JPH11320743A - Transparent member - Google Patents

Transparent member

Info

Publication number
JPH11320743A
JPH11320743A JP10128780A JP12878098A JPH11320743A JP H11320743 A JPH11320743 A JP H11320743A JP 10128780 A JP10128780 A JP 10128780A JP 12878098 A JP12878098 A JP 12878098A JP H11320743 A JPH11320743 A JP H11320743A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
example
water
surface
lens
contact angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10128780A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Suzuki
Masaoki Tomota
政興 友田
哲男 鈴木
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, 株式会社ニコン filed Critical Nikon Corp
Priority to JP10128780A priority Critical patent/JPH11320743A/en
Publication of JPH11320743A publication Critical patent/JPH11320743A/en
Application status is Pending legal-status Critical

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve water repellency by a method in which the optical characteristics of a transparent member are kept, and the contact angle between the surface and a water droplet adherent to the surface is made greater than that between a conventional even surface and a water droplet. SOLUTION: Unevenness 13 is formed on the surface of a substrate 11 by etching. Since a water repellent monomolecular membrane 15 is formed on the unevenness 13, the surface of the membrane 15 is made uneven. When a water droplet 17 is put on the surface 15a of the membrane 15, the contact area between the surface 15a and the droplet 17 is decreased to increase the contact area between the droplet 17 and the air. Therefore, the droplet 17 becomes spherical due to surface tension to increase the contact angle θ. In a comparative example, since the surface 100 of a lens is not etched, the contact area between the surface 100 and the droplet 17 is much greater than that of an example so that the contact angle θx is smaller than the contact angle θof the example.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、透明部材、特に撥水性に優れた透明部材および光学部材などに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention is a transparent member, in particular to such excellent transparent member and the optical member in water repellency.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、透明部材、特に眼鏡レンズ等の光学部材に対して撥水性を付与させるためには、疎水性物質を用いた膜(撥水膜とも称する。)を、透明部材の表面に形成していた。 Conventionally, the transparent member, in particular in order to impart water repellency to the optical member such as an eyeglass lens, a film using a hydrophobic substance (also referred to as water-repellent film.), The surface of the transparent member It was formed in. 疎水性物質としては、例えば、フルオロシランなどがよく知られている。 The hydrophobic substance, for example, fluorosilane is well known.

【0003】撥水性は、水と接触する物質の表面が水をはじく性質であり、例えば、水滴とこの水滴が付着した物質表面との接触角によって評価される。 [0003] water-repellent, the surface of the materials in contact with water is the property of repelling water, for example, it is evaluated by the contact angle between the water droplet and the water droplets substance surface adhesion. また、接触角が大きい方が撥水性に優れている。 In addition, those having a large contact angle is excellent in water repellency. 一般に水滴に対する接触角が90°以上あれば、水滴の付着する物質表面の水やけを防止することができる。 If general contact angle with water droplet 90 ° or more, it is possible to prevent the water burning of adhering material surface of the water droplets. このため、このような撥水性を有する材料は、眼鏡レンズ等の水気を嫌う光学部材の撥水膜として用いられる。 Thus, material having such water repellency is used as the water-repellent film of an optical member dislikes moisture, such as spectacle lenses. 眼鏡レンズ等のレンズにおいては、雨などによる水滴がレンズ表面に付着したとき、撥水性を有していないと、レンズ表面に水やけが残ってしまう。 In lens such as a spectacle lens, when the water droplets due to rain adhering to the lens surface and does not have the water repellency, leaves a water burning on the surface of the lens. これにより、眼鏡レンズの場合は視界が悪くなったり、透明性が失われたりする。 Accordingly, or vision becomes worse in the case of spectacle lenses, transparency or lost.

【0004】撥水膜としては、接触角が110〜115 [0004] As the water-repellent film, the contact angle is 110 to 115
°程度のもの、例えばKP801M(商品名・信越化学社製)が開発されている。 Of about ° what, for example KP801M (trade name, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) have been developed.

【0005】また、従来、撥水性を有する固体の表面をフラクタル表面とすることによってこの表面を超撥水性にすることができるということが、例えば、文献(T.IE Further, conventionally, it is said that this surface by a solid surface fractal surface having water repellency can be superhydrophobic, for example, the literature (T.IE
E Japan,Vol.116-A,No.12,1996フラクタル表面の超撥水・超親水現象)で確認されている。 E Japan, Vol.116-A, has been confirmed in a super water-repellent, ultra-hydrophilic phenomenon) of No.12,1996 fractal surface.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、眼鏡レンズのような透明性が重視される光学部材の表面をフラクタル表面にするということは、これまで考えられたことはなかった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, the fact that the surface of the optical member transparency such as a spectacle lens is emphasized fractal surface was never considered before.

【0007】また、光学部材に用いられる撥水膜において、115°以上の撥水性を得られれば、例えば眼鏡レンズにおいてはレンズに付着した水滴は自重によってレンズから落ちていくために、首を振るだけで水滴を容易に除去することができるといった効果が期待できる。 Further, in the water-repellent film used for an optical member, as long to obtain a 115 ° or more water-repellent, for example for the spectacle lens water droplets attached to the lens that will fall from the lens by its own weight, shaking his head water drop effect can be expected, such can be easily removed by only.

【0008】ところが、近年の撥水膜材料(疎水性物質)の開発により、従来以上の接触角を得るのは困難となっている。 [0008] However, the development in recent years water-repellent film material (hydrophobic material), to obtain a higher than conventional contact angle is difficult. このため、従来から知られている撥水膜において、115°よりも大きい接触角を有する膜は得られていない。 Therefore, the water-repellent film which have been conventionally known, film can not be obtained with a greater contact angle than 115 °.

【0009】このため、従来から使用されている撥水膜を用いて、より撥水性を向上させることのできる透明部材の出現が望まれていた。 [0009] Therefore, by using the water-repellent film which is conventionally used, more the appearance of a transparent member which can improve the water repellency is desired.

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】このため、この発明にかかる発明者等は、水滴が付着する物質表面の物理的な状態に着目して、鋭意研究を行った。 Means for Solving the Problems] Therefore, inventors of this invention, by focusing on the physical state of the material surface water droplets adhering, carried out an extensive research. その結果、微細な凹凸を透明部材の表面に形成すれば、透明部材の透明性を失わせることなく、かつ接触角を増大させることができることを発見し、この発明をするに至った。 As a result, by forming fine irregularities on the surface of the transparent member, without loss of transparency of the transparent member, and we discovered that it is possible to increase the contact angle, leading to the present invention.

【0011】したがって、本発明において、透明部材の表面に形成された凹凸は、透明部材の光学的特性を失わせず、かつ表面とこの表面に付着する水滴との接触角を、従来の凹凸が形成されていない面に付着する水滴との接触角よりも大きくさせるものである。 Accordingly, in the present invention, it formed on the surface of the transparent member irregularities does not lose the optical properties of the transparent member, and the contact angle with water drops attached to the surface and this surface is conventional irregularities it is intended to be larger than the contact angle with a drop of water that adheres to the form that is not plane.

【0012】この発明によれば、透明部材の表面と、この表面と付着する水滴との静止接触角を125°以上にすることができる。 According to the present invention, the surface of the transparent member, the static contact angle with water droplets adhering this surface can be 125 ° or more.

【0013】水と接触する透明部材の表面に微細な凹凸が形成されていることによって、表面に付着する水滴と表面との接触面積を小さくすることができる。 [0013] By fine irregularities are formed on the surface of the transparent member in contact with water, it is possible to reduce the contact area between the water droplet and the surface to be adhered to the surface. このため、この透明部材の撥水性を向上させることができる。 Therefore, it is possible to improve the water repellency of the transparent member.
したがって透明部材に水滴や汚れが付着しても、これらを短時間で、かつ容易に除去することができる。 Be thus water drops and dirt on the transparent member, it is possible to them in a short time, and easily removed.

【0014】また、この透明部材は、透明部材の最表層に凹凸を有さない従来の透明部材と同じ光学特性を有する。 [0014] The transparent member has the same optical characteristics as the conventional transparent member having no irregularities on the outermost layer of the transparent member. ここで、光学的特性とは、反射率特性や透過率特性等を指す。 Here, the optical properties, refers to reflectance characteristics and transmittance characteristics. 一般に、これらの特性は、表面にある程度の大きさの凹凸を有する場合には散乱等の問題が生じる。 Generally, these characteristics are problems of the scattering or the like is generated in the case of having a certain size of the irregularities on the surface.
しかしまた、本発明の透明部材表面の凹凸は非常に微細であるため、光学部材の表面と付着する水滴との接触角の測定を行うときには、この表面は通常の平坦な面として測定される。 But also, since unevenness of the transparent member surface of the present invention it is very fine, when the measurement of contact angle with water droplets adhering to the surface of the optical member, this surface is measured as a normal flat surface.

【0015】本発明の透明部材は、透明性を有する下地(基材とも称する。)と、この下地の表面に形成された撥水膜(皮膜とも称する。)とを備えており、凹凸が下地の表面に形成されているのが好ましい。 The transparent member of the present invention, (also referred to as a base material.) Base having transparency and comprises a water-repellent film formed on the surface of the base (also referred to as film.), Unevenness underlying preferably formed on the surface of the. しかし、下地は平坦であり、下地上に形成された撥水膜自身が凹凸を有する構成でもよい。 However, the base is flat, water-repellent film itself formed on the base may be configured to have an uneven.

【0016】凹凸が形成された下地上に撥水膜を形成すると、見かけ上撥水膜の表面は、下地の表面の状態を反映して凹凸状となる。 [0016] irregularities to form a water-repellent film on the formed base, the surface of the apparent water repellent film becomes uneven to reflect the state of the surface of the base. この撥水膜表面にできた凹凸が、 Irregularities that could be in this water-repellent film surface,
下地に設けた凹凸と比べて大きさおよび形状が同一にならなくても、透明部材の光学的特性が失われず、水滴との接触角を、従来の透明部材の表面に付着する水滴との接触角よりも大きくすることができれば、使用可能である。 Even size and shape as compared with the irregularities provided on the underlayer without becoming the same, without the optical properties of the transparent member is lost, contact with water droplets adhering a contact angle with water droplet on the surface of the conventional transparent member if it is possible to be larger than the corner, it can be used. このように表面に微細な凹凸を有するために、撥水膜の表面に付着する水滴と、この撥水膜の表面との接触角をさらに大きくすることができる。 In order to have fine irregularities on the way the surface, the water droplets adhering to the surface of the water-repellent film, the contact angle between the surface of the water-repellent film can be further increased. このため、従来のように撥水材料のみで撥水性を付与していた場合と比べて、撥水性をさらに向上させることが可能となる。 Therefore, only in comparison with the case of not imparting water repellency repellent material as in the prior art, it is possible to further improve water repellency.

【0017】また、好ましくは、透明部材が光学部材であるのがよい。 Further, preferably, it is preferable transparent member is an optical member.

【0018】また、本発明に係わる透明部材は、水との接触角が増大するだけでなく、表面に付着した水滴によるくもりの消去時間を短くすることができる。 [0018] The transparent member according to the present invention, not only the contact angle with water is increased, it is possible to shorten the haze of the erase time by the water drops attached to the surface.

【0019】従って、本発明に係わる透明部材は、高い撥水性と防曇性を兼ね備えたものである。 [0019] Therefore, a transparent member according to the present invention has both high water repellency and anti-fogging properties. 特に本発明の水との静止接触角は、約115°以上であり、くもり消去時間は、約15秒以内であった。 In particular static contact angle with water of the present invention is from about 115 ° or more, haze erasing time was within about 15 seconds.

【0020】最表面の凹凸によって光学部材の光学的特性が損なわれてしまうことのないように、凹凸の形状および大きさが設定してある。 [0020] by irregularities of the outermost surface so as not to become impaired optical properties of the optical member, the shape and size of the irregularities is set.

【0021】この凹凸の底部から頂部までの高さは、1 The height of the top from the bottom of the unevenness is 1
0nm以上、60nm以下の範囲内の高さであるのが好ましい。 0nm or more, preferably a height in the range below 60 nm.

【0022】凹凸の底部から頂部までの高さがこの範囲内の高さであれば、水滴との接触角を大きくすることができる。 The height from the bottom portion of the concave-convex to the top portion if the height within this range, it is possible to increase the contact angle with a drop of water. また、表面に付着する水滴が凹凸の底部に入り込んで接触角を小さくしてしまうおそれもなく、また、 Also, no possibility that water droplets adhere to the surface resulting in a smaller contact angle enters the bottom of the irregularities, also,
透明部材の他の特性に悪影響を与えてしまうようなことはない。 It is not as adversely affect other properties of the transparent member.

【0023】また、好ましくは、凹凸の凹部の数が、下地の表面に、単位面積1μm 2あたり、100〜150 Further, preferably, the number of the recesses of the irregularities, the surface of the base, unit area 1 [mu] m 2 per 100 to 150
個形成されているのがよい。 It is preferable are pieces formed.

【0024】これにより、表面に付着する水滴と接触する面積をより小さくすることができる。 [0024] Thus, it is possible to reduce the area in contact with the water droplets adhere to the surface. よって、水滴は大気と接する面積が大きくなることから表面張力によって球状になりやすくなる。 Therefore, water droplets can easily become spherical by the surface tension from becoming large area in contact with air. この結果、付着した水滴を容易に短時間で表面から除去することが可能となる。 As a result, it is possible to remove from the surface of the adherent water droplets easily in a short time. また、凹部の透明部材表面での密度が上記の範囲であれば、凸部と凸部との間に付着する水滴が入り込んで、接触角を小さくしてしまうようなおそれはない。 Further, if the range density is above a transparent member surface of the recess, enters the water droplets adhering between the convex portion and the convex portion, there is no fear that would reduce the contact angle.

【0025】本明細書における下地とは基材の表面、または基材上に形成した反射防止膜またはハードコート層またはプライマー層の表面を意味するものである。 [0025] The base and in the present specification is intended to mean a surface of the surface of the substrate or an antireflection film or a hard coat layer was formed on a substrate, or a primer layer.

【0026】凹凸を反射防止膜の表面に形成し、この上に均一な膜厚の撥水膜を設ければ、反射防止特性を維持し、かつ従来の眼鏡レンズよりも撥水性を向上させることができる。 The unevenness is formed on the surface of the antireflection film, by providing a water-repellent film having a uniform thickness thereon, maintaining the anti-reflective properties, and to improve the water repellency than conventional spectacle lenses can.

【0027】また、撥水膜が単分子膜であるのが好ましい。 Further, preferably water-repellent film is a monomolecular film. これにより、例えば反射防止膜を有する下地上に設ける撥水膜の場合には、単分子膜という薄い膜であるため、この撥水膜によって透明部材の反射特性が変化して反射防止効果を損ねるようなおそれはない。 Thus, in the case of the water-repellent film provided on the base having, for example, antireflection film, since a thin film of a monomolecular film, impairing the reflection preventing effect reflection properties of the transparent member by the water-repellent film is changed there is no possibility such as. また、下地に設けた凹凸に沿って膜が形成される。 Further, the film is formed along the irregularities formed in the base. このため、付着する水滴が好ましく除去されるように設定した凹凸の大きさおよび形状を撥水膜上にそのまま反映させることができる。 Therefore, the set uneven size and shape as water droplets to adhere is preferably removed can be directly reflected on the water repellent film.

【0028】また、この発明を適用することができる透明部材としては、撥水性を必要とする透明部材であれば、眼鏡用のプラスチックレンズに限られるものではない。 Further, the transparent member capable of applying the invention, if the transparent member that requires water repellency, not limited to plastic lenses for spectacles. 露光装置等の光学部材に用いられる各種光学レンズや、窓ガラス等のガラス製品、車のフロントガラス、スキーや水泳に用いるゴーグル等への適用が期待できる。 Various optical lenses used for an optical member such as an exposure apparatus, glass products such as window glass, car windshield, is applied to the goggles or the like used in skiing and swimming can be expected.

【0029】凹凸を形成する工程としては例えば、透明部材の表面に対してウェットエッチングを行うのがよい。 [0029] For example, as a step for forming irregularities, it may be carried out wet etching with respect to the surface of the transparent member. 透明部材の表面または下地の表面をフッ酸(HF) Surface hydrofluoric acid on the surface or the lower transparent member (HF)
等のエッチング溶液に曝すと、曝された領域は浸食されて微細な凹凸が形成される。 Exposure to the etching solution and the like, the area exposed the fine irregularities are eroded is formed. なお、凹凸の寸法はエッチング時間によって制御することができる。 The size of the irregularities can be controlled by the etching time.

【0030】また、ウェットエッチングで使用する薬品は、HF−HNO 3 −CH 3 COOH、HF−HNO Further, chemicals used in the wet etching, HF-HNO 3 -CH 3 COOH , HF-HNO
3 、HF−CH 3 COOH、KOH、KOH−K 3 [F 3, HF-CH 3 COOH, KOH, KOH-K 3 [F
e(CN 6 )]、HCl、HNO 3 −HCl、H 3 PO e (CN 6)], HCl , HNO 3 -HCl, H 3 PO
4 、H 3 PO 4 −HNO 3 、H 3 PO 4 −HNO 3 −C 4, H 3 PO 4 -HNO 3 , H 3 PO 4 -HNO 3 -C
HCOOH、H 2 SO 4 、FeCl 3 、N 34 −CH HCOOH, H 2 SO 4, FeCl 3, N 3 H 4 -CH
3 CHOHCH 3等を用いてもよい。 3 CHOHCH 3 or the like may be used. 特に好ましくは、 Particularly preferably,
HFや、HFとNH 4 Fとの混合物を用いるのがよい。 HF and, it is preferably used a mixture of HF and NH 4 F.

【0031】これらの溶液は希釈、加熱、超音波等を使用することによりエッチング能力をコントロールすることが出来る。 [0031] These solutions dilution, heating, it is possible to control the etching ability by using ultrasound or the like.

【0032】この凹凸を有する表面に水滴が付着すると、平面に水滴が付着する場合と比べて固体表面と水滴との接触する面積が小さくなる。 [0032] When the water drops on the surface having the irregularities, the area of ​​contact between the solid surface and the water droplet, compared to the case where water drops plane is adhered decreases. このため水滴は大気と接する面積が大きくなって表面張力によって、より球状に近づいていく。 Thus droplets by the surface tension increases the area in contact with air, approaches the more spherical. このため、水滴と、この水滴が付着する表面との接触角はより大きくなる。 Therefore, the contact angle of the water droplet, and the surface of the water droplet adheres becomes greater. これは撥水性の向上を意味する。 This means the improvement of the water repellency.

【0033】また、凹凸を形成する工程として、透明部材の表面または下地の表面に対してドライエッチングを行ってもよい。 Further, as the step of forming an uneven, dry etching may be performed with respect to the surface or the lower surface of the transparent member. この場合も形成される凹凸の寸法はエッチング時間によって制御することができる。 The dimensions of irregularities are also formed in this case can be controlled by the etching time.

【0034】また、ドライエッチングであれば、例えば下地と撥水膜とで構成されている透明部材を形成する場合に、下地に対してエッチング処理を行った装置と同一の装置を用いて、その後の撥水膜形成工程を行うことができる。 [0034] In addition, if dry etching, for example in the case of forming a transparent member is composed of a base and a water-repellent film, using the same equipment unit and performing the etching process to the underlying, then water repellent film forming process can be performed in. 従って製造時間を短縮でき、また製造コストを低く抑えることができる。 Thus it can shorten the manufacturing time, also it is possible to reduce the manufacturing cost.

【0035】また、ドライエッチングは、このドライエッチングを行う装置内の真空度が10Pa以上でかつ1 Further, dry etching, and 1 is the degree of vacuum in the apparatus for performing the dry etching is 10Pa or more
00Pa以下の範囲内にあるという条件下で行うのがよい。 May be carried out under the condition that in 00Pa within the following range. これにより、透明部材の表面または下地の表面に対して好ましいエッチング処理を行うことができる。 Thus, it is possible to perform the preferred etching process on the surface or the lower surface of the transparent member.

【0036】また、ドライエッチングは、このドライエッチングを行う装置内の温度を70℃以下にして行うのがよい。 Further, dry etching may be carried out by the temperature in the apparatus for performing the dry etching to 70 ° C. or less.

【0037】例えば、透明部材を眼鏡レンズ等の光学部材とした場合、下地に合成樹脂を用いることが多い。 [0037] For example, when the transparent member and the optical member such spectacle lenses, it is often used a base synthetic resin. このため70℃以下の比較的低い温度であれば、熱による透明部材の変形や劣化を防ぐことができる。 If a relatively low temperature of the order 70 ° C. or less, it is possible to prevent deformation or deterioration of the transparent member due to heat.

【0038】また、ドライエッチングを、高周波放電を用いたプラズマエッチングとするのがよい。 Further, the dry etching, it is preferable to plasma etching using a high-frequency discharge. これにより低温でのエッチング処理を行うことができる。 Thus it is possible to perform the etching process at a low temperature.

【0039】また、高周波放電を用いたプラズマエッチングを行う場合、エッチング時間を、1秒以上、10秒以内の範囲内の時間とするのがよい。 Further, when plasma etching is performed using a high frequency discharge, the etching time, one second or more, preferably set to a period of time in the range of 10 seconds.

【0040】上記の範囲内の時間でエッチング処理を行えば、エッチングする表面の過剰な切削を防ぐことができる。 [0040] By performing the time etching treatment within the above range, it is possible to prevent excessive cutting of the surface to be etched. 例えば、光学部材においては過剰な下地の切削によって光学特性が変化するおそれを回避できる。 For example, the optical member can be avoided the risk of optical characteristics vary by the cutting of excess base. また、 Also,
切削不足の心配もない。 There is no worry of cutting shortage.

【0041】また、好ましくは、ドライエッチングをイオンビームエッチングとするのがよい。 Further, preferably, it is preferable to dry etching and ion beam etching. イオンビームエッチングを用いれば、低温でのエッチング処理を行うことができる。 The use of ion beam etching, it is possible to perform the etching process at a low temperature. また、好ましい凹凸形状が得られる。 Further, preferably uneven shape is obtained.

【0042】また、最表面に凹凸が形成された透明部材を製造するにあたり、この透明部材の最表面となる透明部材用材料の最表面に直接凹凸を形成する工程を含んでいてもよい。 Further, in manufacturing the transparent member irregularities on the outermost surface is formed, it may include the step of forming a direct irregularities on the outermost surface of the transparent member material comprising the outermost surface of the transparent member. この凹凸の形成は、ウェットエッチングもしくはドライエッチングで以て行うことができる。 The formation of the irregularities can be done than by wet etching or dry etching.

【0043】 [0043]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of the present invention.

【0044】透明部材を眼鏡用のプラスチックレンズとする場合、その下地は、レンズ基材上にハードコート層を形成し、ハードコート層上に反射防止膜を施したレンズ、またはレンズ基材上にプライマー層を形成し、その上にハードコート層および反射防止膜を形成したレンズの内どれでも良い。 [0044] When the transparent member to plastic lenses for spectacles, the underlying, on the lens substrate to form a hard coat layer, the lens was subjected to anti-reflection film on the hard coat layer or on a lens substrate, to form a primer layer, among any good lens to form a hard coat layer and an antireflection film formed thereon.

【0045】特に反射防止膜の上に撥水層を設ける場合、反射防止効果に悪影響を及ぼさないように、撥水層は単分子膜程度に薄いことが好ましい。 [0045] particularly when providing the water-repellent layer on the antireflection film, so as not to adversely affect the anti-reflection effect, the water-repellent layer is preferably thin to approximately monolayer. あるいは、撥水層の屈折率と膜厚を測定又は規定し、撥水層を設けたときに反射率が低下するように、予め多層反射防止膜を設計製作しておいてもよい。 Alternatively, to measure or define the refractive index and the thickness of the water-repellent layer, so that the reflectance is reduced when having a water-repellent layer may be previously designed and manufactured in advance multilayer antireflection film.

【0046】プラスチックレンズ基材の材料となる高分子化合物としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステルの共重合体(この中には他のビニルモノマとの共重合体を含む。)、ポリアミド、ポリエステル(いわゆるアルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂を含む。)、各種アミノ樹脂(尿素樹脂を含む。)ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、透明塩化ビニル樹脂、繊維素系樹脂およびエチレングリコールビスアリルカーボネート重合体(CR39)を用いることができる。 [0046] As the polymer compound as a material for the plastic lens substrate include, for example, epoxy resin, copolymers with other vinyl monomers are copolymers of acrylic acid esters and / or methacrylic acid ester (in this .), polyamides, polyesters (so-called alkyd resins, unsaturated polyester resins.), including various amino resins (urea resins.) urethane resin, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, transparent vinyl chloride resin, cellulose resins and it can be used ethylene glycol bis-allyl carbonate polymer (CR39).

【0047】ハードコート層とはプラスチック基板をキズなどから保護するための膜であり、構成材料としては、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化樹脂やウレタン系の様な光硬化樹脂が使用される。 [0047] The hard coat layer is a film for protecting a plastic substrate from scratches and as the material, a melamine resin, photocurable resin such as a thermosetting resin or urethane acrylic resins are used . 表面硬度の硬いものが好ましいことから、ハードコート層は、熱硬化樹脂の場合下記の一般式(1)で示される有機シラン化合物及び/又はその部分加水分解物の硬化物からなることが好ましい。 Hard since it is preferable surface hardness, the hard coat layer is preferably made of a cured product of an organic silane compound represented by the case of the thermosetting resin the following general formula (1) and / or a partial hydrolyzate thereof.

【0048】R 1 a Si(OR 24-a・・・・・(1) また、レンズの耐衝撃性を向上させるため、「プライマー層」と呼ばれる衝撃吸収層をレンズ基材とハードコート層との間に成膜する場合もある。 [0048] Also R 1 a Si (OR 2) 4-a ····· (1), to improve the impact resistance of the lens, the shock absorbing layer lens substrate called "primer layer" and the hard coating sometimes deposited between the layers. プライマー層としては、ウレタン系樹脂を主成分とするものが好ましい。 The primer layer composed mainly of urethane resin is preferred. また、ポリビニルブチラール系樹脂を主成分とするものも使用可能である。 Furthermore, it can be used as a main component a polyvinyl butyral resin. ハードコート層やプライマー層には屈折率の制御を主目的として酸化物微粒子を添加することも可能である。 It is also possible to the hard coat layer or a primer layer for adding an oxide fine control of refractive index as the main purpose.

【0049】また、反射防止膜は、レンズの表面反射を低減させるために設けられたものであり、その構成は、 [0049] Further, the antireflection film is provided in order to reduce the surface reflection of the lens, its configuration,
基材の屈折率に対して低い屈折率の物質を光の波長の4 Wavelength substance of light low refractive index with respect to the refractive index of the substrate 4
分の1の薄膜を単層設けるものから、低屈折率と高屈折率の物質から交互層を作成した多層のものが使用可能である。 Minute 1 of the thin film from those provided as a single layer, those of a material of low refractive index and high refractive index of the multilayer that created the alternating layers can be used.

【0050】単層の場合は、成膜する薄膜の屈折率を基材の屈折率の平方根のものを使用した場合に光の一波長に対し反射光をなくすことが出来る。 [0050] In the case of a single layer, it is possible to eliminate the light reflected to the wave of light when using those refractive index of the thin film to be formed in the refractive index of the square root of the substrate. 一方多層の場合、 On the other hand, in the case of a multi-layer,
設計により反射光のない波長を複数個もつことが出来、 Can have a plurality of wavelengths with no reflected light by the design,
かつ広帯域にわたり、低反射性能を持つことが可能となる。 And over a wide band, it is possible to have a low reflection performance.

【0051】これら光学薄膜に用いられる物質としては、低屈折率の場合、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等が挙げられる。 [0051] As materials used for these optical thin films, when the low refractive index, silicon monoxide, silicon dioxide, magnesium fluoride and the like. 一方、高屈折率の場合は、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、フッ化ネオジウム等が挙げられる。 On the other hand, in the case of a high refractive index, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, hafnium oxide, and a fluoride such as neodymium. また、反射防止膜機能の他に酸化クロム等の着色膜や銅、チタン、ニッケル、鉄、金、銀、等や場合によってはこれらの酸化物を使用した吸収膜を用いる場合もある。 Furthermore, the colored film and copper chromium oxide in addition to the anti-reflection film functions, titanium, nickel, iron, gold, silver, by an equal and if the case of using the absorbing film using these oxides.

【0052】この発明で効果的な反射防止膜は、表面をエッチングして微細な凹凸を形成するために、最上層に酸化ケイ素系の無機物質層を用いた膜である。 [0052] Effective anti-reflection film in the present invention, in order to form the fine irregularities of the surface by etching a film using an inorganic material layer of silicon oxide on the top layer.

【0053】また、撥水膜を構成する撥水剤については、下記又はからなる撥水剤を用いるのがよい。 [0053] Also, the water repellent agent constituting the water-repellent film, it is preferable to use a water repellent having the following or.

【0054】について:この撥水剤は、一般式(2) [0054] Information: This water-repellent agents, the general formula (2)
で表される2官能有機シラン化合物又はその部分加水分解物である。 In a bifunctional organosilane compound or a partial hydrolyzate thereof represented.

【0055】 [0055]

【化1】 [Formula 1]

【0056】式中、Rは置換又は非置換の1価炭化水素基で、好ましくは置換又は非置換の炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基又はアリール基である。 [0056] In the formula, a monovalent hydrocarbon group R is a substituted or unsubstituted, preferably substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group or an aryl group. なお、 It should be noted that,
置換1価炭化水素基としては、非置換の1価炭化水素基の一部又は全部がハロゲン原子例えばフッ素原子で置換されたものを挙げることができ、Rfであってもよい。 The substituted monovalent hydrocarbon group, a part or all of the monovalent hydrocarbon group unsubstituted it is possible to include those substituted with a halogen atom such as fluorine atom, may be Rf.
Xはケイ素原子に直結する加水分解性基(好ましくはハロゲン原子、炭素数1〜10のアルコキシ基若しくはアシロキシ基)又は水酸基である。 X is (preferably a halogen atom, an alkoxy group or acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms) hydrolyzable group directly bonded to a silicon atom or a hydroxyl group. Rf はフッ素化された1価の有機基(1価炭化水素基例えばアルキル基)であり、炭素数3〜30が好ましい。 Rf is a monovalent organic group which is fluorinated (monovalent hydrocarbon radical such as an alkyl group), C3-30 is preferred. このフッ素化は有機基にある全部の水素原子が置換されていても部分的に置換されていてもよい。 The fluorination all hydrogen atoms in the organic group may be substituted also partially be substituted.

【0057】Rf の特に好ましいものは、一般式(3): C p2p+1m2m −(pは1〜20、mは2又は3)・・・(3) で表される。 [0057] Particularly preferred for Rf is represented by the general formula (3): C p F 2p + 1 C m H 2m - (p is 1 to 20, m is 2 or 3) represented by (3) .

【0058】具体的なシラン化合物としては、例えば、以下に示すものを用いることができる。 [0058] Specific silane compounds, for example, can be used as shown below.

【0059】CF 324 (CH 3 )SiCl 24924 (CH 3 )SiCl 281724 (CH 3 )SiCl 281736 (CH 3 )SiCl 2 CF 324 (C 25 )SiCl 24924 (C 25 )SiCl 281724 (C 25 )SiCl 281736 (C 25 )SiCl 2 CF 324 (CH 3 )Si(OCH 3 ) 24924 (CH 3 )Si(OCH 3 ) 281724 (CH 3 )Si(OCH 3 ) 281736 (CH 3 )Si(OCH 3 ) 2 CF 324 (CH 3 )Si(OC(CH 3 )=CH [0059] CF 3 C 2 H 4 (CH 3) SiCl 2 C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) SiCl 2 C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) SiCl 2 C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) SiCl 2 CF 3 C 2 H 4 (C 2 H 5) SiCl 2 C 4 F 9 C 2 H 4 (C 2 H 5) SiCl 2 C 8 F 17 C 2 H 4 (C 2 H 5 ) SiCl 2 C 8 F 17 C 3 H 6 (C 2 H 5) SiCl 2 CF 3 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCH 3) 2 C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCH 3) 2 C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCH 3) 2 C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) Si (OCH 3) 2 CF 3 C 2 H 4 (CH 3) Si (OC (CH 3) = CH
2 ) 24924 (CH 3 )Si(OC(CH 3 )=C 2) 2 C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) Si (OC (CH 3) = C
2 ) 281724 (CH 3 )Si(OC(CH 3 )=C H 2) 2 C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) Si (OC (CH 3) = C
2 ) 281736 (CH 3 )Si(OC(CH 3 )=C H 2) 2 C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) Si (OC (CH 3) = C
2 ) 2 CF 324 (CH 3 )Si(OCOCH 3 ) 24924 (CH 3 )Si(OCOCH 3 ) 281724 (CH 3 )Si(OCOCH 3 ) 2 C 81736 (CH 3 )Si(OCOCH 3 ) 2について:この撥水剤は、一般式(4)で表される有機ケイ素化合物である。 H 2) 2 CF 3 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCOCH 3) 2 C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCOCH 3) 2 C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) Si (OCOCH 3) 2 C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) Si (OCOCH 3) 2 for: water-repellent agent is an organic silicon compound represented by the general formula (4).

【0060】 [0060]

【化2】 ## STR2 ##

【0061】この有機ケイ素化合物は、nが2以上のシラザン化合物の場合は、平均組成式(5): RfRSi( NH) 2/2・・・(5) と表すこともでき、この平均組成式において両末端を− [0061] The organosilicon compound, when n is 2 or more silazane compound, the average composition formula (5): RfRSi (NH) 2/2 ··· (5) and can also be represented, the average composition formula both ends in -
NH2 基としたものである。 It is obtained by the NH2 group.

【0062】特に前記有機基Rf が一般式(6): C p2p+1m2m − ・・・(6) で表される有機ケイ素化合物、特にnが2以上のシラザン化合物が好ましい。 [0062] Particularly the organic group Rf is the general formula (6): C p F 2p + 1 C m H 2m - Organic silicon compound represented by (6), in particular n is 2 or more silazane compounds are preferred .

【0063】好ましい有機ケイ素化合物を例示すると、以下の通りである。 [0063] To illustrate the preferred organosilicon compound are as follows.

【0064】CF 324 (CH 3 )Si( NH) 2/24924 (CH 3 )Si( NH) 2/24936 (CH 3 )Si( NH) 2/281724 (CH 3 )Si( NH) 2/281736 (CH 3 )Si( NH) 2/2102136 (CH 3 )Si( NH) 2/2これらの式において、「CF 324 (CH 3 )Si( N [0064] CF 3 C 2 H 4 (CH 3) Si (NH) 2/2 C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) Si (NH) 2/2 C 4 F 9 C 3 H 6 (CH 3 ) Si (NH) 2/2 C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) Si (NH) 2/2 C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) Si (NH) 2/2 C 10 F 21 in C 3 H 6 (CH 3) Si (NH) 2/2 these formulas, "CF 3 C 2 H 4 (CH 3) Si (N
H) 2/2 」は、次の式(7)で表現することもできる。 H) 2/2 "can also be expressed by the following equation (7). 他の化合物も同様に表現することができる。 Other compounds can be represented similarly. ただし、nは正の整数で、好ましくは1〜20、特に好ましくは3又は4である。 Here, n is a positive integer, preferably 1 to 20, particularly preferably 3 or 4.

【0065】 [0065]

【化3】 [Formula 3]

【0066】これらの化合物は単独で又は混合して使用される。 [0066] These compounds may be used alone or in combination. また、撥水剤とを混合して使用してもよい。 It is also possible to use a mixture of water-repellent agent. 1官能の「フッ素化された有機基を有する有機シラン化合物」や1官能の「フッ素化された有機基を有するシラザン化合物」を併用したり、先に2官能の撥水剤で処理し、後で1官能(ヘキサメチレンジシラザン)の撥水剤で処理してもよい。 1 or a combination of "organic silane compound having a fluorinated organic group" and 1 "silazane compound having a fluorinated organic group" functional functional, treated with water repellent earlier bifunctional, after in may be treated with a water repellent monofunctional (hexamethylene disilazane). また、その逆でもよい。 In addition, or vice versa.

【0067】更に先に2官能の撥水剤で処理し、後でフッ素化シリコーンオイル(非反応性のもの)やフッ素系オイル(例えば、商品名「デムナム」(ダイキン工業株式会社製)、商品名「フォンブリンオイル」(モンテジソン社製))で後処理してもよい。 [0067] further treated with bifunctional water repellent earlier, later fluorinated silicone oil (non-reactive ones) or fluorine based oil (for example, trade name "Demnum" (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), trade it may be post-treated under the name "Fomblin oil" (Montedison Co., Ltd.)).

【0068】この発明の眼鏡レンズの製造方法を概略的に説明する。 [0068] illustrating a manufacturing method of a spectacle lens of the present invention schematically.

【0069】まず、上述したプラスチックレンズ基材上にハードコート層を形成する。 [0069] First, a hard coat layer on the plastic lens substrate described above. レンズ基材上へのハードコート層の塗布方法は、刷毛塗り、浸漬、ロール塗り、 The method of coating the hard coat layer of the lens substrate on the brushing, dipping, roll coating,
スプレー塗装、流し塗り等、通常の塗布法を用いることができる。 Spray coating, flow coating, etc., it can be used ordinary coating method. その後、ハードコート層を熱処理によって硬化させてハードコート層を形成する。 Thereafter, a hard coat layer cured by heat treatment of the hard coat layer. このハードコート層上に反射防止膜を設ける。 Providing a antireflection film on the hard coat layer. なお、ハードコート層と反射防止膜との間にプライマー層を介在させてもよい。 Incidentally, a primer layer may be interposed between the hard coat layer and the antireflection film. この反射防止膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等により成膜される。 The anti-reflection film, a vacuum vapor deposition method, an ion plating method, is formed by sputtering or the like. 次に、この反射防止膜の表面に対して例えば、ウェットエッチング若しくはドライエッチングを行って、この発明の特徴である凹凸を形成する。 Then, for example, to the surface of the antireflection film by wet etching or dry etching to form unevenness, which is a feature of the present invention.

【0070】ウェットエッチングで使用する薬品は、H [0070] chemicals used in the wet etching, H
F−HNO 3 −CH 3 COOH、HF−HNO 3 、HF F-HNO 3 -CH 3 COOH, HF-HNO 3, HF
−CH 3 COOH、KOH、KOH−K 3 [Fe(CN -CH 3 COOH, KOH, KOH- K 3 [Fe (CN
6 )]、HCl、HNO 3 −HCl、H 3 PO 4 、H 3 6)], HCl, HNO 3 -HCl, H 3 PO 4, H 3
PO 4 −HNO 3 、H 3 PO 4 −HNO 3 −CHCOO PO 4 -HNO 3, H 3 PO 4 -HNO 3 -CHCOO
H、H 2 SO 4 、FeCl 3 、N 34 −CH 3 CHO H, H 2 SO 4, FeCl 3, N 3 H 4 -CH 3 CHO
HCH 3等を用いてもよい。 HCH 3 or the like may be used. 特に好ましくは、HFや、 Particularly preferably, or HF,
HFとNH 4 Fとの混合物を用いるのがよい。 Good to use a mixture of HF and NH 4 F.

【0071】これらの溶液は希釈、加熱、超音波等を使用することによりエッチング能力をコントロールすることが出来る。 [0071] These solutions dilution, heating, it is possible to control the etching ability by using ultrasound or the like.

【0072】また、ドライエッチングは、主に真空中にて行われるものである。 [0072] Further, dry etching is intended to be primarily performed in vacuum. この場合ウェットエッチングの場合より精密に加工することが可能であり、サブミクロンの制御が可能となる。 In this case it is possible to precisely processed than in the case of wet etching, it is possible to control the sub-micron. 手法としては、エッチングガスを用いプラズマによる気相反応処理や不活性ガス等をイオン化させたイオンビーム等が挙げられる。 As a method, an ion beam or the like the gas phase reaction process and an inert gas such as were ionized by plasma using an etching gas. 中でもエッチングガスを用いたプラズマを用いた気相反応処理が有効である。 Among these vapor phase reaction process using a plasma using an etching gas is effective.

【0073】プラズマを発生させるには、熱・高周波・ [0073] In order to generate a plasma, heat, high frequency,
マイクロ波等が用いられるが、ここでは高周波を使用することが望ましい。 Although the microwave or the like is used, where it is desirable to use a high frequency. また装置としては特に指定はなく、 Also not specifically designated as a device,
例えば平行平板型(容量結合型)や誘導起電型等が挙げられ、またこの時電極位置は装置内部でも外部でもかまわない。 For example a parallel plate type (capacitively coupled) and induced electromotive type and the like, and this time the electrode position may be outside even inside the device. その上プラズマ密度を上げるため磁場を使用しても良い。 It may be used a magnetic field to increase the on plasma density.

【0074】ここで例えばCF 4をエッチングガスとして用いた場合、プラズマ中の電子によりC−F結合が破壊され、フッ素のラジカル等が発生しこれらは化学的に極めて活性であるため、プラズマ中に置かれたSi化合物例えばSi、SiO 2 、Si 34等と反応が発生しエッチングが可能となる。 [0074] When using the here eg CF 4 as the etching gas, CF bond is destroyed by electrons in the plasma, radicals and the like of fluorine occurs because they are chemically very active, in the plasma placed a Si compound e.g. Si, reacts with SiO 2, Si 3 N 4 or the like is possible to generate and etching. ここで挙げたSi化合物は固体であっても薄膜であっても同じ反応が起こるということは言うまでもない。 Here Si compounds mentioned is that the same reaction even thin film be a solid occurs of course.

【0075】ここで使用するエッチングガスとしては、 [0075] As an etching gas used here,
CF 4 、CHF 3 、C 28 、C 410 Cl 2 、CCl 4 CF 4, CHF 3, C 2 F 8, C 4 F 10 Cl 2, CCl 4
、CCl 22 、CCl 3 F、C 2 Cl 24 、C 3 , CCl 2 F 2, CCl 3 F, C 2 Cl 2 F 4, C 3
Cl 33 、BCl 3 SiCl 3 、CBrF 3 、SF Cl 3 F 3, BCl 3 SiCl 3, CBrF 3, SF
6 、NF 3 、Ar、O 2の単独或いは混合ガスを使用することが望ましく、また上記単独或いは混合ガスにN 2 、CO 2 、He、空気を混合させても良い。 6, NF 3, Ar, it is desirable to use alone or mixed gas of O 2, also in the single or mixed gas N 2, CO 2, He, may be mixed with air.

【0076】一方イオンビームに関する詳細はここでは省略するが、使用するガスは、O 2 、N 2 、Ar等が挙げられ、イオン発生源としては、フィラメント等による熱電子放出型や高周波プラズマ等が挙げられる。 [0076] A contrast omitted here details on the ion beam, the gas used is, O 2, N 2, Ar and the like, and as the ion generation source, thermionic emission type or a high-frequency plasma due filaments etc. and the like.

【0077】そして、凹凸が形成された反射防止膜上に撥水剤を用いて撥水層を形成する。 [0077] Then, a water-repellent layer with a water repellent agent onto the anti-reflection film which irregularities are formed.

【0078】撥水剤又は又はそれらの混合物によるレンズ基材(基材の上に衝撃吸収層やハードコート層、 [0078] water repellent or or lens substrate with a mixture thereof (the shock-absorbing layer or a hard coat layer on the substrate,
反射防止膜が形成されている場合には、それを有する基材のこと)の撥水処理は、大きく分けて、・塗布法による場合と、・真空蒸着法、CVD法その他の真空薄膜形成技術による場合と2通りあるが、反射防止膜の表面への凹凸の形成を、真空装置内でドライエッチングにより行う場合には、後者の真空薄膜形成技術によるものが好ましい。 When the anti-reflection film is formed, the water repellent treatment of that of the substrate) with it, roughly, to the case by-coating, Vacuum deposition method, CVD method other vacuum thin film forming technique Although some cases and are two by the irregularities formed on the surface of the antireflection film, in the case of performing dry etching in a vacuum device, preferably by the latter of the vacuum thin film forming technique.

【0079】 [0079]

【実施例】次に、この発明の実施例につき、説明する。 [Example] Next, a embodiment of the present invention will be described.

【0080】(実施例1)ここでは、基材上にハードコート層および反射防止膜をこの順に具えた下地上に撥水層が形成されている眼鏡用のレンズを例に挙げて説明する。 [0080] (Example 1) Here will be described with a lens for spectacles, which water-repellent layer on the base of the hard coat layer and antireflection film on a substrate equipped in this order is formed as an example. このレンズの撥水層が接している下地表面、すなわち反射防止膜の表面には、微細な凹凸が形成されている。 Underlying surface water-repellent layer is in contact of the lens, that is, the surface of the antireflection film, fine irregularities are formed. このようなレンズを例えば以下のようにして作製する。 Producing such lenses, for example, as follows.

【0081】まず、この例では、プラスチック基材として、屈折率1.50のCR39(商品名・PPG社製) [0081] First of all, in this example, as a plastic substrate, (trade name · PPG, Inc.) CR39 a refractive index of 1.50
の重合物を主成分とする直径80mmの市販の凹レンズを用いる。 Using a commercially available concave 80mm diameter for a polymer as a main component. これを基材Slとする。 This is referred to as substrate Sl.

【0082】ハードコート層の形成に用いるコート液を予め調整しておく。 [0082] adjusted in advance a coating liquid used for forming the hard coat layer.

【0083】まず、予備組成物Aを調整する。 [0083] First, to adjust the pre-composition A. 反応容器内にγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランを248重量部加えて、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、0.05規定の塩酸水溶液36重量部を、一度に反応容器内に添加する。 In addition 248 parts by weight of γ- glycidoxypropylmethyldiethoxysilane the reaction vessel, while stirring with a magnetic stirrer, addition of 0.05 aqueous solution of hydrochloric acid 36 parts by weight of the defined, into the reaction vessel at a time to. 約1時間撹拌すると液状の加水分解物が得られる。 Hydrolyzate liquid is obtained and stirred for about 1 hour.

【0084】この加水分解物に、エタノール56.6重量部およびエチレングリコール53.4重量部を添加して、その後さらにアルミニウムアセチルアセテート4. [0084] In this hydrolyzate, ethanol was added 56.6 parts by weight of ethylene glycol 53.4 parts by weight, then further aluminum acetyl acetate 4.
7重量部を加えて十分に混合および融解したものを予備組成物Aとする。 It added 7 parts by weight and pre-composition A and those well-mixed and melted.

【0085】次に、予備組成物Bを調整する。 Next, to adjust the pre-composition B. 反応容器内にγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを2 The reaction vessel γ- glycidoxypropyltrimethoxysilane 2
12.2重量部加えて、容器内の温度を10℃に維持しながら、マグネチックスターラーを用いて撹拌する。 12.2 In addition parts, while maintaining the temperature in the vessel 10 ° C., and stirred using a magnetic stirrer. 撹拌しながら、容器内に0.01規定の塩酸水溶液48. While stirring, aqueous hydrochloric acid 0.01N in the container 48.
6重量部を徐々に滴下する。 Slowly added dropwise to 6 parts by weight. この塩酸の滴下の終了後直ちに冷却をやめる。 Immediately stop cooling after dropping of the hydrochloric acid terminated. これにより液状の加水分解物が得られる。 Thus hydrolyzate liquid is obtained.

【0086】この加水分解物にエタノール77.1重量部およびエチレングリコール37.7重量部を添加した後、アルミニウムアセチルアセテートを7.65重量部加えて十分に混合させたものを予備組成物Bとする。 [0086] and the ethanol were added thereto 77.1 parts by weight of ethylene glycol 37.7 parts by weight hydrolyzate, pre-composition that sufficiently mixed by adding aluminum acetyl acetate 7.65 parts by weight B to.

【0087】次に、調整した予備組成物Aおよび予備組成物Bを用いてハードコート層を形成するためのコート液を調整する。 Next, to adjust the coating solution for forming the hard coat layer using the adjusted pre-composition A and the preliminary composition B.

【0088】まずガラス容器に、予備組成物Aを20重量部、予備組成物Bを80重量部、SiO 2ゾル(固形分30重量%、平均粒子径13nm)を200重量部およびシリコーン系界面活性剤0.45重量部を加えて十分に撹拌および混合する。 [0088] First a glass container, 20 parts by weight of preliminary composition A, 80 parts by weight of preliminary composition B, SiO 2 sol (solid content 30 wt%, average particle size 13 nm) 200 parts by weight of silicone surfactant sufficiently stirred and mixed with agent 0.45 parts by weight. こうして得られた溶液をコート液Hlとする。 The solution thus obtained and the coating liquid Hl.

【0089】下地の形成は、まず、上述したプラスチック基材である基材Slを、60℃で濃度が10Wt%のNaOH水溶液に3分間浸漬した後、基材Slを水洗いして乾燥させる。 [0089] The underlying formation, first, a base material Sl is a plastic substrate, which has been described above, the density at 60 ° C. After soaking for 3 minutes in an aqueous NaOH solution of 10 Wt%, and drying the washed substrate Sl.

【0090】次に乾燥した基材Slをコート液Hlに浸して、引き上げ速度90mm/minで引き上げる。 [0090] The dried substrate Sl is immersed in a coating solution Hl, pulled up at a pulling speed of 90mm / min. その後この基材Slに対して100℃で4時間加熱処理を行って基材Slの表面に塗布されたコート液を硬化させる。 Then this 100 ° C. relative to at substrate Sl performed 4 hours of heat treatment to cure the coated coating liquid on the surface of the substrate Sl. これにより、基材Slの表面に層厚2.2μmのハードコート層が形成される。 Thus, a hard coat layer having a thickness of 2.2μm is formed on the surface of the substrate Sl. このハードコート層の屈折率は1.50である。 The refractive index of the hard coat layer is 1.50.

【0091】次に、このハードコート層上に真空蒸着法を用いて多層反射防止膜を形成する。 [0091] Next, a multilayer antireflection film by vacuum deposition on the hard coat layer.

【0092】ハードコート層側から順に、SiO 2からなり、層厚が0.02μmである第1層、ZrO 2からなり、層厚が0.03μmである第2層、SiO 2からなり、層厚が0.02μmである第3層、ZrO 2からなり、層厚が0.06μmである第4層およびSiO 2 [0092] in order from the hard coat layer side and a SiO 2, the first layer thickness is 0.02 [mu] m, consists of ZrO 2, the second layer thickness is 0.03 .mu.m, made of SiO 2, a layer third layer thickness is 0.02 [mu] m, consists of ZrO 2, a fourth layer and SiO 2 layer thickness is 0.06μm
からなり、層厚が0.085μmである第5層を積層する。 Consists, laminating fifth layer thickness is 0.085 .mu.m. この5層構造の反射防止膜を反射防止膜Alとする。 The antireflection film of the five-layer structure and anti-reflection film Al.

【0093】これにより、基材上にハードコート層および反射防止膜をこの順に具えた下地を形成することができる。 [0093] Accordingly, the hard coat layer and antireflection film on the substrate can form a base which comprises in this order.

【0094】この後、下地に対してエッチング処理を行って反射防止膜の表面に凹凸を形成した後、撥水層を設ける。 [0094] Then, after forming irregularities on the surface of the antireflection film and etching treatment to and from the bottom, providing a water-repellent layer.

【0095】この例では、ウェットエッチングによって凹凸を形成する。 [0095] In this example, forming irregularities by wet etching. エッチング溶液として、10重量%の濃度のフッ酸(HF)を30℃の温度に保ち、この溶液中に下地を1秒間浸漬した。 As the etching solution, maintaining the 10% strength by weight hydrofluoric acid (HF) at a temperature of 30 ° C., the base was dipped for 1 second in the solution. これにより、反射防止膜の表面に微細な凹凸が形成される。 Accordingly, fine unevenness is formed on the surface of the antireflection film.

【0096】この後、反射防止膜上に撥水層を形成する。 [0096] Thereafter, to form the water-repellent layer on the antireflection film.

【0097】撥水層を形成するために用いる撥水剤として、この例では、C 81724 (CH 3 )Si( NH) [0097] As the water repellent agent used to form the water-repellent layer, in this example, C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) Si (NH)
2/2をメタキシレンヘキサフロライドに溶解させて5重量%となるように希釈したものを用いる。 2/2 was dissolved in metaxylene hexafluoride used after diluted to 5% by weight.

【0098】この例では真空蒸着法を用いて撥水層を形成する。 [0098] In this example a water-repellent layer is formed by a vacuum evaporation method. まず、蒸発源として、外径が18mm、高さが7mmおよび厚さが0.2mmの銅製の容器にスチールウール(#0000)を5mmの高さまで充填する。 First, as the evaporation source, an outer diameter of 18 mm, is 7mm and a thickness of height is filled with steel wool (# 0000) in copper containers 0.2mm to a height of 5 mm. この容器の中にピペットを用いて希釈した撥水剤を1.2 The water repellent agent diluted with a pipette into the vessel 1.2
ml注入する。 ml injected. 次に80℃に熱したホットプレートに上記容器を載せた後、換気を行いながら約20分加熱処理を行って溶剤(メタキシレンヘキサフロライド)を蒸発させる。 Then after placing the container on a hot plate heated to 80 ° C., it carried out about 20 minutes heated to evaporate the solvent (metaxylene hexafluoride) while ventilation. 容器内に残存する物質を撥水層形成用蒸発源として、これを真空蒸着装置のチャンバ内にある電子銃のハースライナーにセットする。 The material remaining in the container as an evaporation source for the water-repellent layer formed, is set in the hearth liner of the electron gun in it in the chamber of a vacuum deposition apparatus.

【0099】また、形成した下地を真空蒸着装置のチャンバ内の基板ホルダーにセットする。 [0099] Also, to set the formed base on a substrate holder in the chamber of a vacuum deposition apparatus.

【0100】上記チャンバ内の雰囲気圧を1×10 ー5 [0101] 1 × atmospheric pressure in the chamber 10 over 5 P
aになるまで排気した後、電子銃の条件をAMPLITUDE = After evacuated to a, AMPLITUDE the conditions of the electron gun =
10.0、およびEMISSION電流値=5mAとして3分間蒸発源を加熱する。 10.0, and heating for 3 minutes evaporation source as EMISSION current = 5 mA. これにより撥水層が形成され、実施例1のレンズが得られる。 Thus the water-repellent layer is formed, the lens is obtained in Example 1.

【0101】次に、得られたレンズの撥水性を調べる。 Next, examine the water repellency of the resulting lens.

【0102】撥水性は撥水層の表面に水滴を付着させて、この水滴と撥水層の表面との接触角(静止接触角) [0102] water repellency by adhering water droplets to the surface of the water-repellent layer, the contact angle between the water droplet and the surface of the water-repellent layer (static contact angle)
を、協和界面科学株式会社製の接触角計CZ−X150 A contact of manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. angle meter CZ-X150
を用いて測定することによって調べた。 It was determined by measuring using a.

【0103】また、サンプルのくもり消去時間を測定した。 [0103] In addition, to measure the cloudiness erase time of the sample. 以下に測定方法を説明する。 The measurement method will be described below.

【0104】波長を、500nmに設定した分光器を用いて、レンズの透過率の波長を測定しておく(測定値α [0104] The wavelength, using a spectrometer set at 500 nm, measured in advance wavelength of the transmittance of the lens (measured value α
とする。 To. )。 ). その後、このレンズを、−20℃の保管庫に10分間放置した後取り出して、すぐに温度30℃、 Thereafter, the lens is taken out after standing 10 minutes of -20 ° C. depot, immediately temperature 30 ° C.,
湿度50%の高温高湿庫に移して2秒放置させる。 Transferred to a humidity of 50% high temperature and high humidity cabinet to stand for 2 seconds. これにより、レンズの表面に結露を生じさせる。 Thus, causing dew condensation on the surface of the lens. その後、レンズの透過率を測定し始めて、この測定値が結露が生じる前に測定した透過率の値(測定値α)の±5%以内の値になるまでの時間をくもり消去時間とする。 Then, starting to measure the transmittance of the lens, this measurement is to cloudy time to a value within ± 5% erase time value of the measured transmittance (measured value alpha) before condensation occurs.

【0105】この結果、実施例1のレンズの接触角は1 [0105] As a result, the contact angle of the lens of Example 1 1
33°で、くもり消去時間は10秒間であった。 In 33 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0106】(実施例2)実施例2として、実施例1と相違する点について説明し、同様の点については詳細な説明を省略する。 [0106] omitted (Example 2) Example 2, describes different from Example 1, a detailed description of the same points.

【0107】実施例2として、実施例1と全く同様にして下地を形成した後、下地に対してウェットエッチングを行う際、実施例1と同じエッチング溶液を用いて、下地を5秒間浸漬して、反射防止膜の表面に凹凸を形成する。 [0107] As Example 2, after forming the base in the same manner as in Example 1, when performing wet etching with respect to the base, using the same etching solution as in Example 1, with the base was immersed for 5 seconds , forming irregularities on the surface of the antireflection film. その後実施例1と同じ撥水層を設けて得られるレンズを、実施例2のレンズとした。 The lens obtained then provided the same water-repellent layer as in Example 1, was of the lens in Example 2.

【0108】この実施例2のレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は130°で、くもり消去時間は11秒であった。 [0108] Also with respect to the lens the second embodiment, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 130 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0109】(実施例3)実施例3として、実施例1と同じ下地を形成した後、この下地に対してウェットエッチングを行う。 [0109] (Example 3) Example 3, after forming the same base as in Example 1, wet etching is performed with respect to this base. このとき、実施例1と同じエッチング溶液を用いて、この溶液に下地を10秒間浸漬した。 At this time, using the same etching solution as in Example 1, and the base was immersed for 10 seconds in this solution. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて得られるレンズを、 Thereafter, the lens obtained by providing the same water-repellent layer as in Example 1,
実施例3のレンズとした。 And a lens in Example 3.

【0110】この実施例3のレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は129°で、くもり消去時間は11秒であった。 [0110] Also with respect to the lens of Example 3, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 129 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0111】(実施例4)実施例4として、実施例1と同じ下地を形成した後、この下地に対して、ドライエッチングを行う。 [0111] (Example 4) Example 4, after the formation of the same base as in Example 1, with respect to the base, dry etching is performed.

【0112】この例では、高周波によるプラズマエッチングとする。 [0112] In this example, the plasma etching by high frequency. 真空装置として外部電極の誘起導電型のものを使用し、チャンバ内を真空にするための排気系は、 Using those induced conductivity type of the external electrode as a vacuum apparatus, an exhaust system for evacuating the chamber,
ロータリーポンプとターボ分子ポンプを直列に配置して構成した。 It was constructed by arranging a rotary pump and a turbo molecular pump in series. また、エッチングガスとしてCF 4を用い、 Furthermore, the CF 4 is used as etching gas,
高周波周波数を13.56MHzとしRF出力を100 100 the RF output to the RF frequency and 13.56MHz
0Wとした。 It was 0W. また、チャンバ内の雰囲気圧が1×10 ー5 The atmosphere pressure in the chamber 1 × 10 -5
Paになるまで排気した後、エッチングガス(CF 3 After evacuating to a Pa, an etching gas (CF 3)
を100SCCM導入して真空度を1×10 ー2 Paに保持してエッチング処理を行う。 The hold the degree of vacuum 1 × 10 over 2 Pa by introducing 100SCCM etching is performed.

【0113】この例では、エッチング処理時間を1秒間とした。 [0113] In this example, the etch time is 1 second. これにより、反射防止膜の表面に凹凸が形成される。 Thus, unevenness is formed on the surface of the antireflection film. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例4のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 4.

【0114】この実施例4のレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は129°で、くもり消去時間は11秒であった。 [0114] Also with respect to the lens of Example 4, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 129 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0115】(実施例5)実施例5として、実施例1と同じ下地を形成した後、この下地に対してドライエッチングを行う。 [0115] (Example 5) Example 5, after forming the same base as in Example 1, dry etching is performed with respect to this base. このとき、エッチング処理時間以外の条件を、実施例4と同様の条件でエッチングを行う。 At this time, the conditions other than the etching time, etching is performed under the same conditions as in Example 4. 実施例5においては、エッチング処理時間を5秒間とした。 In Example 5, was an etching treatment time to 5 seconds. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例5のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 5.

【0116】この実施例5のレンズに対しても、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は132°で、くもり消去時間は10秒間であった。 [0116] Also with respect to the lens of Example 5, Example 1 Results of measurement of the contact angle and cloudy erase time in the same manner as the contact angle at 132 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0117】(実施例6)実施例6として、実施例1と同じ下地を形成し、この下地に対して実施例4と同じドライエッチングを行う。 [0117] (Example 6) Example 6, to form the same base as in Example 1, the same dry etching as in Example 4 with respect to the base. このとき、この例では、エッチング処理時間を10秒間とした。 At this time, in this example, the etching time was 10 seconds. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例6のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 6.

【0118】このレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は135°で、くもり消去時間は9秒であった。 [0118] Also with respect to the lens, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 135 °, cloudy erasing time was 9 seconds.

【0119】(実施例7)実施例7として、実施例1と同じ下地を形成し、この下地に対して実施例1と同様のウェットエッチングを行う。 [0119] (Example 7) Example 7, to form the same base as in Example 1, the same wet etching as in Example 1 with respect to the base. このとき、エッチング溶液に浸漬する時間も実施例1と同じ1秒間とする。 At this time, the time of immersion in the etching solution also the same 1 second as in Example 1. その後、この例では、撥水層の材料である、撥水剤として、 Then, in this example, is a material of the water-repellent layer, a water repellent,
81736 (CH 3 )Si( NH) 2/2を、メタキシレンヘキサフロライドに溶解させて5重量%となるように希釈したものを用いる。 The C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) Si (NH) 2/2, used after diluted to 5 wt% was dissolved in metaxylene hexafluoride. そして、真空蒸着法を用いて、 Then, using a vacuum deposition method,
実施例1と同じ条件で下地上に撥水層を形成する。 Forming a water-repellent layer to the substrate on the same conditions as in Example 1. これによって得られるレンズを実施例7のレンズとする。 The lens obtained by this a lens of Example 7.

【0120】実施例7のレンズに対して、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定する。 [0120] with respect to the lens of Example 7, to measure contact angles and cloudy erase time in the same manner as in Example 1. その結果、接触角は130°で、くもり消去時間は10秒間であった。 As a result, the contact angle is 130 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0121】(実施例8)実施例8として、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例1と同じエッチング溶液を用いてこの溶液に下地を5秒間浸漬した。 [0121] (Example 8) Example 8, after forming the base in the same manner as in Example 1, and the base was dipped for 5 seconds into the solution using the same etching solution as in Example 1 with respect to the underlying . その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7,
得られるレンズを実施例8のレンズとする。 Resulting lens and the lens of Example 8.

【0122】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は12 [0122] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 12
8°で、くもり消去時間は11秒であった。 In 8 °, cloudy erase time was 11 seconds.

【0123】(実施例9)実施例9として、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地に対して、実施例1と同じエッチング溶液を用いて、この溶液に下地を10秒間浸漬した。 [0123] (Example 9) Example 9, after forming the base in the same manner as in Example 1, with respect to this base, using the same etching solution as in Example 1, 10 seconds underlying the solution soaked. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例9のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 9.

【0124】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は12 [0124] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 12
8°で、くもり消去時間は11秒であった。 In 8 °, cloudy erase time was 11 seconds.

【0125】(実施例10)実施例10として、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地に対して、 [0125] (Example 10) Example 10, after forming the base in the same manner as in Example 1, with respect to the base,
実施例4と同様のドライエッチングを行う。 It performs the same dry etching as in Example 4. エッチング処理時間は1秒間とする。 Etching time is 1 second. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例10のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 10.

【0126】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は13 [0126] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 13
0°で、くもり消去時間は10秒であった。 At 0 °, cloudy erase time was 10 seconds.

【0127】(実施例11)実施例11として、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例4と同様のドライエッチングを行う。 [0127] (Example 11) Example 11, after forming the base in the same manner as in Example 1, the same dry etching as in Example 4 with respect to the base. このとき、エッチング処理時間は5秒間とする。 The etching treatment time is 5 seconds. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例11のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 11.

【0128】このレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は1 [0128] The results for this lens was measured in the same manner contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle 1
33°で、くもり消去時間は9秒であった。 At 33 °, cloudy erase time was 9 seconds.

【0129】(実施例12)実施例12として、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例4と同様のドライエッチングを行う。 [0129] (Example 12) Example 12, after forming the base in the same manner as in Example 1, the same dry etching as in Example 4 with respect to the base. このとき、エッチング処理時間は10秒間とする。 The etching treatment time is 10 seconds. その後、実施例7 Then, Example 7
と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例12のレンズとする。 The same water-repellent layer is provided, to obtain lenses with lens of Example 12.

【0130】このレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は1 [0130] The results for this lens was measured in the same manner contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle 1
33°で、くもり消去時間は10秒であった。 At 33 °, cloudy erase time was 10 seconds.

【0131】(比較例1)比較例として、エッチング処理を行わずに、下地上に直接撥水層を設けてレンズを形成する。 [0131] (Comparative Example 1) Comparative Example, without etching process, to form the lens by providing a direct water-repellent layer on the base.

【0132】比較例1では、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地上に実施例1で用いた撥水剤を含む撥水層を、実施例1と同様に真空蒸着法を用いて形成する。 [0132] In Comparative Example 1, after forming the base in the same manner as in Example 1, the water-repellent layer comprising a water-repellent agent used in Example 1 on the ground, a vacuum deposition method in the same manner as in Example 1 It is formed by using a.

【0133】これによって得られるレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は109°であり、くもり消去時間は20 [0133] On the contrary the resulting lens and the measurement results of the same contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle was 109 °, cloudy erase time is 20
秒であった。 It was second.

【0134】(比較例2)比較例2では、実施例1と同様にして下地を形成した後、この下地上に実施例7で用いた撥水剤を含む撥水層を、実施例1と同様に真空蒸着法を用いて形成する。 [0134] (Comparative Example 2) Comparative Example 2, after forming the base in the same manner as in Example 1, the water-repellent layer comprising a water-repellent agent used in Example 7 on the base, as in Example 1 It is formed by a vacuum deposition method in the same manner.

【0135】これによって得られるレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は108°であり、くもり消去時間は19 [0135] On the contrary the resulting lens and the measurement results of the same contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle was 108 °, cloudy erase time is 19
秒であった。 It was second.

【0136】(実施例13)実施例13においては、実施例1〜12で用いた下地とは、異なる下地を用意する。 [0136] (Example 13) Example 13 The base used in Examples 1-12, to prepare different base. 上述した実施例では、屈折率が1.50のプラスチック基材を用いたが、ここでは、屈折率が1.67の臭素化ビスフェノールAのウレタン変成ジメタクリレートの共重合物を主成分とする直径80mmの市販の凹レンズを用いる。 In the embodiment described above, the refractive index using a plastic substrate of 1.50, where the refractive index is mainly composed of a copolymer of urethane-modified dimethacrylate brominated bisphenol A 1.67 diameter using a commercially available concave lens of 80mm. これを基材Shとする。 This is referred to as the base material Sh.

【0137】次に、ハードコート層の形成に用いるコート液を調整する。 [0137] Next, to adjust the coating solution used for forming the hard coat layer.

【0138】ガラス容器に上記の予備組成物Bを100 [0138] in a glass container of the above preliminary composition B 100
重量部、TiO 2ゾル(固形分30重量%、平均粒子径30nm)を220重量部およびシリコーン系界面活性剤0.55重量部を加えて、十分撹拌および混合する。 Parts, TiO 2 sol (solid content 30 wt%, average particle diameter 30 nm) was added to 0.55 parts by weight 220 parts by weight of silicone surfactant, sufficiently stirred and mixed.
これによりコート液Hhを調整する。 This allows to adjust the coating liquid Hh.

【0139】上述の実施例(実施例1から12)で用いられた下地と同様の操作でこの下地を形成する。 [0139] To form the base in the above embodiment the same operation as the base used in (Example 1 to 12). 基材S The substrate S
hを60℃で、10重量%の濃度のNaOH水溶液に3 h at 60 ° C., 3 to NaOH aqueous 10% strength by weight
分間浸漬した後水洗いをして乾燥させる。 And the washing and drying after soaking minutes.

【0140】次に、この基材Shをコート液Hhに浸した後、引き上げ速度90mm/minで引き上げる。 [0140] Then, after dipping the base material Sh in the coating liquid Hh, pulled up at a pulling speed of 90mm / min. その後100℃で4時間加熱処理を行って、基材Shの表面に塗布されたコート液Hhを硬化させる。 Thereafter for 4 hours heat treatment at 100 ° C., to cure the coating liquid Hh applied to the surface of the substrate Sh. これにより、基材Slの表面に層厚約2.2μmのハードコート層が形成される。 Thus, a hard coat layer having a thickness of about 2.2μm on the surface of the substrate Sl is formed. このハードコート層の屈折率は1.6 The refractive index of the hard coat layer is 1.6
7である。 It is 7.

【0141】次に、このハードコート層上に真空蒸着法を用いて多層反射防止膜を形成する。 [0141] Next, a multilayer antireflection film by vacuum deposition on the hard coat layer.

【0142】ハードコート層側から順に、SiO 2からなり、層厚が0.025μmである第1層、TiO 2からなり、層厚が0.15μmである第2層、SiO 2からなり、層厚が0.35μmである第3層、TiO 2からなり、層厚が0.11μmである第4層およびSiO [0142] in order from the hard coat layer side and a SiO 2, the first layer thickness is 0.025 .mu.m, consists TiO 2, the second layer thickness is 0.15 [mu] m, consists of SiO 2, a layer third layer thickness is 0.35 .mu.m, consists TiO 2, a fourth layer and SiO layer thickness is 0.11μm
2からなり、層厚が0.085μmである第5層を積層する。 Consists of two, stacked fifth layer thickness is 0.085 .mu.m. この5層構造の反射防止膜を反射防止膜Ahとする。 The antireflection film of the five-layer structure and anti-reflection film Ah.

【0143】これにより、上述した実施例で用いた下地とは異なる下地を形成することができる。 [0143] Thus, it is possible to form a different underlying the base used in the above embodiments. この下地も、 The foundation also,
基材上にハードコート層および反射防止膜をこの順に具えている。 The hard coat layer and antireflection film on a substrate which comprises in this order.

【0144】この後、この下地に対して、エッチング処理を行って反射防止膜の表面に凹凸を形成するが、ここでは、実施例1と同様のウェットエッチングを行う。 [0144] Thereafter, with respect to the base, but forming irregularities on the surface of the antireflection film and etching treatment, here, the same wet etching as in Example 1. エッチング溶液は実施例1と同じものを用い、下地をこの溶液へ1秒間浸漬した。 The etching solution using the same as in Example 1, was immersed for one second base to the solution. これにより、反射防止膜の表面には微細な凹凸が形成される。 Thus, the surface of the antireflection film fine unevenness is formed.

【0145】この後、実施例1と同じ撥水層を反射防止膜上に形成して、実施例13のレンズが得られる。 [0145] Thereafter, to form the same water-repellent layer as in Example 1 on the antireflection film, lens of Example 13 is obtained.

【0146】このレンズに対して、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は134°で、くもり消去時間は11秒であった。 [0146] For this lens, Example 1 Results of measurement of the contact angle and cloudy erase time in the same manner as the contact angle at 134 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0147】(実施例14)実施例14として、実施例13と同じ下地を形成した後、この下地に対してウェットエッチングを行う。 [0147] (Example 14) Example 14, after forming the same base as in Example 13, wet etching is performed with respect to this base. このとき、実施例1と同じエッチング溶液を用いて、この溶液に下地を5秒間浸漬した。 At this time, using the same etching solution as in Example 1, and the base was immersed for 5 seconds in this solution.
その後、実施例1と同じ撥水層を設けて得られるレンズを、実施例14のレンズとした。 Thereafter, the lens obtained by providing the same water-repellent layer as in Example 1, was a lens of Example 14.

【0148】この実施例14のレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は132°で、くもり消去時間は11 [0148] Also with respect to the lens of the Example 14, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 132 °, cloudy erase time is 11
秒であった。 It was second.

【0149】(実施例15)実施例15として、実施例13と同じ下地を形成した後、この下地に対してウェットエッチングを行う。 [0149] (Example 15) Example 15, after forming the same base as in Example 13, wet etching is performed with respect to this base. このとき、実施例1と同じエッチング溶液を用いて、この溶液に下地を10秒間浸漬した。 At this time, using the same etching solution as in Example 1, and the base was immersed for 10 seconds in this solution. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて得られるレンズを、実施例15のレンズとした。 Thereafter, the lens obtained by providing the same water-repellent layer as in Example 1, was a lens of Example 15.

【0150】この実施例15のレンズに対しても、実施例1と同様にして、接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は133°で、くもり消去時間は11 [0150] Also with respect to the lens of the Example 15, in the same manner as in Example 1, the contact angle and the results of measuring the haze erase time, the contact angle is 133 °, cloudy erase time is 11
秒であった。 It was second.

【0151】(実施例16)実施例16として、実施例13と同じ下地を形成した後、この下地に対してドライエッチングを行う。 [0151] (Example 16) Example 16, after forming the same base as in Example 13, dry etching is performed with respect to this base. このとき、実施例4と同様にしてエッチングを行う。 At this time, etching is performed in the same manner as in Example 4. 実施例16においては、エッチング処理時間を1秒間とした。 In Example 16, it was the etch time is 1 second. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例16のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 16.

【0152】この実施例16のレンズに対しても、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は130°で、くもり消去時間は10秒間であった。 [0152] Also with respect to the lens of this Example 16, Example 1 Results of measurement of the contact angle and cloudy erase time in the same manner as the contact angle at 130 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0153】(実施例17)実施例17として、実施例13と同じ下地を形成した後、この下地に対してドライエッチングを行う。 [0153] (Example 17) Example 17, after forming the same base as in Example 13, dry etching is performed with respect to this base. このとき、実施例4と同様にしてエッチングを行う。 At this time, etching is performed in the same manner as in Example 4. 実施例17においては、エッチング処理時間を5秒間とした。 In Example 17, it was the etch time is 5 seconds. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例17のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 17.

【0154】この実施例17のレンズに対しても、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は133°で、くもり消去時間は10秒間であった。 [0154] Also with respect to the lens of this Example 17, Example 1 Results of measurement of the contact angle and cloudy erase time in the same manner as the contact angle at 133 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0155】(実施例18)実施例18として、実施例13と同じ下地を形成した後、この下地に対してドライエッチングを行う。 [0155] (Example 18) Example 18, after forming the same base as in Example 13, dry etching is performed with respect to this base. このとき、実施例4と同様にしてエッチングを行う。 At this time, etching is performed in the same manner as in Example 4. 実施例18においては、エッチング処理時間を10秒間とした。 In Example 18, and the etching time was 10 seconds. その後、実施例1と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例18のレンズとした。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 1, the resulting lens was a lens of Example 18.

【0156】この実施例18のレンズに対しても、実施例1と同様にして接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は134°で、くもり消去時間は10秒間であった。 [0156] Also with respect to the lens of this Example 18, Example 1 Results of measurement of the contact angle and cloudy erase time in the same manner as the contact angle at 134 °, cloudy erasing time was 10 seconds.

【0157】(実施例19)実施例19として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例1と同じエッチング溶液を用いてこの溶液に下地を1秒間浸漬した。 [0157] (Example 19) Example 19, after forming the base in the same manner as in Example 13, the base was dipped for 1 second in this solution with the same etching solution as in Example 1 with respect to the underlying . その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例19のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 19.

【0158】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は13 [0158] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 13
0°で、くもり消去時間は10秒であった。 At 0 °, cloudy erase time was 10 seconds.

【0159】(実施例20)実施例20として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例1と同じエッチング溶液を用いてこの溶液に下地を5秒間浸漬した。 [0159] (Example 20) Example 20, after forming the base in the same manner as in Example 13, and the base was dipped for 5 seconds into the solution using the same etching solution as in Example 1 with respect to the underlying . その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例20のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 20.

【0160】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は12 [0160] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 12
9°で、くもり消去時間は11秒であった。 In 9 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0161】(実施例21)実施例21として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して実施例1と同じエッチング溶液を用いてこの溶液に下地を10秒間浸漬した。 [0161] (Example 21) Example 21, after forming the base in the same manner as in Example 13, and the base was immersed for 10 seconds in this solution with the same etching solution as in Example 1 with respect to the underlying . その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例21のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 21.

【0162】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は12 [0162] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 12
9°で、くもり消去時間は11秒であった。 In 9 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0163】(実施例22)実施例22として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して、実施例4と同様のドライエッチングを行う。 [0163] (Example 22) Example 22, after forming the base in the same manner as in Example 13, with respect to the base, the same dry etching as in Example 4. エッチング処理時間は1秒間とする。 Etching time is 1 second. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例22のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 22.

【0164】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は13 [0164] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 13
1°で、くもり消去時間は10秒であった。 In 1 °, cloudy erase time was 10 seconds.

【0165】(実施例23)実施例23として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して、実施例4と同様のドライエッチングを行う。 [0165] (Example 23) Example 23, after forming the base in the same manner as in Example 13, with respect to the base, the same dry etching as in Example 4. エッチング処理時間は5秒間とする。 Etching time is 5 seconds. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例23のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 23.

【0166】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は13 [0166] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 13
3°で、くもり消去時間は9秒であった。 At 3 °, cloudy erase time was 9 seconds.

【0167】(実施例24)実施例24として、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地に対して、実施例4と同様のドライエッチングを行う。 [0167] (Example 24) Example 24, after forming the base in the same manner as in Example 13, with respect to the base, the same dry etching as in Example 4. エッチング処理時間は10秒間とする。 Etching time is 10 seconds. その後、実施例7と同じ撥水層を設けて、得られるレンズを実施例24のレンズとする。 Then, by providing the same water-repellent layer as in Example 7, the resulting lens is the lens of Example 24.

【0168】このレンズに対して実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は13 [0168] Results of measuring the same contact angle and haze erase time as in Example 1 with respect to the lens, the contact angle is 13
3°で、くもり消去時間は11秒であった。 In 3 °, cloudy erasing time was 11 seconds.

【0169】(比較例3)比較例として、エッチング処理を行わずに、実施例13から24で用いられた下地上に直接撥水層を設けてレンズを形成する。 [0169] (Comparative Example 3) Comparative Example, without etching process, to form the lens by providing a direct water-repellent layer on the base used in 24 Examples 13.

【0170】比較例1では、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地上に実施例1で用いた撥水剤を含む撥水層を、実施例1と同様に真空蒸着法を用いて形成する。 [0170] In Comparative Example 1, after forming the base in the same manner as in Example 13, the water-repellent layer comprising a water-repellent agent used in Example 1 on the ground, a vacuum deposition method in the same manner as in Example 1 It is formed by using a.

【0171】これによって得られるレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は110°であり、くもり消去時間は18 [0171] On the contrary the resulting lens and the measurement results of the same contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle was 110 °, cloudy erase time is 18
秒であった。 It was second.

【0172】(比較例4)比較例4では、実施例13と同様にして下地を形成した後、この下地上に実施例7で用いた撥水剤を含む撥水層を、実施例1と同様に真空蒸着法を用いて形成する。 [0172] (Comparative Example 4) Comparative Example 4, after forming the base in the same manner as in Example 13, the water-repellent layer comprising a water-repellent agent used in Example 7 on the base, as in Example 1 It is formed by a vacuum deposition method in the same manner.

【0173】これによって得られるレンズに対して、実施例1と同様に接触角およびくもり消去時間を測定した結果、接触角は108°であり、くもり消去時間は21 [0173] On the contrary the resulting lens and the measurement results of the same contact angle and haze erase time as in Example 1, the contact angle was 108 °, cloudy erase time is 21
秒であった。 It was second.

【0174】上記で説明した実施例(1〜12)および比較例(X1,X2)の、撥水性およびくもり消去時間の測定結果を表1に示す。 [0174] shown in Example (1-12) and comparative examples described in the above (X1, X2), the measurement results of the water repellency and cloudy erasure time in Table 1.

【0175】また、表2に、実施例(13〜24)および比較例(X3,X4)の撥水性およびくもり消去時間の測定結果を示す。 [0175] Further, Table 2 shows the measurement results of Example (13-24) and Comparative Example (X3, X4) water repellency and cloudy erase time.

【0176】各表には、実施例1で得られた透明部材(光学部材である眼鏡用プラスチックレンズ)をサンプル番号1として示し、実施例2で得られた透明部材をサンプル番号2、順次実施例と同じ番号で示している。 [0176] Each table obtained in Example 1 was transparent member (plastic spectacle an optical member lenses) shown as sample number 1, Example Sample No. 2 the resulting transparent member 2 are sequentially performed It is denoted by the same number as the example. また、比較例1〜4は、それぞれサンプル番号X1〜X4 In Comparative Example 1-4, each respective sample number X1~X4
で示している。 It is indicated by.

【0177】また、下地を構成する基材およびハードコート層、反射防止膜は、それぞれ上述した説明内で付与した番号または文字によって示してある。 [0177] Further, the substrate and the hard coat layer constituting the base, an antireflection film is shown by the number or characters assigned in a description in each above. また、撥水層は撥水剤としてC 81724 (CH 3 )Si( NH) 2/2 Also, C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3) water-repellent layer as a water repellent Si (NH) 2/2
を含んでいるものを撥水層(I )とし、表にはI と示してある。 Those involving a water-repellent layer (I), the table is shown as I. また、撥水剤としてC 81736 (CH 3 )S Also, C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) as a water repellent S
i( NH) 2/2を含んでいるものを撥水層(II)とし、表にはIIと示してある。 those involving i (NH) 2/2 and a water-repellent layer (II), the table is indicated with II. また、エッチング処理については、ウェットエッチングで処理しているものはW、ドライエッチングで処理しているものはDとして示している。 As for the etching process, those being processed by wet etching W, is what is processed by dry etching is shown as D.

【0178】 [0178]

【表1】 [Table 1]

【0179】 [0179]

【表2】 [Table 2]

【0180】この結果、エッチング処理を行わないで製造した比較例のレンズと、エッチング処理を行った実施例1〜24のレンズとを比較すると、実施例のレンズで得られる接触角は比較例のレンズで得られる接触角よりも約20°位大きくすることができる。 [0180] As a result, the lens of the comparative example was produced without performing the etching process, is compared with the lens of Examples 1 to 24 subjected to etching treatment, the contact angle of the comparative example obtained in Example of the lens it can be increased to about 20 ° position than the contact angle obtained by the lens. また、従来のレンズに設けられていた撥水膜では得られなかった、12 Also, it was not obtained with the water-repellent film provided on a conventional lens, 12
0°以上の接触角が得られる。 0 ° or more contact angle is obtained. これにより、レンズの撥水性をより向上させることができる。 Thus, it is possible to further improve the water repellency of the lens. ここで、図1を参照する。 Reference is now made to Figure 1. 図1(A)は、比較例で得られたレンズの表面とこの表面に付着する水滴との接触角を示すイメージ図である。 1 (A) is an image view showing a contact angle with water drops attached to the surface and the surface of the obtained lens in Comparative Example. また、図1(B)は、この発明の実施例で得られたレンズの表面とこの表面に付着する水滴との接触角を示すイメージ図である。 Further, FIG. 1 (B) is an image diagram showing a contact angle with water droplets adhering to the surface of the lens obtained in Example of the present invention on the surface. また、図1(C)は、図1 Further, FIG. 1 (C) 1
(B)の概略的な部分拡大図である。 It is a schematic partial enlarged view of (B). 図1(C)に示すように、エッチング処理により下地11の表面には凹凸13が形成され、この凹凸13の上に単分子膜の撥水膜15を形成しているので、撥水膜15の表面にも凹凸が形成されている。 As shown in FIG. 1 (C), by etching the surface of the base 11 irregularities 13 are formed, so to form a water-repellent film 15 of the monomolecular film on the irregularities 13, water-repellent film 15 irregularities in the surface of the are formed. このため、この撥水膜の表面15aに水滴17が付着すると、撥水膜の表面15aと水滴17 Therefore, when water droplets 17 adhere to the surface 15a of the water-repellent film, the surface 15a of the water-repellent film and the water drop 17
との接触する面積が小さくなって、水滴17と大気との接触面積が大きくなる。 The contact area is decreased and the contact area between the water droplet 17 and the atmosphere is increased. したがって、水滴17は表面張力によって、より球状となる。 Therefore, water droplets 17 by the surface tension becomes more spherical. よって図1(B)に示すように接触角θが大きくなる。 Thus the contact angle as shown in FIG. 1 (B) theta increases. また、比較例においては、エッチング処理を行っていないためレンズの表面1 In Comparative Example, the surface 1 of the lens because it is not subjected to etching treatment
00と水滴17とが接触する面積は、実施例よりもずっと大きいため、その接触角θ xは図1(A)に示しているように実施例で得られる接触角θよりも小さくなる。 Area 00 and the water droplets 17 are in contact, because much greater than in Examples, the contact angle theta x is smaller than the contact angle theta obtained in Example As shown in FIG. 1 (A).

【0181】また、くもり消去時間に関しても、実施例のレンズのくもり消去時間は、比較例のレンズの時間のおよそ半分に短縮することができる。 [0181] Also, with regard cloudy erase time, the cloudy erase time of the lens embodiments can be shortened to approximately half the time of a comparative example of the lens.

【0182】また、図2(A)に、青板ガラスに真空蒸着によりSiO 2膜を成膜し、エッチング(約1秒間) [0182] Further, in FIG. 2 (A), a SiO 2 film by vacuum deposition on blue plate glass, etching (about 1 second)
によりSiO 2膜の表面に凹凸を形成した本発明に係わる透明部材表面のUHR−SEM像と、図2(B)に、 And UHR-SEM image of the transparent member surface according to the present invention in which irregularities are formed on the surface of the SiO 2 film by, in FIG. 2 (B),
エッチング処理を行っていないSiO 2膜表面を有するレンズの表面のUHR−SEM像とを示す。 Showing the UHR-SEM image of the surface of the lens having a SiO 2 film surface not subjected to etching treatment. なお、ここでは、透明部材上に形成する反射防止膜の最上層としてSiO 2が一般的に用いられる材料であることから、凹凸を形成する対象として、SiO 2を選択した。 Here, since the SiO 2 is a material commonly used as a top layer of the antireflection film formed on the transparent member, as a target for forming irregularities were selected SiO 2. 図2 Figure 2
(A)および(B)は、50000倍に拡大したSEM (A) and (B), enlarged 50,000 times SEM
写真である。 Is a photograph. 図2(A)と(B)とを比較して明らかなように、エッチング(この場合はウェットエッチング) Figure 2 (A) (B) and compared to clear the etching (in this case, wet etching)
を1秒間行うことによって、基材上に備えた皮膜の表面に微細な凹凸を形成することができる。 The by performing 1 second, it is possible to form fine irregularities on the surface of a film provided on a substrate.

【0183】 [0183]

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、この発明による透明部材は、表面に凹凸が形成されている透明部材であって、この凹凸は、透明部材の光学的特性を失わせず、かつ表面とこの表面に付着する水滴との静止接触角が、凹凸が形成されていない面とその面(凹凸が形成されていない面)に付着する水滴との接触角よりも大きくなる。 [Effect of the Invention] As apparent from the above description, the transparent member according to this invention is a transparent member that uneven surface is formed, the unevenness, without losing the optical properties of the transparent member and static contact angle with water drops attached to the surface and the surface is greater than the contact angle of the surface irregularities are not formed and the water droplets adhering to the surface (surface on which irregularities are not formed).

【0184】この凹凸は、接触角の測定には何ら影響を与えない程微細な凹凸であるために、接触角を測定するときにはこの表面は通常の平坦な面として測定される。 [0184] The irregularities, in order to measure the contact angle is a fine roughness as no effect, this surface is measured as a normal flat surface when measuring the contact angle.
従って、透明部材の光学特性を劣化させることなく撥水性が向上したものである。 Accordingly, those water repellency is improved without deteriorating the optical characteristic of the transparent member. 更に、本発明の透明部材は、 Further, the transparent member of the present invention,
従来の撥水膜付の透明部材に比べてくもり消去時間が短いものである。 Cloudy erase time as compared with the transparent member of the conventional with the water-repellent film is short. よって、本発明の透明部材は、撥水性と防曇性が兼ね備えられたような特性を有する部材であるために、湿潤な環境下における使用に適した透明部材となる。 Thus, the transparent member of the present invention, since a member having such characteristics as water repellency and anti-fogging properties were both, the transparent member suitable for use in humid environments. 特に本発明の透明部材を眼鏡レンズとすれば、様々な環境下での使用に耐え得るレンズが製造できる。 Particularly if a transparent member of the present invention the spectacle lens, the lens can be produced which can withstand use under various environments.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】(A)は、比較例のレンズの表面とこの表面に付着する水滴との接触角を示すイメージ図であり、 1 (A) is an image view showing a contact angle with water droplets adhering to the surface and the surface of the lens of the comparative example,
(B)は、実施例のレンズの表面とこの表面に付着する水滴との接触角を示すイメージ図であり、(C)は、図1(B)の部分的な拡大図である。 (B) is an image view showing a contact angle with water droplets adhering to the surface and the surface of the lens in Example, (C) is a partial enlarged view of FIG. 1 (B).

【図2】(A)は、本発明に係わるレンズの表面をSE Figure 2 (A) is a surface of a lens according to the present invention SE
M写真で表した図面であり、(B)は、従来のレンズの表面をSEM写真で表した図面である。 A drawing expressed in M ​​photographs, (B) is a diagram illustrating a surface of a conventional lens in SEM photograph.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

11:下地 13:凹凸 15:撥水膜 15a:表面 17:水滴 100:レンズの表面 11: base 13: irregularities 15: water-repellent film 15a: surface 17: a water droplet 100: surface of the lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 6識別記号 FI G02B 1/04 G02B 1/04 1/10 1/12 1/11 7/02 1/12 1/10 Z 7/02 A ────────────────────────────────────────────────── ─── front page continued (51) Int.Cl. 6 identifications FI G02B 1/04 G02B 1/04 1/10 1/12 1/11 7/02 1/12 1/10 Z 7/02 a

Claims (4)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 基材または該基材上に皮膜を備えた基材からなる透明部材において、 前記基材または前記皮膜の表面に、水との静止接触角を増大させ、かつ部材の光学特性を実質的に変化させない微細な凹凸を有することを特徴とする透明部材。 1. A transparent member comprising a substrate or substrate having a coating on the substrate, the substrate or the surface of the coating increases the static contact angle with water, and the optical properties of the member transparent member characterized by having a fine irregularities does not substantially change the.
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の透明部材において、 前記凹凸の底部から頂部までの寸法が10nm以上60 In the transparent member as set forth in claim 1, the dimension from the bottom of the concave-convex to the top is 10nm or more 60
    nm以下の範囲であることを特徴とする透明部材。 Transparent member, characterized in that nm is in the range of less.
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の透明部材において、 前記凹凸のうち、凹部は単位面積1μm 2当たり、約1 In the transparent member as set forth in claim 1, further comprising: among the irregularities, the recess unit area 1 [mu] m 2 per about 1
    00から約150個形成されていることを特徴とする透明部材。 Transparent member, characterized in that from 00 is about 150 forming.
  4. 【請求項4】 水との静止接触角が115°以上であり、くもり消去時間が15秒以内である表面を有する透明部材。 Wherein is the static contact angle with water of 115 ° or more, a transparent member having a surface haze erase time is within 15 seconds.
JP10128780A 1998-05-12 1998-05-12 Transparent member Pending JPH11320743A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10128780A JPH11320743A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Transparent member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10128780A JPH11320743A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Transparent member

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11320743A true JPH11320743A (en) 1999-11-24

Family

ID=14993287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10128780A Pending JPH11320743A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Transparent member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11320743A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003200951B2 (en) * 2002-03-18 2005-04-07 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
JP2006350208A (en) * 2005-06-20 2006-12-28 Seiko Epson Corp Optical article and its manufacturing method
AU2005200563B2 (en) * 2002-03-18 2007-07-26 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
DE102008002193A1 (en) 2007-08-29 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optical element i.e. plane-convex lens, for use in projection exposure system for immersion lithography, has water-repellent surface formed in element body, where surface is formed by micro structuring uncoated regions of element body
JP2010188584A (en) * 2009-02-17 2010-09-02 Nissan Motor Co Ltd Frictional flaw resistant water repellent configuration and frictional flaw resistant water repellent structure
JP2010251745A (en) * 2009-04-10 2010-11-04 Asml Netherlands Bv Immersion lithography device and device manufacturing method
JP2012185348A (en) * 2011-03-07 2012-09-27 Seiko Epson Corp Lens and manufacturing method therefor
JP2014228728A (en) * 2013-05-23 2014-12-08 日揮触媒化成株式会社 Base material with antireflection film, and method for producing the same
DE102016203714A1 (en) 2016-03-08 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical arrangement for lithography, in particular projection exposure apparatus

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003200951B2 (en) * 2002-03-18 2005-04-07 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
US6939613B2 (en) 2002-03-18 2005-09-06 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
AU2005200563B2 (en) * 2002-03-18 2007-07-26 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
JP2006350208A (en) * 2005-06-20 2006-12-28 Seiko Epson Corp Optical article and its manufacturing method
DE102008002193A1 (en) 2007-08-29 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optical element i.e. plane-convex lens, for use in projection exposure system for immersion lithography, has water-repellent surface formed in element body, where surface is formed by micro structuring uncoated regions of element body
JP2010188584A (en) * 2009-02-17 2010-09-02 Nissan Motor Co Ltd Frictional flaw resistant water repellent configuration and frictional flaw resistant water repellent structure
JP2010251745A (en) * 2009-04-10 2010-11-04 Asml Netherlands Bv Immersion lithography device and device manufacturing method
US8993220B2 (en) 2009-04-10 2015-03-31 Asml Netherlands B.V. Immersion lithographic apparatus and a device manufacturing method
JP2012185348A (en) * 2011-03-07 2012-09-27 Seiko Epson Corp Lens and manufacturing method therefor
JP2014228728A (en) * 2013-05-23 2014-12-08 日揮触媒化成株式会社 Base material with antireflection film, and method for producing the same
DE102016203714A1 (en) 2016-03-08 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical arrangement for lithography, in particular projection exposure apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2010338060B2 (en) Optical article comprising a temporary anti-fogging coating with improved durability
US4137365A (en) Oxygen post-treatment of plastic surfaces coated with plasma polymerized silicon-containing monomers
US5744243A (en) Coating composition and articles prepared therewith
JP4520418B2 (en) Optical transparent member and optical system using the same
US5922787A (en) Composition for forming antifouling antifouling film, optical component, and display device
JP5558414B2 (en) Method for manufacturing antireflection laminate
AU704597B2 (en) Electrically conductive anti-reflection coating
US7196212B2 (en) Perfluoropolyether-modified silane, surface treating agent, and antireflection filter
JP5064649B2 (en) Anti-reflection laminate
US20070141114A1 (en) Article coated with an ultra high hydrophobic film and process for obtaining same
EP0166363B1 (en) Low reflectance transparent material having antisoiling properties
US5858526A (en) Composite material with a high refractive index, process for producing said composite material and optically active material incorporating said composite material
US6815056B2 (en) Antireflection film
DE69922064T2 (en) Anti-fogging agent, process for producing an anti-smear layer, optical component with anti-reflection properties and display device
EP1051448B1 (en) Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation
EP0525215B1 (en) Hard coating film and optical elements having such coating film
EP0278060B1 (en) Anti-reflection optical article and process of producing the same
US20050123771A1 (en) Abrasion resistant coating compositions based on silane hydrolysates and aluminium compounds and corresponding abrasion and shock resistant coated articles
US7217440B2 (en) Process for replacing an initial outermost coating layer of a coated optical lens with a different coating layer or by depositing thereon a different coating layer
KR100505914B1 (en) Antireflective articles comprising antisoiling coatings and methods of applying antisoiling coatings to substrates having antireflective surfaces
JP2005003817A (en) Antifouling spectacle lens and its manufacturing method
EP2033019B1 (en) Optical article having a temperature-resistant anti-reflection coating with optimized thickness ratio of low index and high index layers
JP4201603B2 (en) Method for producing glass suitable for trimming, glass obtained thereby, and method for trimming the glass
EP1726974B1 (en) Plastic lens and method of manufacturing a plastic lens
US10222511B2 (en) Optical article comprising a double-layer abrasion and scratch resistant coating and method for production thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050422

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050428

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070719

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070807

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071211