When (T F ) / (W F ) is too large, it is difficult to arrange the inorganic oxide fine particles, and even if the inorganic oxide fine particles can be arranged, the strength and hardness of the antireflection film are insufficient. There is.

本発明では、前記凸部の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)は反射防止膜の断面の透過型電子顕微鏡写真(TEM)を撮影し、50個の凸部の高さ、ピッチ間距離を測定し、その平均値とした。 In the present invention, the average height (T F ) of the protrusions and the average distance (W F ) between the protrusions are obtained by taking a transmission electron micrograph (TEM) of the cross section of the antireflection film. The height and the distance between pitches were measured, and the average value was obtained.

前記凸部の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)は、無機酸化物微粒子の大きさおよび形状、すなわち、板状無機酸化物微粒子では平均粒子径(DP)、平均厚み(TP)、繊維状無機酸化物微粒子では平均長さ(LF)、平均粒子幅(WPF)、鎖状無機酸化物微粒子では平均長さ(LC)、平均一次粒子径(DC)を選択するとともに、後述する透明被膜付基材の製造方法に於ける無機酸化物微粒子分散液の濃度、塗布方法等に調整される。具体的には、平均粒子径(DP)、平均長さ(LF)、平均長さ(LC)の大きい場合、平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)が大きくなる傾向にあり、また、無機酸化物微粒子分散液の濃度が高い場合平均高さ(TF)が高くなる傾向にあり、濃度が低い場合平均凸部間距離(WF)が大きくなる傾向にある。 The average height (T F ) of the protrusions and the average distance (W F ) between the protrusions are the size and shape of the inorganic oxide fine particles, that is, the average particle diameter (D P ) for the plate-like inorganic oxide fine particles, Average thickness (T P ), average length (L F ), average particle width (W PF ) for fibrous inorganic oxide fine particles, average length (L C ), average primary particle diameter ( C ) for chain inorganic oxide fine particles D C ) is selected and adjusted to the concentration of the inorganic oxide fine particle dispersion, the coating method, and the like in the method for producing a transparent film-coated substrate described later. Specifically, when the average particle diameter (D P ), average length (L F ), and average length (L C ) are large, the average height (T F ) and the average inter-convex distance (W F ) are When the concentration of the inorganic oxide fine particle dispersion is high, the average height (T F ) tends to be high. When the concentration is low, the average distance between the convex portions (W F ) tends to be large. It is in.

本発明の反射防止膜表面の凸部は、凸部表面にさらに微細な凹凸を有している。
これを図1にモデル図で示す。
微細凹凸の凸部の平均高さ(TFF)は3〜50nm、さらには3〜45nmの範囲にあることが好ましい。
The convex portion on the surface of the antireflection film of the present invention has finer irregularities on the convex portion surface.
This is shown in a model diagram in FIG.
It is preferable that the average height (T FF ) of the convex portions of the fine irregularities is in the range of 3 to 50 nm, more preferably 3 to 45 nm.

本発明では、前記凸部の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)は、原子間力顕微鏡(AFM)(Bruker(株)製:Dimension 3100)により測定した。
微細凹凸の凸部の平均高さ(TFF)が前記範囲にあると、より撥水性に優れるとともに、反射防止膜の屈折率が下部から上部になるに従って徐々に低下し、かつ、表層がより屈折率が低下し、反射防止性能、防眩性能に優れた反射防止膜付基材が得られる。
In the present invention, the average height (T F ) and the average distance (W F ) between the convex portions were measured by an atomic force microscope (AFM) (manufactured by Bruker Co., Ltd .: Dimension 3100).
When the average height (T FF ) of the convex portions of the fine irregularities is in the above range, the water repellency is more excellent, the refractive index of the antireflection film gradually decreases from the bottom to the top, and the surface layer is more A base material with an antireflection film having a reduced refractive index and excellent antireflection performance and antiglare performance is obtained.

また、微細凹凸の凸部の平均凸部間距離(WFF)が3〜50nm、さらには3〜45nmの範囲にあることが好ましい。
微細凹凸の凸部の平均凸部間距離(WFF)が前記範囲にあると、前記平均高さ(TFF)が所定範囲にある場合と同様に、より撥水性および反射防止性能に優れた反射防止膜付基材が得られる。
Moreover, it is preferable that the average distance (W FF ) between the convex portions of the fine irregularities is in the range of 3 to 50 nm, more preferably 3 to 45 nm.
When the average convex-to-convex distance (W FF ) of the convexes of fine irregularities is in the above range, the water repellency and antireflection performance are more excellent as in the case where the average height (T FF ) is in the predetermined range. A base material with an antireflection film is obtained.

このような、微細凹凸の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)は、前記した平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)測定時に測定することができ、任意の凸部5個について、凸部を指定して拡大すると微細凹凸の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)を測定することができる。 The average height (T FF ) and average distance between convex portions (W FF ) of such fine irregularities should be measured when measuring the above average height (T F ) and average distance between convex portions (W F ). When an arbitrary five convex portions are designated and enlarged, the average height (T FF ) and the average inter-convex distance (W FF ) of the fine irregularities can be measured.

つぎに、反射防止膜は水との接触角が130〜180°、さらには145〜180°の範囲にあることが好ましい。
反射防止膜の水との接触角が前記範囲にあれば、水滴が反射防止膜上に付着することなく水を弾くような撥水性反射防止膜を得ることができる。
Next, the antireflection film preferably has a contact angle with water of 130 to 180 °, more preferably 145 to 180 °.
If the contact angle of the antireflection film with water is within the above range, a water-repellent antireflection film that repels water without water droplets adhering to the antireflection film can be obtained.

これは、特定の表面処理無機酸化物微粒子から形成した前記凹凸構造による特性である。接触角を前記範囲で調整するには、前記した方法で凸部の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)を所定範囲に調整すればよいが、加えてアスペクト比(TF)/(WF)を所定の0.1〜10の範囲、特に1〜5の範囲にすることが好ましい。 This is a characteristic of the concavo-convex structure formed from specific surface-treated inorganic oxide fine particles. In order to adjust the contact angle within the above range, the average height (T F ) and the average inter-convex distance (W F ) of the convex portions may be adjusted within a predetermined range by the method described above. It is preferable to set T F ) / (W F ) in a predetermined range of 0.1 to 10, particularly 1 to 5.

このような凹凸構造は、前記した繊維状、板状、鎖状粒子を表面処理して、微粒子層を形成することによって形成できる。したがって、凹凸構造は、粒子形状や表面処理量やその種類によって、調整できる。   Such a concavo-convex structure can be formed by surface-treating the above-described fibrous, plate-like, or chain-like particles to form a fine particle layer. Therefore, the concavo-convex structure can be adjusted by the particle shape, the surface treatment amount, and the type thereof.

本発明に係る反射防止膜付基材は、反射率(Rf)が2%以下、さらには1.5%以下であることが好ましい。反射率(Rf)が2%を超えると、反射防止性能が不充分となり、表示装置に用いた場合などにコントラストが低下したり、映り込みが起こる場合がある。   The substrate with an antireflection film according to the present invention preferably has a reflectance (Rf) of 2% or less, more preferably 1.5% or less. When the reflectance (Rf) exceeds 2%, the antireflection performance becomes insufficient, and when used in a display device, contrast may be lowered or reflection may occur.

また、ヘーズが10%以下、さらには7%以下、特に4%以下であることが好ましい。ヘーズが10%を超えると、透明性が不充分となり、コントラストが低下したり、表示画面が白味を帯びる場合がある。
つぎに、本発明に係る反射防止膜付基材の製造方法について説明する。
The haze is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, and particularly preferably 4% or less. If the haze exceeds 10%, the transparency may be insufficient, the contrast may be reduced, and the display screen may be white.
Below, the manufacturing method of the base material with an antireflection film concerning the present invention is explained.

[反射防止膜付基材の製造方法]
以上の本発明の反射防止膜付基材は、樹脂基材表面に、前記無機酸化物微粒子を含む分散液を、塗布乾燥して反射防止膜を形成することで製造される。
[Method for producing base material with antireflection film]
The base material with an antireflection film of the present invention described above is produced by coating and drying the dispersion containing the inorganic oxide fine particles on the surface of the resin base material to form an antireflection film.

あらかじめ、樹脂基材表面にハードコート層を形成しておいてもよい。
ハードコート層形成用塗布液としては、無機酸化物微粒子層、さらには反射防止膜の密着性、ハードコート性(硬度、耐擦傷性)を向上できれば特に制限はなく、前記したハードコート層を形成しうる成分を含む塗布液を用いることができる。
A hard coat layer may be formed on the surface of the resin base material in advance.
The coating liquid for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it can improve the adhesion and hard coat properties (hardness and scratch resistance) of the inorganic oxide fine particle layer and the antireflection film, and the hard coat layer described above is formed. The coating liquid containing the component which can be used can be used.

ハードコート層形成用塗布液の塗布量は、塗布液の濃度によっても異なるが、前記したようにハードコート層の膜厚が0.5〜20μm、さらには1.0〜15μmとなるように塗布することが好ましい。   The coating amount of the coating liquid for forming the hard coat layer varies depending on the concentration of the coating liquid, but as described above, coating is performed so that the film thickness of the hard coat layer is 0.5 to 20 μm, and further 1.0 to 15 μm. It is preferable to do.

ハードコート層が薄いと前記ハードコート性を向上させる効果が不充分となる場合がある。ハードコート層が厚すぎても、さらにハードコート性が向上することもなく、クラックが発生して硬度が低下したり、不十分となる場合がある。   If the hard coat layer is thin, the effect of improving the hard coat property may be insufficient. Even if the hard coat layer is too thick, the hard coat properties are not further improved, cracks may be generated, and the hardness may be lowered or insufficient.

塗布方法としては、後述するの表面処理無機酸化物微粒子分散液の塗布方法と同様にバーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等が挙げられる。   Examples of the coating method include a bar coater method, a dip method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, a gravure coating method, a slit coating method and the like, as in the coating method of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion described later. .

ハードコート層形成用塗布液を塗布後、乾燥することが好ましく、乾燥方法は従来公知の方法を採用することができ、例えば、乾燥温度は、ハードコート層形成用塗布液の分散媒を実質的に除去できれば特に制限はないが概ね50〜120℃である。   It is preferable to dry after applying the coating liquid for forming the hard coat layer, and a conventionally known method can be adopted as the drying method. For example, the drying temperature is substantially equal to the dispersion medium of the coating liquid for forming the hard coat layer. However, the temperature is generally 50 to 120 ° C.

また、基材上に、ハードコート層形成する前あるいは形成した後、中間膜を形成することが好ましい。
中間膜は中間膜形成用塗布液を塗布し、乾燥して中間膜を形成する。
Moreover, it is preferable to form an intermediate film on the substrate before or after the hard coat layer is formed.
The intermediate film is formed by applying a coating solution for forming an intermediate film and drying it.

このような中間膜形成用塗布液としては、このような中間膜形成用塗布液としては、有機樹脂または無機酸化物からなるマトリックス形成成分に、前記無機酸化物微粒子層よりも中間膜の屈折率が高くなるように屈折率の高い金属酸化物微粒子を配合した塗布液が用いられる。屈折率の高い金属酸化物微粒子としては、TiO2、ZrO2、Sb25、B23、ZnO、SnO2、In23等およびこれらの複合酸化物、あるいはアンチモンドープ酸化錫(ATO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、Fドープ酸化錫(FTO)、リンドープ酸化錫(PTO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)等の導電性を有する高屈折率の粒子が挙げられる。 As such a coating liquid for forming an intermediate film, such a coating liquid for forming an intermediate film includes a refractive index of the intermediate film as compared with the inorganic oxide fine particle layer in a matrix forming component made of an organic resin or an inorganic oxide. A coating solution in which metal oxide fine particles having a high refractive index are blended so as to increase the refractive index is used. Examples of the metal oxide fine particles having a high refractive index include TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 5 , B 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 and the like, and complex oxides thereof, or antimony-doped tin oxide ( Examples thereof include high refractive index particles having conductivity such as ATO, tin-doped indium oxide (ITO), F-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), and aluminum-doped zinc oxide (AZO).

中間膜形成用塗布液の塗布量は、塗布液の濃度によっても異なるが、前記したように中間膜の膜厚が10〜300nm、さらには30〜200nmとなるように塗布することが好ましい。   The coating amount of the coating solution for forming the intermediate film varies depending on the concentration of the coating solution, but it is preferable that the coating is performed so that the thickness of the interlayer film is 10 to 300 nm, further 30 to 200 nm as described above.

中間膜が薄いと前記反射防止性能、帯電防止性能を向上させる効果が不充分となる場合がある。中間膜が厚すぎても、さらに反射防止性能が向上することもなく、透明性が低下したり、クラックが発生して硬度が低下したり、不十分となる場合がある。   If the intermediate film is thin, the effect of improving the antireflection performance and antistatic performance may be insufficient. Even if the intermediate film is too thick, the antireflection performance is not further improved, and the transparency may be lowered, the crack may be generated and the hardness may be lowered, or may be insufficient.

塗布方法としては、本発明で採用される表面処理無機酸化物微粒子分散液の塗布方法と同様にバーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等が挙げられる。   As a coating method, the bar coater method, the dip method, the spray method, the spinner method, the roll coating method, the gravure coating method, the slit coating method, etc., as in the coating method of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion employed in the present invention. Is mentioned.

中間膜形成用塗布液を塗布後、乾燥することが好ましく、乾燥方法は従来公知の方法を採用することができ、例えば、乾燥温度は、中間膜形成用塗布液の分散媒を実質的に除去できれば特に制限はないが概ね50〜120℃である。
こうして、必要に応じて、ハードコート層、中間膜が形成された基板上にに、無機酸化物微粒子層を形成する。
It is preferable to dry after applying the coating solution for forming the intermediate film, and a conventionally known method can be adopted as the drying method. For example, the drying temperature substantially removes the dispersion medium of the coating solution for forming the intermediate film. Although there is no particular limitation if possible, it is generally 50 to 120 ° C.
Thus, if necessary, an inorganic oxide fine particle layer is formed on the substrate on which the hard coat layer and the intermediate film are formed.

無機酸化物微粒子層の形成
本発明に用いる無機酸化物微粒子としては、前記した板状、繊維状、鎖状の無機酸化物微粒子が用いられ、さらには、前記式(1)ないし(2)の有機ケイ素化合物で表面処理されたものが好ましく用いられる。
本発明で用いる板状、繊維状、鎖状の無機酸化物微粒子において、好適に用いられる繊維状、板状のアルミナ水和物微粒子の製造方法を例示する。
Formation of Inorganic Oxide Fine Particle Layer As the inorganic oxide fine particles used in the present invention, the above-described plate-like, fibrous, and chain-like inorganic oxide fine particles are used, and further, the formulas (1) to (2) What was surface-treated with an organosilicon compound is preferably used.
Examples of the method for producing fibrous and plate-like alumina hydrate fine particles that are suitably used in the plate-like, fiber-like, and chain-like inorganic oxide fine particles used in the present invention.

アルミナ水和物微粒子の調製法
本発明に用いるアルミナ水和物微粒子の製造方法としては、前記したアルミナ水和物微粒子が得られれば特に制限はないが、以下の方法が例示される。
Preparation Method of Alumina Hydrate Fine Particles The method for producing the alumina hydrate fine particles used in the present invention is not particularly limited as long as the above-mentioned alumina hydrate fine particles are obtained, but the following methods are exemplified.

まず、繊維状アルミナ水和物微粒子の基本的製造方法を例示する。
(1)アルミニウム塩水溶液にアルカリ水溶液を加えて中和してアルミニウムヒドロゲルスラリーを調製し、必要に応じて熟成する方法、
(2)上記熟成後にアルカリ水溶液を加え、必要に応じて熟成し、ついで、アルミニウム塩水溶液を加え、必要に応じて熟成する方法、
(3)上記(2)を繰り返し行う方法。
First, a basic method for producing fibrous alumina hydrate fine particles will be exemplified.
(1) A method of preparing an aluminum hydrogel slurry by adding an alkaline aqueous solution to an aqueous aluminum salt solution to neutralize it, and aging as necessary,
(2) A method of adding an alkaline aqueous solution after the aging, aging as necessary, then adding an aluminum salt aqueous solution, and aging as necessary.
(3) A method of repeating (2) above.

あるいは、同様に
(4)アルミン酸ソーダ水溶液に酸水溶液を加えて中和してアルミニウムヒドロゲルスラリーを調製し、必要に応じて熟成する方法、
(5)上記熟成後に酸水溶液を加え、必要に応じて熟成し、ついで、アルミン酸ソーダ水溶液を加え、必要に応じて熟成する方法、
(6)上記(5)を繰り返し行う方法。
Alternatively, (4) a method in which an acid aqueous solution is added to a sodium aluminate aqueous solution to neutralize it to prepare an aluminum hydrogel slurry, and is aged as necessary.
(5) A method of adding an acid aqueous solution after the aging and aging as necessary, then adding a sodium aluminate aqueous solution and aging as necessary.
(6) A method of repeating (5) above.

さらに、
(7)アルミニウム塩水溶液とアルミン酸ソーダ水溶液とを混合してアルミニウムヒドロゲルスラリーを調製し、必要に応じて熟成する方法。この場合
(8)前記(2)あるいは(5)を行い、必要に応じてこれを繰り返す方法、を行っても良い。
further,
(7) A method of preparing an aluminum hydrogel slurry by mixing an aluminum salt aqueous solution and a sodium aluminate aqueous solution, and aging as necessary. In this case, (8) The method (2) or (5) may be performed, and this may be repeated as necessary.

本発明では、前記方法で得られたアルミニウムヒドロゲルスラリーを洗浄して用いるが、洗浄して得られた微粒子を本発明に用いるアルミナ水和物微粒子とする。
洗浄方法としては、濾過して、掛け水する方法、限外濾過法、さらには陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂、両イオン交換樹脂等でカチオン、アニオンを除去する方法、これらを併用する方法、繰り返し行う方法が挙げられる。
In the present invention, the aluminum hydrogel slurry obtained by the above method is washed and used. The fine particles obtained by washing are used as the alumina hydrate fine particles used in the present invention.
As a washing method, a method of filtering and spraying, an ultrafiltration method, a method of removing cations and anions with a cation exchange resin, an anion exchange resin, both ion exchange resins, etc., a method of using these in combination The method of repeatedly performing is mentioned.

上記において、アルミニウム塩水溶液としては塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、酢酸アルミニウム等の有機酸アルミニウム塩等の水溶液が挙げられる。   In the above, examples of the aqueous aluminum salt solution include aqueous solutions of organic acid aluminum salts such as aluminum chloride, aluminum nitrate, aluminum sulfate, and aluminum acetate.

アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、アンモニア等の水溶液が挙げられる。その他、クエン酸、りんご酸、乳酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、フタル酸等の従来公知の粒子成長調整剤を配合して用いることができる。   Examples of the alkaline aqueous solution include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and aqueous solutions such as ammonia. In addition, conventionally known particle growth regulators such as citric acid, malic acid, lactic acid, fumaric acid, maleic acid, adipic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, tartaric acid, and phthalic acid can be blended and used.

以上のようにして本発明に用いることのできる繊維状アルミナ水和物微粒子を調製することができる。繊維状アルミナ微粒子(二次粒子)の平均長さ(LF)、平均粒子幅(WF)は、使用原料、中和条件、熟成条件、その際の濃度、洗浄条件、有機カルボン酸等の粒子成長調整剤の使用等周知の方法で調整することができる。 As described above, fibrous alumina hydrate fine particles that can be used in the present invention can be prepared. The average length (L F ) and average particle width (W F ) of the fibrous alumina fine particles (secondary particles) are the raw materials used, neutralization conditions, aging conditions, concentration at that time, washing conditions, organic carboxylic acid, etc. It can adjust by well-known methods, such as use of a particle growth regulator.

つぎに、板状アルミナ水和物微粒子の基本的製造方法を例示する。
第1の例は、繊維状アルミナ水和物微粒子を調製した場合と同様にアルミナヒドロゲルスラリーを調製するが、このとき、酸性のアルミナヒドロゲルスラリーを調製し、ついで、必要に応じて加温下で塩基性化合物を加えてアルカリ性にし、ついで、必要に応じて加温下で酸性化合物を加えて酸性にし、ついで、必要に応じて加温下で塩基性化合物を加えてアルカリ性のアルミナヒドロゲルスラリーを調製する。
Next, a basic method for producing plate-like alumina hydrate fine particles will be exemplified.
In the first example, an alumina hydrogel slurry is prepared in the same manner as in the case of preparing fibrous alumina hydrate fine particles. At this time, an acidic alumina hydrogel slurry is prepared, and then heated as necessary. Add basic compound to make it alkaline, then add acidic compound under heating if necessary to make acidic, then add basic compound under heating if necessary to prepare alkaline alumina hydrogel slurry To do.

あるいは、アルカリ性のアルミナヒドロゲルスラリーを調製した場合は、ついで、必要に応じて加温下で酸性化合物を加えて酸性にし、ついで、必要に応じて加温下で塩基性化合物を加えてアルカリ性にし、ついで、必要に応じて加温下で酸性化合物を加えて酸性のアルミナヒドロゲルスラリーを調製する。   Alternatively, when an alkaline alumina hydrogel slurry is prepared, it is then made acidic by adding an acidic compound under heating, if necessary, and then made basic by adding a basic compound under heating, if necessary. Next, an acidic compound is added under heating as necessary to prepare an acidic alumina hydrogel slurry.

ついで、アルミナヒドロゲルスラリーを従来公知の方法で洗浄することによって板状アルミナ水和物微粒子を調製することができる。
これとは別の第2の例は、アルミン酸ナトリウム水溶液に、必要に応じて加温下で、酸性化合物を加えてアルカリ性領域のアルミナヒドロゲルスラリーを調製し、加温下で熟成することによって一次粒子がほぼ正方形の板状のアルミナ水和物微粒子を調製することができる。ついで、従来公知の方法で充分に洗浄した後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAOH)等の有機塩基を加え、オートクレーブ等を用いて高温下、水熱処理し、ついで、洗浄して有機塩基を除去することによって、本発明に好適に用いることのできる板状アルミナ水和物微粒子を調製することができる。
Subsequently, plate-like alumina hydrate fine particles can be prepared by washing the alumina hydrogel slurry by a conventionally known method.
A second example different from this is to prepare an alumina hydrogel slurry in an alkaline region by adding an acidic compound to a sodium aluminate aqueous solution with heating as necessary, and then ripen under heating to produce a primary solution. Plate-like alumina hydrate fine particles having substantially square particles can be prepared. Next, after thoroughly washing by a conventionally known method, an organic base such as tetramethylammonium hydroxide (TMAOH) is added, hydrothermally treated at a high temperature using an autoclave or the like, and then washed to remove the organic base. Thus, plate-like alumina hydrate fine particles that can be suitably used in the present invention can be prepared.

本発明で使用される表面処理無機酸化物微粒子は、前記した板状、繊維状、鎖状の無機酸化物微粒子が、前記したような加水分解性有機ケイ素化合物および/または加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物で表面処理されている。   The surface-treated inorganic oxide fine particles used in the present invention are the above-described plate-like, fiber-like, and chain-like inorganic oxide fine particles, which are hydrolyzable organosilicon compounds and / or hydrolyzable organosilicon compounds as described above. Surface treatment with hydrolyzate of

無機酸化物微粒子の加水分解性有機ケイ素化合物での表面処理量は、無機酸化物微粒子を酸化物(1)として100重量部に対し加水分解性有機ケイ素化合物をRn-SiO(4-n)/2として1〜200重量部、さらには5〜100重量部の範囲にあることが好ましい。 The amount of surface treatment of the inorganic oxide fine particles with the hydrolyzable organosilicon compound is such that the hydrolyzable organosilicon compound is R n —SiO 2 (4-n) with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles as the oxide (1 ). / 2 is preferably in the range of 1 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight.

表面処理方法は、例えば、前記無機酸化物微粒子水分散液を限外濾過膜法でメタノール等のアルコールに溶媒置換し、前記加水分解性有機ケイ素化合物を所定量混合し、必要に応じて加水分解用の水、加水分解用触媒として酸あるいはアルカリを添加し、必要に応じて熟成する方法等が挙げられる。   As the surface treatment method, for example, the inorganic oxide fine particle aqueous dispersion is solvent-substituted with an alcohol such as methanol by an ultrafiltration membrane method, a predetermined amount of the hydrolyzable organosilicon compound is mixed, and hydrolyzed as necessary. For example, a method of adding an acid or alkali as water for hydrolysis and a catalyst for hydrolysis, and aging as necessary may be mentioned.

分散媒
表面処理無機酸化物微粒子分散液の分散媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセテート等のエステル類、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プルピレングリコールモノプロピルエーテル等のエーテル類を含む親水性溶媒、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセタート等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類;トルエン等極性溶媒が挙げられる。さらに、N−メチルピロリドン等の極性溶媒を用いることもでき、これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
Examples of the dispersion medium for the dispersion medium surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, and tetrahydrofurfuryl alcohol; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol, Glycols such as hexylene glycol; diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol Hydrophilic solvents including ethers such as isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and propylene glycol monopropyl ether, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, acetic acid Esters such as isopentyl, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol monoacetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, dipropyl ketone, Ketones such as methyl pentyl ketone and diisobutyl ketone; and polar solvents such as toluene. Furthermore, polar solvents such as N-methylpyrrolidone can also be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

表面処理無機酸化物微粒子分散液の濃度は固形分として0.1〜20重量%、さらには0.5〜10重量%の範囲にあることが好ましい。表面処理無機酸化物微粒子分散液の濃度が低いと、無機酸化物微粒子層の厚みが薄く、所望の凹凸が形成できない場合があり、また、一部無機酸化物微粒子層の無い塗布ムラが生じ、充分な反射防止性能、防眩性能、撥水性、強度、硬度、耐擦傷性が得られない場合がある。   The concentration of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion is preferably in the range of 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight as the solid content. If the concentration of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion is low, the thickness of the inorganic oxide fine particle layer may be thin, and desired irregularities may not be formed. Sufficient antireflection performance, antiglare performance, water repellency, strength, hardness, and scratch resistance may not be obtained.

表面処理無機酸化物微粒子分散液の濃度が高いと、塗布方法によっても異なるが、塗工性が低下して所望の凹凸を形成できない場合があり、得られる被膜の撥水性、反射防止性能が不充分となる場合がある。   If the concentration of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion is high, the coating properties may be lowered and the desired unevenness may not be formed depending on the coating method, and the resulting film may have poor water repellency and antireflection performance. May be sufficient.

表面処理無機酸化物微粒子分散液を塗布するが、塗布方法としては、概ね所望の凹凸構造を有する無機酸化物微粒子層を形成できれば特に制限は無く、例えば、バーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等が挙げられる。   The surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion is applied, but the coating method is not particularly limited as long as an inorganic oxide fine particle layer having a generally desired uneven structure can be formed. For example, a bar coater method, a dip method, a spray method, Examples thereof include a spinner method, a roll coat method, a gravure coat method, and a slit coat method.

表面処理無機酸化物微粒子分散液を塗布後、乾燥することが好ましく、乾燥方法は従来公知の方法を採用することができ、例えば、乾燥温度は、無機酸化物微粒子分散液の分散媒を実質的に除去できれば特に制限はないが概ね50〜120℃である。
表面処理剤が、前記したように式(2)の有機ケイ素化合物を使用した場合、結合材用塗布液を塗布して結合材を無機酸化物微粒子層に含有させる。
It is preferable to dry after applying the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion, and a conventionally known method can be adopted as the drying method. For example, the drying temperature is substantially equal to the dispersion medium of the inorganic oxide fine particle dispersion. However, the temperature is generally 50 to 120 ° C.
When the surface treatment agent uses the organosilicon compound of the formula (2) as described above, the binder is applied to the inorganic oxide fine particle layer by applying a coating solution for the binder.

結合材の含有
結合材としては、前記したとおりであり、結合材が分散した塗布液が使用される。
結合材用塗布液の分散媒は、表面処理無機酸化物微粒子分散液の分散媒と同様の分散媒を用いることができる。
結合材用塗布液の濃度は酸化物またはRn-SiO(4-n)/2として0.05〜20重量%、さらには0.1〜10重量%の範囲にあることが好ましい。
The binder contained in the binder is as described above, and a coating liquid in which the binder is dispersed is used.
As the dispersion medium for the binder coating liquid, the same dispersion medium as that of the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion can be used.
The concentration of the coating solution for the binder is preferably in the range of 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight as oxide or R n —SiO 2 (4-n) / 2 .

結合材用塗布液の濃度が前記範囲にあると、塗布方法によっても異なるが、無機酸化物微粒子層に均一に塗布することができ、表面処理無機酸化物微粒子の結合材として機能し、強度、硬度に優れ、また、基材との密着性に優れた無機酸化物微粒子層を形成することができる。   When the concentration of the coating liquid for the binder is in the above range, it can be uniformly applied to the inorganic oxide fine particle layer, although it varies depending on the coating method, functions as a binder for the surface-treated inorganic oxide fine particles, An inorganic oxide fine particle layer having excellent hardness and excellent adhesion to the substrate can be formed.

結合材用塗布液は、無機酸化物微粒子層中の表面処理無機酸化物微粒子を酸化物(1)として100重量部に対し、結合材が酸化物換算(Rn-SiO(4-n)/2)して、1〜200重量部、さらには10〜190重量部の範囲となるように結合材用塗布液を用いる。 The coating liquid for the binder is composed of 100 parts by weight of the surface-treated inorganic oxide fine particles in the inorganic oxide fine particle layer as oxide (1), and the binder is converted into oxide (R n -SiO (4-n) / 2 ) Then, the coating solution for the binder is used so as to be in the range of 1 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 190 parts by weight.

結合材用塗布液の塗布量が少ないと、無機酸化物微粒子層の基材との密着性、強度、硬度等が不充分となる場合がある。
結合材用塗布液の塗布量が多すぎても、表面凹凸、表面粗さが小さくなり、最終的に得られる反射防止膜の撥水性、反射防止性能が不充分となる場合がある。
If the coating amount of the binder coating solution is small, the adhesiveness, strength, hardness, etc. of the inorganic oxide fine particle layer to the substrate may be insufficient.
Even if the coating amount of the binder coating solution is too large, the surface unevenness and the surface roughness become small, and the water repellency and antireflection performance of the finally obtained antireflection film may be insufficient.

結合材用塗布液の塗布方法としては、アルミナ水和物微粒子層に均一に塗布できれば特に制限は無く、例えば、バーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等が挙げられる。   The coating method for the binder coating solution is not particularly limited as long as it can be uniformly applied to the alumina hydrate fine particle layer. For example, a bar coater method, a dip method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, a gravure coating method, The slit coat method etc. are mentioned.

結合材用塗布液を塗布後、乾燥することが好ましく、乾燥方法は従来公知の方法を採用することができ、例えば、乾燥温度は、結合材用塗布液の分散媒を実質的に除去できれば特に制限はないが概ね50〜120℃、好ましくは60〜100℃である。   It is preferable to dry after applying the coating liquid for the binder, and a conventionally known method can be adopted as the drying method. For example, the drying temperature is particularly limited as long as the dispersion medium of the binder coating liquid can be substantially removed. Although there is no restriction | limiting, it is 50-120 degreeC in general, Preferably it is 60-100 degreeC.

さらに、必要に応じて加熱処理することもできる。加熱処理温度は、基材の種類によっても異なるが、130〜700℃、さらには150〜500℃の範囲にあることが好ましい。   Furthermore, it can also heat-process as needed. Although heat processing temperature changes also with the kind of base material, it is preferable that it exists in the range of 130-700 degreeC, Furthermore, 150-500 degreeC.

オーバーコート層形成
無機酸化物微粒子層上に、必要に応じてオーバーコート層形成用塗布液を塗布してオーバーコート層を形成する。
An overcoat layer-forming coating solution is applied onto the overcoat layer-forming inorganic oxide fine particle layer as necessary to form an overcoat layer.

本発明では、前記表面処理に式(1)で表される加水分解性有機ケイ素化合物を使用している場合は、必ずしもオーバーコート層を設ける必要はないが、設けることも可能である。   In the present invention, when the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (1) is used for the surface treatment, it is not always necessary to provide an overcoat layer, but it is also possible to provide it.

オーバーコート層を構成する成分としては、前記したとおりである。
塗布液には無機酸化物微粒子層と結合し、撥水性を向上できれば特に制限はないが、本発明では、前記のように式(4)で表されるフッ素含有加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物を用いることが好ましい。
The components constituting the overcoat layer are as described above.
The coating solution is not particularly limited as long as it can bind to the inorganic oxide fine particle layer and improve water repellency, but in the present invention, as described above, the hydrolyzable fluorine-containing hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (4) is added. It is preferable to use a decomposition product.

式(4)で表される加水分解性有機ケイ素化合物を用いることによって撥水性を向上できることに加えて、屈折率の低いフッ素含有シリカ系層を無機酸化物微粒子層上に形成することができ、反射防止性能を向上することができる。   In addition to being able to improve water repellency by using the hydrolyzable organosilicon compound represented by formula (4), a fluorine-containing silica-based layer having a low refractive index can be formed on the inorganic oxide fine particle layer, The antireflection performance can be improved.

また、オーバーコート層形成用塗布液には、さらに下記式(5)で表される加水分解性有機ケイ素化合物および/または加水分解物を含むことが好ましい。
SiX4 (5)
(但し、式中、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素)
The overcoat layer forming coating solution preferably further contains a hydrolyzable organosilicon compound and / or a hydrolyzate represented by the following formula (5).
SiX 4 (5)
(Wherein, X: C1-C4 alkoxy group, hydroxyl group, halogen, hydrogen)

このような加水分解性有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
オーバーコート層形成用塗布液中の有機ケイ素化合物および/または加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物をRn-SiO(4-n)/2として100重量部に対し、SiO2として0〜100重量部、さらには0〜50重量部の範囲にあることが好ましい。
Examples of such hydrolyzable organosilicon compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane.
The hydrolyzate of over-the organosilicon compound and / or a hydrolyzable organic silicon compound of the coat layer forming coating liquid to R n -SiO (4-n) / 2 as 100 parts by weight, as SiO 2 0 to 100 It is preferable that it exists in the range of a weight part and also 0-50 weight part.

式(9)で表される加水分解性有機ケイ素化合物および/または加水分解物の量が前記範囲にあれば、撥水性を低下させることなく、より強度、硬度、耐擦傷性等に優れた反射防止膜付基材を得ることができる。   If the amount of the hydrolyzable organosilicon compound represented by the formula (9) and / or the hydrolyzate is within the above range, the reflection is more excellent in strength, hardness, scratch resistance, etc. without reducing water repellency. A substrate with a protective film can be obtained.

オーバーコート層形成用塗布液の分散媒としては、表面処理無機酸化物微粒子分散液の分散媒と同様の分散媒を用いることができる。
オーバーコート層形成用塗布液の濃度は、シリカ換算[Rn-SiO(4-n)/2+SiO2]として0.05〜20重量%、さらには0.1〜10重量%の範囲にあることが好ましい。
As a dispersion medium for the coating liquid for forming the overcoat layer, the same dispersion medium as that for the surface-treated inorganic oxide fine particle dispersion can be used.
The concentration of the overcoat layer-forming coating solution, in terms of silica [R n -SiO (4-n ) / 2 + SiO 2] 0.05~20 % by weight, still more in the range of 0.1 to 10 wt% It is preferable.

オーバーコート層形成用塗布液の濃度が低い場合は、一部オーバーコート層の無い塗布ムラが生じ、充分な撥水性、強度、硬度、耐擦傷性が得られない場合がある。オーバーコート層形成用塗布液の濃度が高すぎても、所望の凹凸構造が得られない場合があり、撥水性がさらに向上することもなく、反射防止性能、強度、硬度が不十分となる場合がある。   When the concentration of the coating solution for forming the overcoat layer is low, uneven coating without a part of the overcoat layer occurs, and sufficient water repellency, strength, hardness, and scratch resistance may not be obtained. Even if the concentration of the overcoat layer forming coating solution is too high, the desired uneven structure may not be obtained, the water repellency will not be further improved, and the antireflection performance, strength, and hardness will be insufficient. There is.

オーバーコート層形成用塗布液の塗布量は、形成された表面処理無機酸化物微粒子層中の微粒子を酸化物(1)として100重量部に対し[Rn-SiO(4-n)/2+SiO2]として1〜100重量部、さらには1〜80重量部の範囲にあることが好ましい。 The coating amount of the overcoat layer forming coating solution is [R n -SiO (4-n) / 2 + SiO with respect to 100 parts by weight of the fine particles in the formed surface-treated inorganic oxide fine particle layer as oxide (1). 2 ] is preferably in the range of 1 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 80 parts by weight.

オーバーコート層形成用塗布液の塗布量が少ないと、一部オーバーコート層の無い塗布ムラが生じ、充分な撥水性、強度、硬度、耐擦傷性が得られない場合がある。オーバーコート層形成用塗布液の塗布量が多すぎても、所望の凹凸構造が得られない場合があり、撥水性がさらに向上することもなく、反射防止性能、強度、硬度が不十分となる場合がある。   If the coating amount of the overcoat layer forming coating solution is small, uneven coating with no overcoat layer occurs, and sufficient water repellency, strength, hardness, and scratch resistance may not be obtained. Even if the coating amount of the overcoat layer forming coating solution is too large, the desired uneven structure may not be obtained, and the water repellency is not further improved, and the antireflection performance, strength and hardness are insufficient. There is a case.

オーバーコート層形成用塗布液の塗布方法としては、無機酸化物微粒子層に均一に塗布できれば特に制限は無く、例えば、バーコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、スリットコート法等が挙げられる。   The coating method of the overcoat layer forming coating solution is not particularly limited as long as it can be uniformly applied to the inorganic oxide fine particle layer. For example, a bar coater method, a dip method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, a gravure coating method. And a slit coating method.

オーバーコート層形成用塗布液を塗布後、乾燥することが好ましく、乾燥方法は従来公知の方法を採用することができ、例えば、乾燥温度は、オーバーコート層形成用塗布液の分散媒を実質的に除去できれば特に制限はないが概ね50〜120℃、好ましくは60〜100℃である。   It is preferable to dry after applying the overcoat layer-forming coating solution, and a conventionally known method can be adopted as the drying method. For example, the drying temperature is substantially equal to the dispersion medium of the overcoat layer-forming coating solution. However, it is generally 50 to 120 ° C, preferably 60 to 100 ° C.

通常、溶媒を除去する目的で、加熱処理する。 加熱処理温度は、基材の種類によっても異なるが、80〜300℃、さらには130〜250℃の範囲にあることが好ましい。
なお、前記オーバーコート層形成後、80〜120℃で乾燥した場合は、加熱処理はしなくともよい。
Usually, heat treatment is performed for the purpose of removing the solvent. Although heat processing temperature changes also with the kind of base material, it is preferable that it exists in the range of 80-300 degreeC, Furthermore, 130-250 degreeC.
When the overcoat layer is formed and dried at 80 to 120 ° C., heat treatment is not necessary.

乾燥・加熱処理によって、無機酸化物微粒子層または結合材を含む無機酸化物微粒子層と該無機酸化物微粒子層上のオーバーコート層との結合が増し、強度、硬度、耐擦傷性、及び基材との密着性を高めることができる。   By the drying / heating treatment, the bond between the inorganic oxide fine particle layer or the inorganic oxide fine particle layer containing the binder and the overcoat layer on the inorganic oxide fine particle layer is increased, and the strength, hardness, scratch resistance, and base material are increased. Adhesion can be improved.

加熱処理温度が低いと、無機酸化物微粒子と結合材とからなる無機酸化物微粒子層と該無機酸化物微粒子層上のオーバーコート層(フッ素含有シリカ系層)との結合が不十分となり、強度、硬度、耐擦傷性及び基材との密着性が不十分となる場合がある。   When the heat treatment temperature is low, the bond between the inorganic oxide fine particle layer composed of the inorganic oxide fine particles and the binder and the overcoat layer (fluorine-containing silica-based layer) on the inorganic oxide fine particle layer becomes insufficient, and the strength , Hardness, scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient.

加熱処理温度が高すぎると、基材の種類によっては耐熱性を超える場合があり、また、オーバーコート層(フッ素含有シリカ系層)に含まれるフッ素置換炭化水素基が分解して、撥水性、強度、硬度、及び密着性が不十分となる場合がある。   If the heat treatment temperature is too high, the heat resistance may be exceeded depending on the type of the substrate, and the fluorine-substituted hydrocarbon group contained in the overcoat layer (fluorine-containing silica-based layer) is decomposed, resulting in water repellency, Strength, hardness, and adhesion may be insufficient.

[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
[実施例1]
表面処理アルミナ水和物微粒子(1)分散液の調製
スチームジャケット加温式のチタン製100Lタンクへ 純水 55.987kgを張り込み、これに塩化アルミニウム六水和物(関東化学(株)製: 鹿特級、AlCl3・6H2O濃度98重量%)3.532kgを溶解する。この溶液へ水酸化ナトリウム(関東化学(株)製:鹿特級、NaOH濃度48重量%)2.710kgを添加混合する。これを撹拌下、80℃ へ昇温し、1時間保持してpH4.0 のアルミナヒドロゲルスラリー(1-1)を62.229kg得た。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.
[Example 1]
Preparation of surface-treated alumina hydrate fine particles (1) Dispersion A steam jacket heating type 100L tank made of titanium is charged with 55.987kg of pure water, and aluminum chloride hexahydrate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer) Special grade, AlCl 3 .6H 2 O concentration 98 wt%) 3.532 kg is dissolved. To this solution, 2.710 kg of sodium hydroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer special grade, NaOH concentration 48% by weight) is added and mixed. The mixture was heated to 80 ° C. with stirring and maintained for 1 hour to obtain 62.229 kg of alumina hydrogel slurry (1-1) having a pH of 4.0.

このアルミナヒドロゲルスラリー(1-1)を80℃に保ったまま、撹拌下、水酸化ナトリウム(関東化学(株)製:鹿特級、48重量%NaOH)0.620kgを添加混合し、撹拌下80℃で1時間保持して、pH8.5のアルミナヒドロゲルスラリー(1-2)62.849kgを得た。このアルミナヒドロゲルスラリー(1-2)を80℃に保ったまま、撹拌下、塩化アルミニウム六水物(関東化学(株)製: 鹿特級、98重量%AlCl3・6H2O)1.314kgを純水1.463kgに溶解した塩化アルミニウム水溶液2.777kgを添加混合し、撹拌下80℃で1時間保持して、pH4.5のアルミナヒドロゲルスラリー(1-3)65.626kgを得た。 While maintaining the alumina hydrogel slurry (1-1) at 80 ° C., 0.620 kg of sodium hydroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer special grade, 48 wt% NaOH) was added and mixed, and the mixture was stirred for 80 Holding at 1 ° C. for 1 hour, 62.849 kg of alumina hydrogel slurry (1-2) having a pH of 8.5 was obtained. While maintaining this alumina hydrogel slurry (1-2) at 80 ° C., 1.314 kg of aluminum chloride hexahydrate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer special grade, 98 wt% AlCl 3 .6H 2 O) is stirred. 2.777 kg of an aluminum chloride aqueous solution dissolved in 1.463 kg of pure water was added and mixed, and kept at 80 ° C. for 1 hour with stirring to obtain 65.626 kg of alumina hydrogel slurry (1-3) having a pH of 4.5.

このアルミナヒドロゲルスラリー(1-3)を80℃に保ったまま、撹拌下、水酸化ナトリウム(関東化学(株)製:鹿特級、48重量%NaOH)1.241kgを添加混合し、撹拌下80℃で1時間保持して、pH9.5のアルミナヒドロゲルスラリー(1-4)66.867kgを得た。このアルミナヒドロゲルスラリー(1-4)を限外濾過装置に充填し、Al23としての濃度が4.5重量%となるまで濃縮した。 While maintaining this alumina hydrogel slurry (1-3) at 80 ° C., 1.241 kg of sodium hydroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer special grade, 48 wt% NaOH) was added and mixed, and the mixture was stirred at 80 ° C. Holding at 1 ° C. for 1 hour, 66.867 kg of pH 9.5 alumina hydrogel slurry (1-4) was obtained. This alumina hydrogel slurry (1-4) was filled in an ultrafiltration device and concentrated until the concentration as Al 2 O 3 was 4.5% by weight.

Al23としての濃度が4.5重量%のアルミナヒドロゲルスラリー(1-4)を60℃の温純水 にて、残留するナトリウムおよび塩素の濃度が10ppm以下となるまで洗浄を行い、Al23としての濃度が5重量%のアルミナヒドロゲルスラリー(1-5)を得た。 Al concentration as 2 O 3 is at 4.5 wt% alumina hydrogel slurry (1-4) to 60 ° C. of warm pure water, washed until the concentration of sodium remaining and chlorine is 10ppm or less, Al 2 O An alumina hydrogel slurry (1-5) having a concentration of 3 as a weight of 5% by weight was obtained.

ついで、アルミナヒドロゲルスラリー(1-5)1000gに陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:SK−1BH)33gを添加し、1時間攪拌して脱アルカリ処理した。
ついで陽イオン交換樹脂を分離した後、陰イオン交換樹脂(三菱化学(製):SANUPC)33gを添加し、1時間攪拌して脱アニオン処理した。ついで、再び陽イオン交換樹脂(三菱化学(製):SK−1BH)33gを添加し、1時間攪拌して脱アルカリ処理してAl23としての濃度が4.8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)分散液を調製した。
Next, 33 g of a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: SK-1BH) was added to 1000 g of the alumina hydrogel slurry (1-5), and the mixture was stirred for 1 hour for dealkalization.
Next, after separating the cation exchange resin, 33 g of an anion exchange resin (Mitsubishi Chemical (manufactured): SANUPC) was added, and the mixture was stirred for 1 hour for deanion treatment. Next, 33 g of cation exchange resin (Mitsubishi Chemical Corporation: SK-1BH) was added again, and the mixture was stirred for 1 hour and dealkalized to obtain a hydrated alumina having a concentration of 4.8% by weight as Al 2 O 3. A fine particle (1) dispersion was prepared.

この分散液を、限外濾過膜を用いてメタノールにて溶媒置換して、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液を得た。
アルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液の一部を乾燥し、走査型電子顕微鏡写真(SEM)を撮影し、図2に示した。
The dispersion was subjected to solvent substitution with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain alumina hydrate fine particles (1) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight.
Part of the alumina hydrate fine particles (1) methanol dispersion was dried, and a scanning electron micrograph (SEM) was taken and shown in FIG.

平均粒子長さ(LF)、平均粒子幅(WPF)を測定し、結果を表に示す。
ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液を調製した。
The average particle length (L F ) and average particle width (W PF ) were measured, and the results are shown in the table.
Next, 100 g of alumina hydrate fine particles having a solid content concentration of 8 wt% (1) tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8 wt%) 1 Next, 3.1 g of ultrapure water was added and stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare surface-treated alumina hydrate fine particles (1) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、無機酸化物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(1)分散液を調製した。   Surface-treated alumina hydrate microparticles with a solid content of 8% by weight (1) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) ): SOLMIX A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 100 g, and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form a surface having a solid content concentration of 2% by weight for forming an inorganic oxide fine particle layer A treated alumina hydrate fine particle (1) dispersion was prepared.

結合材用塗布液(1)の調製
混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)72.5gに水10.0gと濃度61重量%の硝酸0.1gを添加し、25℃で10分撹拌した。ついで、テトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)17.4gを添加し、30℃で30分撹拌してテトラエトキシシラン加水分解物(固形分濃度5.0重量%、分子量:1000)を得た。ついで、ジアセトンアルコール(DAA)333.3gとエチレングリコールモノイソプロピルエーテル(I−PG)666.6gと混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)566.67gを添加して25℃で30分撹拌し、固形分濃度0.3重量%のシリカからなる結合材用塗布液(1)を調製した。
Preparation of coating liquid for binding material (1) Mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 72.5 g with water 10.0 g and concentration 61% by weight 0.1 g of nitric acid was added and stirred at 25 ° C. for 10 minutes. Next, 17.4 g of tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration 28.8 wt%) was added and stirred at 30 ° C. for 30 minutes to hydrolyze tetraethoxysilane. (Solid content concentration 5.0 wt%, molecular weight: 1000) was obtained. Next, 333.3 g of diacetone alcohol (DAA), 666.6 g of ethylene glycol monoisopropyl ether (I-PG) and mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, methanol, ethanol and isopropyl alcohol 566.67 g of mixed alcohol) was added and stirred at 25 ° C. for 30 minutes to prepare a binder coating solution (1) made of silica having a solid concentration of 0.3% by weight.

オーバーコート層形成用塗布液(1)の調製
混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)2252.5gに水159.0gと濃度61重量%の硝酸3.3gを添加し、25℃で5分撹拌した。ついで、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(MOMENTIVE製:TSL8257、固形分濃度98%)46.4gを添加し、25℃で5分間撹拌し、ついで、オートクレーブにて、100℃で3時間処理した。その後、PGM356.39gとDAA213.91gを添加し、25℃で30分処理して固形分濃度1.50重量%のフッ素含有シリカ系層形成用塗布液を調製した。
Preparation of coating liquid for overcoat layer formation (1) Mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 2252.5 g with water 159.0 g and concentration 61 3.3% by weight of nitric acid was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes. Next, 46.4 g of tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by MOMENTIVE: TSL8257, solid concentration: 98%) was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes, and then treated in an autoclave at 100 ° C. for 3 hours. Thereafter, 356.39 g of PGM and 213.91 g of DAA were added and treated at 25 ° C. for 30 minutes to prepare a coating solution for forming a fluorine-containing silica-based layer having a solid content concentration of 1.50% by weight.

ついで、固形分濃度1.50重量%のフッ素含有シリカ系層形成用塗布液100gにPGM10gと混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)40gを添加し、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)を調製した   Subsequently, 10 g of PGM and mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) were added to 100 g of fluorine-containing silica-based layer forming coating solution having a solid content concentration of 1.50% by weight. 40 g was added to prepare an overcoat layer forming coating solution (1) having a solid content concentration of 1.0%.

ハードコート層形成用塗布液(1)の調製
シリカゾル(日揮触媒化成(株)製:カタロイド SI−30、平均粒子径12nm、SiO2濃度40.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.46)100gにγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン1.88g(信越シリコ−ン株製:KBM−503、SiO2成分81.2%)を混合し超純水を3.1g添加し50℃で20時間攪拌して表面処理した12nmのシリカゾル分散液を得た(固形分濃度40.5重量%)。
Preparation of hard coat layer forming coating solution (1) Silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: Cataloid SI-30, average particle size 12 nm, SiO 2 concentration 40.5% by weight, dispersion medium: isopropanol, particle refraction (Rate 1.46) 1.88 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.2%) was mixed with 100 g of ultrapure water (3.1 g). The resultant was added and stirred at 50 ° C. for 20 hours to obtain a surface-treated 12 nm silica sol dispersion (solid concentration: 40.5% by weight).

その後、ロータリーエバポレーターでプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)に溶剤置換した(固形分40.5重量%)。
ついで、固形分濃度40.5重量%のシリカゾルのプロピレングリコールモノプロピルエーテル分散液51.85gと、ジヘキサエリスリトールトリアセテート(共栄社化学(株)製:DPE−6A)18.90g、と1.6−ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製;ライトアクリレートSR−238F)2.10gとシリコーン系レベリング剤(楠本化成(株)製;ディスパロン1610)0.01gと光重合開始剤(チバジャパン(株))製:イルガキュア184、PGMEで固形分濃度10重量%に溶解)12.60gとPGME14.54gとを充分に混合して固形分濃度42.0重量%のハードコート膜形成用塗布液(1)を調製した。
Thereafter, the solvent was replaced with propylene glycol monopropyl ether (PGME) by a rotary evaporator (solid content: 40.5% by weight).
Subsequently, 51.85 g of a silica sol propylene glycol monopropyl ether dispersion having a solid content concentration of 40.5% by weight, 18.90 g of dihexaerythritol triacetate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: DPE-6A), and 1.6- Hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; light acrylate SR-238F) 2.10 g, silicone leveling agent (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd .; Disparon 1610) and photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd.) )) Made: Irgacure 184, dissolved in PGME to a solid content concentration of 10% by weight) 12.60 g and 14.54 g of PGME are thoroughly mixed to form a hard coat film forming coating solution having a solid content concentration of 42.0% by weight (1 ) Was prepared.

反射防止膜付基材(1)の製造
固形分濃度42.0重量%のハードコート膜形成用塗布液(1)を、TACフィルム(パナック(株)製:FT−PB80UL−M、厚さ:80μm、屈折率:1.51)にバーコーター法(#16)で塗布し、80℃で2分間乾燥後、300mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材を形成した。
Production of substrate with antireflection film (1) Hard coating film-forming coating liquid (1) having a solid content concentration of 42.0% by weight was prepared from a TAC film (manufactured by Panac Corporation: FT-PB80UL-M, thickness: 80 μm, refractive index: 1.51), coated by the bar coater method (# 16), dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then cured by irradiating with 300 mJ / cm 2 ultraviolet rays to form a substrate with a hard coat film did.

ついで、固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(1)分散液を、バーコーター法(#3)で、乾燥層厚が表となるように塗布し、80℃で30秒間乾燥した。ついで、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で、表面処理アルミナ水和物微粒子(1)層上に表の含有量となるように塗布し、80℃で10分間加熱した。   Next, a dispersion of surface-treated alumina hydrate fine particles (1) with a solid content concentration of 2% by weight was applied by the bar coater method (# 3) so that the dry layer thickness was the front, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. did. Next, the coating liquid for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight is adjusted to the content shown in the table on the surface-treated alumina hydrate fine particles (1) layer by the bar coater method (# 3). And heated at 80 ° C. for 10 minutes.

ついで、固形分濃度1.0重量%のオーバーコート層形成用塗布液(1)を表の含有量となるようにバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(1)を製造した。   Next, an overcoat layer forming coating solution (1) having a solid content concentration of 1.0% by weight was applied by the bar coater method (# 4) so as to have the content shown in the table, and dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes. Thus, a base material (1) with an antireflection film was produced.

反射防止膜付基材(1)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、鉛筆硬度、密着性、耐擦傷性、撥水性、波長550nmの光線の反射率、防眩性、全光線透過率およびヘーズを測定し、結果を表に示す。なお、全光線透過率およびヘーズは、ヘ−ズメ−タ−(日本電色(株)製:NDH2000)により、反射率は分光光度計(日本分光社製:Ubest−55)により測定した。 For the base material with antireflection film (1), the average height of the concavo-convex structure (T F ), the average distance between the convex parts (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between the average convex parts ( (W FF ), pencil hardness, adhesion, scratch resistance, water repellency, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, total light transmittance and haze are measured, and the results are shown in the table. The total light transmittance and haze were measured with a haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd .: NDH2000), and the reflectance was measured with a spectrophotometer (Nippon Bunko Co., Ltd .: Ubest-55).

また、未塗布のTACフィルム基材は全光線透過率が93.0%、ヘーズが0.3%であった。防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性および密着性は以下の方法で測定した。
得られた透明被膜付基材(1)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長550nmの光線の反射率を測定し、結果を表に示す。また、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表に示した。
The uncoated TAC film substrate had a total light transmittance of 93.0% and a haze of 0.3%. Antiglare properties, pencil hardness, scratch resistance, water repellency and adhesion were measured by the following methods.
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (1) with a transparent coating were measured, and the results are shown in the table. Further, antiglare properties, pencil hardness, scratch resistance, water repellency and adhesion were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in the table.

防眩性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の防眩性を基材の裏面を黒スプレーで均一に塗り、30Wの蛍光灯から2mはなれ蛍光灯の映り込みを目視に確認し防眩性を評価した。結果を表に示す。
蛍光灯が全く見えない :◎
蛍光灯がわずかに見える :○
蛍光灯は見えるが輪郭がぼける :△
蛍光灯がはっきり見える :×
Anti-glare base material with anti-glare coating with hard coat function (1) The anti-glare property of the base material is uniformly applied with black spray on the back side of the base material. Antiglare property was evaluated. The results are shown in the table.
I can't see any fluorescent lights: ◎
Fluorescent light is slightly visible: ○
Fluorescent lamp is visible but outline is blurred: △
Fluorescent light is clearly visible: ×

鉛筆硬度
JIS−K−5600に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
評価基準:
2H以上 :◎
H〜2H :○
B〜H :△
B以下 :×
Pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5600.
Evaluation criteria:
2H or more: ◎
H-2H: ○
B to H: △
B or less: ×

耐擦傷性
#0000スチールウールを用い、荷重200g/cm2で10回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示す。
評価基準:
筋条の傷が認められない :◎
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
Using scratch-resistant # 0000 steel wool, sliding 10 times at a load of 200 g / cm 2 , visually observing the surface of the film and evaluating it according to the following criteria, the results are shown in Table 1.
Evaluation criteria:
No streak injury is found: ◎
Slightly scratched streak: ○
Many scratches are found in the streak: △
The surface has been cut entirely: ×

撥水性
全自動接触角計(協和界面科学(株)製:DM 700)で水との接触角を測定した。
密着性
撥水性透明被膜付基材(1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で11本の平行な傷を付けて100個の升目を作り、これにセロファンテープを接着、剥離したときの被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の3段階に分類することによって密着性を評価した。
残存升目の数100個 :◎
残存升目の数95〜99個 :○
残存升目の数90〜94個 :△
残存升目の数89個以下 :×
The contact angle with water was measured with a water repellent fully automatic contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd .: DM 700).
Adhesive water-repellent transparent coated substrate (1) The surface of the substrate (1) with 11 parallel scratches at 1mm vertical and horizontal intervals using a knife to make 100 squares, and then the cellophane tape is adhered to and peeled off. The adhesion was evaluated by classifying the number of cells remaining without peeling into the following three stages.
Number of remaining squares: ◎
Number of remaining squares 95 to 99: ○
Number of residual squares 90-94: △
Number of remaining squares: 89 or less: ×

[実施例2]
表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液の調製
スチームジャケット付100Lタンクへ純水38.743kgを張り込み、これに濃度48重量%の水酸化ナトリウム溶液(関東化学(株)社製:特級)0.815kgを撹拌しながら加えた。ついで、この溶液に、アルミン酸ナトリウム(関東化学(株)社製:鹿1級、アルミナ換算39重量%)2.740kgを撹拌しながら溶解した。
[Example 2]
Preparation of surface-treated alumina hydrate fine particles (2) dispersion liquid 38.743 kg of pure water was put into a 100 L tank with a steam jacket, and a sodium hydroxide solution with a concentration of 48% by weight (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .: special grade) 0.815 kg was added with stirring. Next, 2.740 kg of sodium aluminate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: deer grade 1, 39% by weight in terms of alumina) was dissolved in this solution with stirring.

さらに、この溶液を撹拌しながら80℃へ昇温し1時間保持することで、完全溶解したアルミン酸ナトリウム水溶液42.298kgを得た。別途、スチームジャケット付10Lタンクに純水6.269kgを張り込み、これに濃度35重量%の塩酸水溶液(関東化学(株)社製:特級)0.453kgを撹拌しながら混合し、加温して80℃の希釈塩酸水溶液6.722kgを得た。   Furthermore, this solution was heated to 80 ° C. with stirring and held for 1 hour to obtain 42.298 kg of a completely dissolved sodium aluminate aqueous solution. Separately, 6.269 kg of pure water was put in a 10 L tank with a steam jacket, and 0.453 kg of 35% by weight hydrochloric acid aqueous solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .: special grade) was mixed with stirring and heated. 6.722 kg of diluted hydrochloric acid aqueous solution at 80 ° C. was obtained.

アルミン酸ナトリウム水溶液を80℃に保ったまま、希釈塩酸水溶液を添加し、さらに撹拌しながら80℃で1時間保持して、pH11.5の正方板状アルミナ水和物微粒子(2-a)分散液49.020kgを得た。<工程(a)>   While maintaining the sodium aluminate aqueous solution at 80 ° C., dilute hydrochloric acid aqueous solution was added, and the mixture was further maintained at 80 ° C. for 1 hour with stirring to disperse the square plate-like alumina hydrate fine particles (2-a) having a pH of 11.5. 49.020 kg of liquid was obtained. <Process (a)>

このアルミナ微粒子(2-a)分散液を濾過分離し、80℃の温純水を充分に掛けて、洗浄アルミナ水和物微粒子(2−b)ケーキ6.667kgを得た。<工程(b)>   The alumina fine particle (2-a) dispersion was separated by filtration and sufficiently poured with warm pure water at 80 ° C. to obtain 6.667 kg of washed alumina hydrate fine particle (2-b) cake. <Process (b)>

このアルミナ微粒子(2-b)ケーキ6.667kgへ純水12.983kgを加え、十分に撹拌して分散させアルミナ水和物微粒子分散液19.650kgとし、これに、有機塩基性化合物として水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAOH)水溶液(関東化学(株)社製:濃度27重量%)0.35kgを加え、有機塩基性化合物添加アルミナ水和物微粒子(2-c)分散液20.0kgを得た。<工程(c)>   To this alumina fine particle (2-b) cake (6.667 kg), 12.983 kg of pure water was added and sufficiently stirred and dispersed to obtain 19.650 kg of alumina hydrate fine particle dispersion, which was then hydroxylated as an organic basic compound. 0.35 kg of tetramethylammonium (TMAOH) aqueous solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc .: concentration 27% by weight) was added to obtain 20.0 kg of an organic basic compound-added alumina hydrate fine particle (2-c) dispersion. . <Process (c)>

ついで、この塩基性物質添加アルミナ微粒子(2-c)分散液をオートクレーブ反応器に入れ、撹拌下150℃へ加熱し、自圧下で24時間水熱処理して、アルミナ水和物微粒子(2-d)分散液を得た。<工程(d)>   Subsequently, this basic substance-added alumina fine particle (2-c) dispersion was placed in an autoclave reactor, heated to 150 ° C. with stirring, and hydrothermally treated under autogenous pressure for 24 hours to obtain alumina hydrate fine particles (2-d ) A dispersion was obtained. <Process (d)>

このアルミナ水和物微粒子(2-d)分散液を限外濾過装置に入れ、充分に洗浄を行い、残留する窒素濃度をテトラメチルアンモニウムに換算した残存量が10ppm以下となるまで洗浄を行い、固形分濃度5重量のアルミナ水和物微粒子(2)分散液20.000kgを得た。<工程(e)>   This alumina hydrate fine particle (2-d) dispersion was put in an ultrafiltration device and thoroughly washed, and washed until the residual nitrogen concentration converted to tetramethylammonium was 10 ppm or less, An alumina hydrate fine particle (2) dispersion (20.000 kg) having a solid concentration of 5% was obtained. <Process (e)>

得られたアルミナ水和物微粒子(2)の平均粒子径(DP)、平均粒子厚み(TP)を測定し、結果を表に示す。なお、アルミナ水和物微粒子(2)は、30〜50nm正方形で、厚みが3〜5nmの大きさの1次結晶粒子5〜10個が、少なくとも2辺が重なることなく積層した形で凝集した100〜200nmの大きさの2次粒子であった。 The average particle diameter (D P ) and average particle thickness (T P ) of the obtained alumina hydrate fine particles (2) were measured, and the results are shown in the table. The alumina hydrate fine particles (2) were agglomerated in a form in which 5 to 10 primary crystal particles having a square shape of 30 to 50 nm and a thickness of 3 to 5 nm were laminated without overlapping at least two sides. It was a secondary particle having a size of 100 to 200 nm.

この分散液を、限外濾過膜を用いてメタノールにて溶媒置換して、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(2)メタノール分散液を得た。固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(2)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)メタノール分散液を調製した。 This dispersion was subjected to solvent substitution with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain alumina hydrate fine particles (2) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight. Alumina hydrate fine particles with a solid content concentration of 8% by weight (2) 1.88 g of tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8% by weight) in 100 g of methanol dispersion Then, 3.1 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare a surface-treated alumina hydrate fine particle (2) methanol dispersion having a solid concentration of 8% by weight.

ついで、固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、アルミナ水和物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を調製した。   Next, surface-treated alumina hydrate fine particles having a solid concentration of 8% by weight (2) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), and mixed alcohol (Japan Alcohol Sales) 100 g of Solmix A-11, a mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol), and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to obtain a solid content concentration of 2 wt. % Surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(2)の製造
固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
Production of base material with antireflection film (2) A surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was applied to a base material with a hard coat film prepared in the same manner as in Example 1. It was applied by a coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds.

ついで、実施例1と同様にして、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で、表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。実施例1と同様にして、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(2)を製造した。   Next, in the same manner as in Example 1, the coating liquid for binder (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) so as to have the dry layer thickness shown in the table. It was cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. In the same manner as in Example 1, a coating solution for forming an overcoat layer (1) having a solid content concentration of 1.0% was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes to prevent reflection. A film-coated substrate (2) was produced.

反射防止膜付基材(2)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (2), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例3]
表面処理アルミナ水和物微粒子(3)分散液の調製
実施例2の工程(d)で、110℃で加温した以外は同様にしてアルミナ水和物微粒子(3)分散液を調製した。
[Example 3]
Preparation of Surface Treated Alumina Hydrate Fine Particle (3) Dispersion Alumina hydrate fine particle (3) dispersion was prepared in the same manner as in step (d) of Example 2 except that it was heated at 110 ° C.

得られたアルミナ水和物微粒子(3)の平均粒子径(DP)、平均粒子厚み(TP)を測定し、結果を表に示す。
ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(3)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(3)メタノール分散液を調製した。
The average particle diameter (D P ) and average particle thickness (T P ) of the obtained alumina hydrate fine particles (3) were measured, and the results are shown in the table.
Subsequently, tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8% by weight) was added to 100 g of methanol hydrated fine particles of alumina hydrate having a solids concentration of 8% by weight. Next, 3.1 g of ultrapure water was added and stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare surface-treated alumina hydrate fine particles (3) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(3)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、アルミナ水和物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(3)分散液を調製した。   Surface-treated alumina hydrate fine particles with solid content of 8% by weight (3) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Japan Alcohol Sales Co., Ltd.) ) Manufactured by: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form an alumina hydrate fine particle layer with a solid content concentration of 2% by weight. A surface-treated alumina hydrate fine particle (3) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(3)の製造
固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(3)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で表の層厚となるように、塗布し、80℃で30秒間乾燥した。実施例1と同様にして、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
Production of base material with antireflection film (3) A surface-treated alumina hydrate fine particle (3) dispersion with a solid content concentration of 2% by weight was applied to the base material with a hard coat film prepared in the same manner as in Example 1. The coater method (# 3) was applied so that the layer thickness was as shown, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. In the same manner as in Example 1, a coating liquid for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) and cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes.

ついで、実施例1と同様にして固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(3)を製造した。反射防止膜付基材(3)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 Next, in the same manner as in Example 1, a coating liquid for forming an overcoat layer (1) having a solid concentration of 1.0% was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and reflected. A substrate (3) with a protective film was produced. For the base material with antireflection film (3), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between the convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between the convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例4]
表面処理アルミナ水和物微粒子(4)分散液の調製
実施例2の工程(d)で、180℃で加温した以外は同様にしてアルミナ水和物微粒子(4)分散液を調製した。
得られたアルミナ水和物微粒子(4)の平均粒子径(DP)、平均粒子厚み(TP)を測定し、結果を表に示す。
[Example 4]
Preparation of Surface Treated Alumina Hydrate Fine Particle (4) Dispersion Alumina hydrate fine particle (4) dispersion was prepared in the same manner as in step (d) of Example 2 except that the mixture was heated at 180 ° C.
The average particle diameter (D P ) and average particle thickness (T P ) of the obtained alumina hydrate fine particles (4) were measured, and the results are shown in the table.

ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(4)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(4)メタノール分散液を調製した。 Subsequently, tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8% by weight) was added to 100 g of methanol hydrate with a solid content of 8% by weight of alumina hydrate fine particles. .88 g was mixed, and then 3.1 g of ultrapure water was added and stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare a surface-treated alumina hydrate fine particle (4) methanol dispersion having a solid content concentration of 8 wt%.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(4)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、アルミナ水和物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(4)分散液を調製した。   Surface treated alumina hydrate fine particles with a solid content of 8% by weight (4) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) ) Manufactured by: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form an alumina hydrate fine particle layer with a solid content concentration of 2% by weight. A surface-treated alumina hydrate fine particle (4) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(4)の製造
固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(4)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。実施例1と同様にして固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、スピンコーターで塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
Production of base material with antireflection film (4) A dispersion of surface-treated alumina hydrate fine particles (4) having a solid content concentration of 2% by weight was applied to a base material with a hard coat film prepared in the same manner as in Example 1. It was applied by a coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds. In the same manner as in Example 1, a binder coating solution (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by a spin coater and heated at 80 ° C. for 10 minutes to be cured.

ついで、実施例1と同様にして固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(4)を製造した。反射防止膜付基材(4)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 Next, in the same manner as in Example 1, a coating liquid for forming an overcoat layer (1) having a solid concentration of 1.0% was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and reflected. A substrate (4) with a protective film was produced. For the base material with antireflection film (4), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例5]
オーバーコート層形成用塗布液(2)の調製
混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)5126gに水159.0gと濃度61重量%の硝酸3.3gを添加し、25℃で5分撹拌した。ついで、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(MOMENTIVE製:TSL8257、固形分濃度98%)46.4g、テトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)157.9gとを添加し、25℃で5分間撹拌し、ついで、オートクレーブにて、100℃で3時間処理した。その後、PGM356.39gとDAA213.91gを添加し、25℃で30分処理して固形分濃度1.50重量%のオーバーコート層形成用塗布液を調製した。
[Example 5]
Preparation of coating liquid for overcoat layer formation (2) Mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 5126 g with water 159.0 g and concentration 61% by weight Of nitric acid was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes. Next, 46.4 g of tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by MOMENTIVE: TSL8257, solid concentration 98%), tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration 28.8 wt. %) 157.9 g was added, stirred at 25 ° C. for 5 minutes, and then treated in an autoclave at 100 ° C. for 3 hours. Then, PGM356.39g and DAA213.91g were added, and it processed at 25 degreeC for 30 minutes, and prepared the coating liquid for overcoat layer formation with a solid content density | concentration of 1.50 weight%.

ついで、固形分濃度1.50重量%のフッ素含有シリカ系層形成用塗布液100gにPGM10gと混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)40gを添加し、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(2)を調製した。   Subsequently, 10 g of PGM and mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) were added to 100 g of fluorine-containing silica-based layer forming coating solution having a solid content concentration of 1.50% by weight. 40 g was added to prepare an overcoat layer-forming coating solution (2) having a solid concentration of 1.0%.

反射防止膜付基材(5)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。実施例1と同様にして固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
Production of base material with antireflection film (5) In the same manner as in Example 2, a surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 1. It was applied to the substrate with a coating film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds. In the same manner as in Example 1, a coating material for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) and cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes.

ついで、固形分濃度1.0重量%のオーバーコート層形成用塗布液(2)を、表の含有量となるように、バーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(5)を製造した。   Next, the overcoat layer forming coating solution (2) having a solid content concentration of 1.0% by weight was applied by the bar coater method (# 4) so as to have the content shown in the table, and dried at 80 ° C. for 10 minutes. Curing was carried out to produce a substrate (5) with an antireflection film.

反射防止膜付基材(5)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (5), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例6]
オーバーコート層形成用塗布液(3)の調製
混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)1771.0gに水159.0gと濃度61重量%の硝酸3.3gを添加し、25℃で5分撹拌した。ついで、3,3,3,3トリフロロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業製:KBM−7103、濃度100重量%)47.3gを添加し、25℃で5分間撹拌し、ついで、オートクレーブにて、100℃で3時間処理した。その後、PGM356.39gとDAA213.91gを添加し、25℃で30分処理して固形分濃度1.50重量%のオーバーコート層形成用塗布液を調製した。
[Example 6]
Preparation of coating liquid for forming overcoat layer (3) Mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) to 1771.0 g and 159.0 g of water and concentration 61 3.3% by weight of nitric acid was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes. Next, 47.3 g of 3,3,3,3 trifluoropropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-7103, concentration: 100% by weight) was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes, and then in an autoclave. For 3 hours at 100 ° C. Then, PGM356.39g and DAA213.91g were added, and it processed at 25 degreeC for 30 minutes, and prepared the coating liquid for overcoat layer formation with a solid content density | concentration of 1.50 weight%.

ついで、固形分濃度1.50重量%のオーバーコート層形成用塗布液100gにPGM10gと混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)40gを添加し、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(3)を調製した。   Then, 10 g of PGM and mixed alcohol (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) are added to 100 g of an overcoat layer forming coating solution having a solid content concentration of 1.50% by weight. Was added to prepare an overcoat layer-forming coating solution (3) having a solid concentration of 1.0%.

反射防止膜付基材(6)の製造
実施例2と同様にして調製した固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。ついで、実施例1と同様にして調製した固形分濃度0.3重量%のシリカ結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
Preparation of substrate with antireflection film (6) A dispersion of surface-treated alumina hydrate fine particles (2) having a solid content concentration of 2% by weight prepared in the same manner as in Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1. The coated substrate with the hard coat film was applied by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds. Next, a silica binder coating solution (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight prepared in the same manner as in Example 1 was applied by the bar coater method (# 3) and heated at 80 ° C. for 10 minutes. Cured.

固形分濃度1.0重量%のオーバーコート層形成用塗布液(3)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(6)を製造した。
反射防止膜付基材(6)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。
A coating solution for forming an overcoat layer (3) having a solid concentration of 1.0% by weight is applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and a substrate with an antireflection film (6) Manufactured.
For the base material with antireflection film (6), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例7]
反射防止膜付基材(7)の製造
実施例1と同様にして固形分濃度42.0重量%のハードコート膜形成用塗布液(1)を、PETフィルム(東洋紡社製:A4300、厚さ:188μm)にバーコーター法(#3)にバーコーター法(#16)で塗布し、80℃で2分間乾燥後、300mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材を形成した。
ついで、実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、ハードコート膜付基材上に表の層厚となるように塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
[Example 7]
Production of base material with antireflection film (7) In the same manner as in Example 1, a coating liquid for forming a hard coat film (1) having a solid content concentration of 42.0% by weight was applied to a PET film (Toyobo Co., Ltd .: A4300, thickness). : 188μm) applied to the bar coater method (# 3) by the bar coater method (# 16), dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then cured by irradiating with 300 mJ / cm 2 ultraviolet rays to form a substrate with a hard coat film Formed.
Next, in the same manner as in Example 2, the surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was applied on the base material with a hard coat film so as to have the thickness of the table. Dry at 30 ° C. for 30 seconds.

ついで、実施例1と同様にして固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
実施例1と同様にしてオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(7)を製造した。
Next, in the same manner as in Example 1, a coating liquid for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) and cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. .
In the same manner as in Example 1, the overcoat layer forming coating solution (1) was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes to produce a substrate (7) with an antireflection film. did.

反射防止膜付基材(11)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (11), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between the convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between the convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例8]
表面処理鎖状シリカ微粒子(5)分散液の調製
SiO2濃度が24重量%の珪酸ナトリウム水溶液(SiO2/Na2Oモル比が3.1)334gを純水1266gで希釈して、SiO2濃度が5重量%の珪酸ナトリウム水溶液(pH11)を1600g調製した。この珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂(三菱化学(製):SK−1BH)320gを添加し、1時間攪拌した後、イオン交換樹脂を分離し、脱アルカリ処理したpH4.0、固形分濃度5%の珪酸液1500gを調製した。ついで純水を3500g加え、固形分濃度1.9%に希釈した。この液をセパラブルフラスコに入れ、40℃に昇温した後、10%酢酸アンモニウム水溶液100g加え、酢酸でpHを4.1に調製した後、2時間加熱した。ついで、5%アンモニア水溶液でPH10.5に調製した。その後、95℃に昇温し、90℃で2時間加熱した。40℃まで冷却した後、シリカゾルを得た。
[Example 8]
Preparation of surface-treated chain silica fine particles (5) dispersion 334 g of a sodium silicate aqueous solution (SiO 2 / Na 2 O molar ratio: 3.1) having a SiO 2 concentration of 24% by weight was diluted with 1266 g of pure water to obtain SiO 2 1600 g of a sodium silicate aqueous solution (pH 11) having a concentration of 5% by weight was prepared. To this sodium silicate aqueous solution, 320 g of a cation exchange resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd .: SK-1BH) was added and stirred for 1 hour, after which the ion exchange resin was separated and dealkalized at pH 4.0, solid content concentration 5 % 1500% silicic acid solution was prepared. Subsequently, 3500 g of pure water was added and diluted to a solid content concentration of 1.9%. This solution was put into a separable flask, heated to 40 ° C., 100 g of 10% aqueous ammonium acetate solution was added, the pH was adjusted to 4.1 with acetic acid, and the mixture was heated for 2 hours. Next, the pH was adjusted to 10.5 with a 5% aqueous ammonia solution. Then, it heated up at 95 degreeC and heated at 90 degreeC for 2 hours. After cooling to 40 ° C., a silica sol was obtained.

得られたシリカゾルを限外濾過膜(旭化成工業(株)製:SIP−1013)を用いて、SiO2濃度が13重量%になるまで濃縮し、ついで、ロータリーエバポレーターで濃縮し、44μmメッシュのナイロンフィルターで濾過してSiO2濃度20重量%の無機酸化物微粒子(B1-2)分散液を調製した。 The obtained silica sol was concentrated using an ultrafiltration membrane (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SIP-1013) until the SiO 2 concentration became 13% by weight, and then concentrated on a rotary evaporator to obtain a 44 μm mesh nylon. Filtration through a filter prepared an inorganic oxide fine particle (B1-2) dispersion having a SiO 2 concentration of 20% by weight.

この分散液を、限外濾過膜を用いてメタノールにて溶媒置換して固形分濃度8重量%のメタノール分散液を得た。
得られた鎖状シリカ微粒子(5)の平均一次粒子径(DC)は12nm、連結数は10個、平均長さ(LC)は120nmであった。
This dispersion was subjected to solvent substitution with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion having a solid concentration of 8% by weight.
The average linear particle diameter (D C ) of the obtained chain silica fine particles (5) was 12 nm, the number of connections was 10, and the average length (L C ) was 120 nm.

ついで、固形分濃度8重量%の鎖状シリカ微粒子(5)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理鎖状シリカ微粒子(5)メタノール分散液を調製した。 Subsequently, tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration 28.8 wt%) was added to 100 g of chain silica fine particles having a solid content concentration of 8 wt% (5) methanol dispersion. 88 g was mixed, then 3.1 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare a surface-treated chain silica fine particle (5) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight.

固形分濃度8重量%の表面処理鎖状シリカ微粒子(5)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、無機酸化物微粒子層形成用の固形分濃度2重量%の表面処理鎖状シリカ微粒子(5)分散液を調製した。   Surface-treated chain silica fine particles having a solid concentration of 8% by weight (5) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) Manufactured by Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol), and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form a solid content concentration of 2% by weight for forming an inorganic oxide fine particle layer A treated chain silica fine particle (5) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(8)の製造
実施例2と同様にして調製した固形分濃度2重量%の表面処理鎖状シリカ微粒子(5)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間乾燥した。なお、結合材は含有させていない。
Production of substrate with antireflection film (8) A dispersion of surface treated chain silica fine particles (5) having a solid content concentration of 2% by weight prepared in the same manner as in Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1. It was applied to a substrate with a hard coat film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 10 minutes. In addition, the binder is not contained.

ついで、実施例1と同様にして調製した固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(8)を製造した。   Next, an overcoat layer forming coating solution (1) having a solid content concentration of 1.0% prepared in the same manner as in Example 1 was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes. Thus, a base material (8) with an antireflection film was produced.

反射防止膜付基材(8)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (8), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例9]
反射防止膜付基材(9)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間乾燥した。なお、結合材は含有させていない。
[Example 9]
Production of base material with antireflection film (9) In the same manner as in Example 2, a surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 1. It was applied to the substrate with a coating film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 10 minutes. In addition, the binder is not contained.

ついで、固形分濃度1.0重量%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(9)を製造した。   Next, a coating solution (1) for forming an overcoat layer having a solid content concentration of 1.0% by weight was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and a substrate with an antireflection film ( 9) was manufactured.

反射防止膜付基材(9)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the substrate with antireflection film (9), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例10]
表面処理アルミナ水和物微粒子(10)分散液の調製
実施例1と同様にして調製した固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液100gにトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(MOMENTIVE製:TSL8257、固形分濃度55重量%)5.66gを添加し、25℃で30分間撹拌した。ついで、水3.80gと濃度10重量%の酢酸0.20gを添加して20℃で10分撹拌し、ついで、オートクレーブにて、100℃で3時間処理し、固形分濃度8.0重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(10)メタノール分散液を調製した。
[Example 10]
Preparation of Surface Treated Alumina Hydrate Fine Particles (10) Dispersion Liquid Alumina Hydrate Fine Particles having a solid content of 8% by weight prepared as in Example 1 (1) Tridecafluorooctyltrimethoxysilane was added to 100 g of methanol dispersion liquid. (MOMENTIVE made: TSL8257, solid content concentration 55% by weight) 5.66 g was added and stirred at 25 ° C. for 30 minutes. Next, 3.80 g of water and 0.20 g of acetic acid having a concentration of 10% by weight were added and stirred at 20 ° C. for 10 minutes, followed by treatment in an autoclave at 100 ° C. for 3 hours to obtain a solid concentration of 8.0% by weight. A surface-treated alumina hydrate fine particle (10) methanol dispersion was prepared.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(10)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、アルミナ水和物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(10)分散液を調製した。   Surface-treated alumina hydrate fine particles with a solid content of 8% by weight (10) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Japan Alcohol Sales Co., Ltd.) ) Manufactured by: Solmix A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form an alumina hydrate fine particle layer with a solid content concentration of 2% by weight. A surface-treated alumina hydrate fine particle (10) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(10)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(10)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(10)を製造した。なお、結合材は含有させていない。また、オーバーコート層も形成していない。
Production of substrate with antireflection film (10) In the same manner as in Example 2, a surface-treated alumina hydrate fine particle (10) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 1. The substrate with a coating film was applied by the bar coater method (# 3), and dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes to produce a substrate with antireflection film (10). In addition, the binder is not contained. Also, no overcoat layer is formed.

反射防止膜付基材(10)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (10), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between average convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例11]
表面処理アルミナ水和物微粒子(11)分散液の調製
実施例1と同様にして、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液を得た。
[Example 11]
Preparation of Surface Treated Alumina Hydrate Fine Particle (11) Dispersion Alumina hydrate fine particles (1) methanol dispersion having a solid content concentration of 8% by weight was obtained in the same manner as in Example 1.

ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(1)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)2.70gと超純水を1.75g添加した後、50℃で6時間攪拌した。その後、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(MOMENTIVE製:TSL8257、固形分濃度55%)2.83gを添加して25℃で5分間撹拌し、オートクレーブにて、100℃で3時間処理し、固形分濃度8.0重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(11)メタノール分散液を調製した。 Subsequently, 100 g of alumina hydrate fine particles having a solid content concentration of 8% by weight (1) tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: normal ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8% by weight) 2 After addition of .70 g and 1.75 g of ultrapure water, the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours. Thereafter, 2.83 g of tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by MOMENTIVE: TSL8257, solid content concentration 55%) was added and stirred at 25 ° C. for 5 minutes, and then treated at 100 ° C. for 3 hours in an autoclave. A surface-treated alumina hydrate fine particle (11) methanol dispersion having a concentration of 8.0% by weight was prepared.

ついで、固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(11)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、無機酸化物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(11)分散液を調製した。   Next, surface-treated alumina hydrate fine particles with a solid content concentration of 8% by weight (11) 100 g of methanol dispersion, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), and mixed alcohol (Japan Alcohol Sales) 100 g of Solmix A-11, a mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol), and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to obtain a solid content concentration of 2% by weight for forming an inorganic oxide fine particle layer A surface-treated alumina hydrate fine particle (11) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(11)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(11)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(11)を製造した。なお、結合材は含有させていない。また、オーバーコート層も形成していない。
Production of substrate (11) with antireflection film A surface-treated alumina hydrate fine particle (11) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was produced in the same manner as in Example 2 in the same manner as in Example 2. The substrate with a coating film was applied by the bar coater method (# 3), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes to produce a substrate with antireflection film (11). In addition, the binder is not contained. Also, no overcoat layer is formed.

反射防止膜付基材(17)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the substrate with antireflection film (17), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the distance between the average protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between the average protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例12]
反射防止膜付基材(12)の製造
実施例2と同様にして調製した固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、TACフィルム(パナック(株)製:FT−PB80UL−M、厚さ:80μm、屈折率:1.51)にバーコーター法(#3)で表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
[Example 12]
Preparation of substrate with antireflection film (12) A surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight, prepared in the same manner as in Production Example 2, was applied to a TAC film (manufactured by Panac Corporation: FT-PB80UL-M, thickness: 80 μm, refractive index: 1.51) was applied by the bar coater method (# 3) so as to have the dry layer thickness shown in the table, and dried at 80 ° C. for 30 seconds.

ついで、実施例1と同様にして、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で、表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。実施例1と同様にして、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(12)を製造した。   Next, in the same manner as in Example 1, the coating liquid for binder (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) so as to have the dry layer thickness shown in the table. It was cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. In the same manner as in Example 1, a coating solution for forming an overcoat layer (1) having a solid content concentration of 1.0% was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes to prevent reflection. A film-coated substrate (12) was produced.

反射防止膜付基材(12)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the substrate with antireflection film (12), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the distance between the average protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between the average protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[実施例13]
中間膜形成用塗布液(1)の調製
ATOゾル分散液(日揮触媒化成(株)製:ELCOM V−3560、平均粒子径8nm、ATO濃度20.5重量%、分散媒:メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11)、粒子屈折率1.75)58.5gに、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11)16.82g、PGME8.64g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートPE−3A、樹脂濃度100重量%)8.0gに光開始剤(チバスペシャリティ(株)製:イルガキュア184)8.0gを添加して充分に混合して固形分濃度3.0重量%の中間膜形成用塗布液(1)を調製した。
[Example 13]
Preparation of coating solution (1) for forming an intermediate film ATO sol dispersion (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: ELCOM V-3560, average particle size 8 nm, ATO concentration 20.5% by weight, dispersion medium: methanol, ethanol and isopropyl 58.5 g of alcohol mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix AP-11), particle refractive index 1.75), methanol, ethanol and isopropyl alcohol mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd .: Solmix AP-11) 16.82 g, PGME 8.64 g, pentaerythritol triacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate PE-3A, resin concentration 100% by weight) to 8.0 g with a photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd.) ) Made: Irgacure 184) Add 8.0g and mix well to get a solid content of 3.0% by weight Film-forming coating liquid (1) was prepared.

反射防止膜付基材(13)の製造
実施例12と同様にしてハードコート層を形成した後、バーコーター法(#4)で、固形分濃度3.0重量%の中間膜形成用塗布液(1)を表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で2分間乾燥後、300mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させて中間膜を形成した。
Preparation of substrate with antireflection film (13) After forming a hard coat layer in the same manner as in Production Example 12, coating solution for forming an intermediate film having a solid concentration of 3.0% by weight by the bar coater method (# 4) (1) was applied so as to have the dry layer thickness shown in the table, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then cured by irradiating with 300 mJ / cm 2 of ultraviolet rays to form an intermediate film.

ついで、実施例1と同様にして、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で、表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。ついで、実施例1と同様にして、固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で、表の乾燥層厚となるように塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。ついで、実施例1と同様にして、固形分濃度1.0%のオーバーコート層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(13)を製造した。   Next, in the same manner as in Example 1, the coating liquid for binder (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) so as to have the dry layer thickness shown in the table. It was cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. Next, in the same manner as in Example 1, the coating liquid for binder (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) so as to have the dry layer thickness shown in the table. It was cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. Next, in the same manner as in Example 1, an overcoat layer-forming coating solution (1) having a solid concentration of 1.0% was applied by the bar coater method (# 4), dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes. A substrate (13) with an antireflection film was produced.

反射防止膜付基材(13)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (13), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the distance between the average protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between the average protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[比較例1]
反射防止膜付基材(R1)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
[Comparative Example 1]
Production of substrate with antireflective coating (R1) A surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 2 in the same manner as in Example 1. It was applied to the substrate with a coating film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds.

ついで、固形分濃度を5重量%とした以外は実施例1と同様にして結合材用塗布液(2)を、バーコーター法(#3)で表の含有量となるように塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。   Next, the coating liquid for binder (2) was applied by the bar coater method (# 3) so that the content shown in the table was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solid content concentration was 5% by weight. Curing was carried out at 10 ° C. for 10 minutes.

実施例1と同様にして調製した固形分濃度1.0重量%のフッ素含有シリカ系層形成用塗布液(1)をバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(R1)を製造した。   A coating solution (1) for forming a fluorine-containing silica-based layer having a solid content concentration of 1.0% by weight prepared in the same manner as in Example 1 was applied by the bar coater method (# 3), and dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes. Thus, a base material (R1) with an antireflection film was produced.

反射防止膜付基材(R1)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (R1), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the distance between the average protrusions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the distance between the average protrusions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[比較例2]
表面処理アルミナ水和物微粒子(R2)分散液の調製
実施例1の工程(d)で、150℃で加温した以外は同様にしてアルミナ水和物微粒子(R2)分散液を調製した。得られたアルミナ水和物微粒子(R2)の平均長さ(LF)、平均粒子幅(WPF)を測定し、結果を表に示す。
[Comparative Example 2]
Preparation of surface-treated alumina hydrate fine particle (R2) dispersion Alumina hydrate fine particle (R2) dispersion was prepared in the same manner as in step (d) of Example 1 except that the mixture was heated at 150 ° C. The average length (L F ) and average particle width (W PF ) of the obtained alumina hydrate fine particles (R2) were measured, and the results are shown in the table.

ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(R2)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R2)メタノール分散液を調製した。 Subsequently, tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl ethyl silicate-A, SiO 2 concentration of 28.8% by weight) was added to 100 g of an alumina hydrate fine particle (R2) methanol dispersion having a solid content of 8% by weight. Next, 3.1 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare a surface-treated alumina hydrate fine particle (R2) methanol dispersion having a solid content concentration of 8 wt%.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R2)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、無機酸化物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R2)分散液を調製した。   100 g of surface-treated alumina hydrate fine particles (R2) methanol dispersion with a solid content concentration of 8% by weight, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) ): SOLMIX A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 100 g, and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form a surface having a solid content concentration of 2% by weight for forming an inorganic oxide fine particle layer A treated alumina hydrate fine particle (R2) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(R2)の製造
実施例1において、固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R2)分散液を用いて、表の層厚となるようにした以外は同様にして反射防止膜付基材(R2)を製造した。
Production of antireflection film-coated substrate (R2) In Example 1, except that a surface-treated alumina hydrate fine particle (R2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was used, and the layer thickness was as shown in the table. In the same manner, a substrate with antireflection film (R2) was produced.

反射防止膜付基材(R2)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 Concerning the base material with antireflection film (R2), the average height (T F ) of the concavo-convex structure, the average distance between convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[比較例3]
表面処理アルミナ水和物微粒子(R3)分散液の調製
実施例2の工程(d)で、250℃で加温した以外は同様にしてアルミナ水和物微粒子(R3)分散液を調製した。
[Comparative Example 3]
Preparation of surface-treated alumina hydrate fine particle (R3) dispersion Alumina hydrate fine particle (R3) dispersion was prepared in the same manner as in step (d) of Example 2 except that it was heated at 250 ° C.

得られたアルミナ水和物微粒子(R3)の平均粒子径(DP)、平均粒子厚み(TP)を測定し、結果を表に示す。
この分散液を、限外濾過膜を用いてメタノールにて溶媒置換して、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(R3)メタノール分散液を得た。ついで、固形分濃度8重量%のアルミナ水和物微粒子(R3)メタノール分散液100gにテトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R3)メタノール分散液を調製した。
The average particle diameter (D P ) and average particle thickness (T P ) of the obtained alumina hydrate fine particles (R3) were measured, and the results are shown in the table.
This dispersion was subjected to solvent replacement with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain an alumina hydrate fine particle (R3) methanol dispersion having a solid concentration of 8% by weight. Subsequently, tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl ethyl silicate-A, SiO 2 concentration 28.8% by weight) was added to 100 g of an alumina hydrate fine particle (R3) methanol dispersion having a solid content of 8% by weight. .88 g was mixed, and then 3.1 g of ultrapure water was added and stirred at 50 ° C. for 6 hours to prepare a surface-treated alumina hydrate fine particle (R3) methanol dispersion having a solid content concentration of 8 wt%.

固形分濃度8重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R3)メタノール分散液100gにN−メチルピロリドン(NMP)8gとプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)192gと、混合アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスA−11、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの混合アルコール)100gを添加し、ついで、25℃で30分間撹拌して、無機酸化物微粒子層形成用固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R3)分散液を調製した。   100 g of surface-treated alumina hydrate fine particles (R3) methanol dispersion with a solid content concentration of 8% by weight, 8 g of N-methylpyrrolidone (NMP), 192 g of propylene glycol monopropyl ether (PGME), mixed alcohol (Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.) ): SOLMIX A-11, mixed alcohol of methanol, ethanol and isopropyl alcohol) 100 g, and then stirred at 25 ° C. for 30 minutes to form a surface having a solid content concentration of 2% by weight for forming an inorganic oxide fine particle layer A treated alumina hydrate fine particle (R3) dispersion was prepared.

反射防止膜付基材(R3)の製造
実施例1において、固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(R3)分散液を用いた以外は同様にして反射防止膜付基材(R3)を製造した。
Production of substrate with antireflection film (R3) In Example 1, the substrate with antireflection film (R3) was prepared in the same manner except that the surface-treated alumina hydrate fine particle (R3) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was used. R3) was produced.

反射防止膜付基材(R3)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (R3), the average height of the concavo-convex structure (T F ), the average distance between convex parts (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex parts ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[比較例4]
反射防止膜付基材(R4)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
[Comparative Example 4]
Production of base material with antireflection film (R4) A surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 2 in the same manner as in Example 1. It was applied to the substrate with a coating film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds.

ついで、実施例1と同様にして固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
固形分濃度を0.05重量%とした以外は実施例1と同様にして調製したオーバーコート層形成用塗布液(4)をバーコーター法(#3)で、表の含有量となるように塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(R4)を製造した。
Next, in the same manner as in Example 1, a coating liquid for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) and cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. .
The overcoat layer forming coating solution (4) prepared in the same manner as in Example 1 except that the solid content concentration was 0.05% by weight was adjusted to the content shown in the table by the bar coater method (# 3). This was coated, dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and an antireflection film-coated substrate (R4) was produced.

反射防止膜付基材(R4)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (R4), the average height of the concavo-convex structure (T F ), the average distance between the convex portions (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between the convex portions ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

[比較例5]
反射防止膜付基材(R5)の製造
実施例2と同様にして固形分濃度2重量%の表面処理アルミナ水和物微粒子(2)分散液を、実施例1と同様の方法で作成したハードコート膜付基材にバーコーター法(#3)で塗布し、80℃で30秒間乾燥した。ついで、実施例1と同様にして固形分濃度0.3重量%の結合材用塗布液(1)を、バーコーター法(#3)で塗布し、80℃で10分間加熱して硬化させた。
[Comparative Example 5]
Production of substrate with antireflection film (R5) A surface-treated alumina hydrate fine particle (2) dispersion having a solid content concentration of 2% by weight was prepared in the same manner as in Example 2 in the same manner as in Example 2. It was applied to the substrate with a coating film by the bar coater method (# 3) and dried at 80 ° C. for 30 seconds. Next, in the same manner as in Example 1, a coating liquid for binding material (1) having a solid content concentration of 0.3% by weight was applied by the bar coater method (# 3) and cured by heating at 80 ° C. for 10 minutes. .

固形分濃度を1.5重量%とした以外は実施例1と同様にして調製したオーバーコート層形成用塗布液(5)をバーコーター法(#12)で、表の含有量となるように塗布し、80℃で10分間乾燥・硬化して反射防止膜付基材(R5)を製造した。   The overcoat layer-forming coating solution (5) prepared in the same manner as in Example 1 except that the solid content concentration was 1.5% by weight was adjusted to the content shown in the table by the bar coater method (# 12). This was coated, dried and cured at 80 ° C. for 10 minutes, and an antireflection film-coated substrate (R5) was produced.

反射防止膜付基材(R5)について、凹凸構造の平均高さ(TF)、平均凸部間距離(WF)、微細凹凸構造の平均高さ(TFF)、平均凸部間距離(WFF)、全光線透過率、ヘ−ズ、反射率、防眩性、鉛筆硬度、耐擦傷性、撥水性、密着性を評価し、結果を表に示す。 For the base material with antireflection film (R5), the average height of the concavo-convex structure (T F ), the average distance between convex parts (W F ), the average height of the fine concavo-convex structure (T FF ), the average distance between convex parts ( (W FF ), total light transmittance, haze, reflectance, antiglare property, pencil hardness, scratch resistance, water repellency, adhesion are evaluated, and the results are shown in the table.

Claims (4)

水との接触角が130〜180°、反射率(Rf)が2%以下、ヘーズが10%以下である反射防止膜を樹脂基材上に有する反射防止膜付基材であって、
前記反射防止膜が、表面処理無機酸化物微粒子を含む無機酸化物微粒子層と、オーバーコート層とを含み、前記無機酸化物粒子層の上に前記オーバーコート層を有し、
前記表面処理無機酸化物微粒子が、下記式(1)および/または(2)で表される加水分解性有機ケイ素化合物またはその加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物で表面処理された無機酸化物微粒子であり、
前記表面処理無機酸化物微粒子の該表面処理量が、前記無機酸化物微粒子(酸化物換算)100重量部に対し、前記加水分解性有機ケイ素化合物をRn−SiO(4-n)/2として1〜200重量部であり、
前記反射防止膜の表面が凹凸構造を有し、該凸部の平均高さ(TF)が30〜500nm、平均凸部間距離(ピッチ幅)(WF)が50〜1000nmであって、
前記凹凸構造の該凸部の表面がさらに微細凹凸を有し、該微細凸部の平均高さ(TFF)が3〜50nmであり、該微細凸部の平均凸部間距離(WFF)が、前記凸部の平均凸部間距離(WF)よりも小さく、3〜50nmであることを特徴とする反射防止膜付基材。
n−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10のフッ素置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、nは1〜3の整数)
n−SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の(メタ)アクリロイル基、アミノ基、メルカプト基で置換されていてもよい炭化水素基(フッ素置換を除く)であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、nは0〜3の整数)
A substrate with an antireflection film having an antireflection film having a contact angle with water of 130 to 180 °, a reflectance (Rf) of 2% or less, and a haze of 10% or less on a resin substrate,
The antireflection film, and an inorganic oxide particle layer comprising the surface treated inorganic oxide particles, and a overcoat layer having the overcoat layer on the inorganic oxide fine particle layer,
The surface-treated inorganic oxide fine particles are surface-treated with a hydrolyzable organosilicon compound represented by the following formula (1) and / or (2) or a hydrolyzate of the hydrolyzable organosilicon compound: Fine particles,
The surface treatment amount of the surface-treated inorganic oxide fine particles is such that the hydrolyzable organosilicon compound is R n —SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles (as oxide). 1 to 200 parts by weight,
The surface of the antireflection film has a concavo-convex structure, the average height (T F ) of the protrusions is 30 to 500 nm, the average distance between the protrusions (pitch width) (W F ) is 50 to 1000 nm,
The surface of the convex part of the concave-convex structure further has fine irregularities, the average height (T FF ) of the fine convex part is 3 to 50 nm, and the average convex part distance (W FF ) of the fine convex parts Is smaller than the average inter-convex distance (W F ) of the convex portions, and is 3 to 50 nm.
R n -SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, Hydrogen, n is an integer of 1 to 3)
R n -SiX 4-n (2)
(In the formula, R is a hydrocarbon group (excluding fluorine substitution) which may be substituted with a (meth) acryloyl group having 1 to 10 carbon atoms, an amino group, or a mercapto group, and is the same as each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, halogen, hydrogen, and n is an integer of 0 to 3).
前記平均高さ(TF)と前記平均凸部間距離(WF)との比(TF/WF)が0.1〜10であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材。 Antireflection according to claim 1, wherein the average height (T F) and the distance between the average protrusion (W F) and the ratio of (T F / W F) is 0.1 to 10 Substrate with film. 前記無機酸化物微粒子層が結合材を含むことを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材。   The base material with an antireflection film according to claim 1, wherein the inorganic oxide fine particle layer contains a binder. 前記基材と前記無機酸化物微粒子層との間にハードコート層を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材。   The base material with an antireflection film according to claim 1, further comprising a hard coat layer between the base material and the inorganic oxide fine particle layer.
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