JP6335463B2 - 放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 - Google Patents
放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6335463B2 JP6335463B2 JP2013201894A JP2013201894A JP6335463B2 JP 6335463 B2 JP6335463 B2 JP 6335463B2 JP 2013201894 A JP2013201894 A JP 2013201894A JP 2013201894 A JP2013201894 A JP 2013201894A JP 6335463 B2 JP6335463 B2 JP 6335463B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radioactive cesium
- optical basicity
- optical
- added
- chlorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Description
但し、γi=1.36(χi−0.26)
ここに、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度である。
図1には、本発明による放射性セシウム分離濃縮装置が示されている。放射性セシウム分離濃縮装置1は、被処理物に含まれる放射性セシウムを分離濃縮する装置で、放射性セシウムを含有する被処理物を集積する受入部2と、被処理物を溶融して放射性セシウムを揮散分離(除去)する溶融炉6と、溶融炉6で被処理物から揮散分離(除去)された放射性セシウムを含む飛灰を捕集する第1集塵機11を備えている。
但し、γi=1.36(χi−0.26)
ここに、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度である。
本実験では、試料の基材として模擬水田土壌を用いた。この模擬水田土壌は真砂土(砂成分)と腐葉土(腐植成分)の2mm以下粉砕物を重量比85:15で混合し、非放射性の炭酸セシウム(Cs2CO3)試薬を0.5%添加したものである。図3に基材の組成を示す。
溶流度(M値)=(L−L0)/L0×100
2:受入部
3:搬送機構
4:光学的塩基度調整装置
5:塩素系助剤添加装置
6:溶融炉
7:冷却水槽
8:排出機構
9:煙道
10:冷却装置
11:第1集塵機
12:中和剤添加装置
13:第2集塵機
Claims (17)
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により分離濃縮する放射性セシウム分離濃縮方法であって、
被処理物の光学的塩基度(光学的塩基度Λ=1−Σ(zi・ri/2)・(1−1/γi)、但し、γi=1.36(χi−0.26)、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度)と放射性セシウムの揮散率との正の相関関係に基づいて、予め組成分析により求めた被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整工程と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離工程と、
前記分離工程で揮散分離された放射性セシウムを捕集する捕集工程と、
を含む放射性セシウム分離濃縮方法。 - 前記光学的塩基度調整工程において、前記分離工程後の被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、前記分離工程の加熱処理によって揮散する光学的塩基度調整助剤の量を勘案して被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤が添加される請求項1記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤は、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、マグネシウム化合物、ホウ素化合物、鉄化合物、鉛化合物の何れかから選択される単一または複数の物質である請求項1または2記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物に塩素系助剤を添加する塩素系助剤添加工程をさらに含み、
前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量に基づいて、前記塩素系助剤添加工程で添加される塩素系助剤の添加量が設定される請求項1から3の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。 - 前記塩素系助剤添加工程で被処理物に添加される塩素系助剤は、無機塩化物、塩酸、塩素系プラスチック、焼却飛灰、溶融飛灰の何れかから選択される単一または複数の物質である請求項4記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物の加熱処理後の光学的塩基度が0.53以上になるように、前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量が調整される請求項1から5の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 前記分離工程は、被処理物を1200℃から1400℃で溶融して溶融スラグから放射性セシウムを揮散分離する工程である請求項1から5の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 前記光学的塩基度調整工程で添加される光学塩基度調整助剤は、被処理物の溶融温度を降下させる融点降下剤としての機能を備えている請求項7記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物が、土壌、下水汚泥、浚渫汚泥、一般廃棄物、産業廃棄物、農業系バイオマス、木質系バイオマス、草本系バイオマス若しくはそれらの焼却残さから選択される単一または複数の物質である請求項1から8の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により分離濃縮する放射性セシウム分離濃縮装置であって、
被処理物の光学的塩基度(光学的塩基度Λ=1−Σ(zi・ri/2)・(1−1/γi)、但し、γi=1.36(χi−0.26)、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度)と放射性セシウムの揮散率との正の相関関係に基づいて、予め組成分析により求めた被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整装置と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を溶融して放射性セシウムを揮散分離する溶融炉と、
前記溶融炉で揮散分離された放射性セシウムを含む飛灰を捕集する集塵機と、
を備えている放射性セシウム分離濃縮装置。 - 前記光学的塩基度調整装置は、前記溶融炉で溶融された被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、前記溶融炉で揮散する光学的塩基度調整助剤の量を勘案して被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する請求項10記載の放射性セシウム分離濃縮装置。
- 被処理物に塩素系助剤を添加する塩素系助剤添加装置をさらに備え、
前記光学的塩基度調整装置で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量に基づいて、前記塩素系助剤添加装置で添加される塩素系助剤の添加量が設定される請求項10または11記載の放射性セシウム分離濃縮装置。 - 被処理物が、土壌、下水汚泥、浚渫汚泥、一般廃棄物、産業廃棄物、農業系バイオマス、木質系バイオマス、草本系バイオマス若しくはそれらの焼却残さから選択される単一または複数の物質である請求項10から12の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮装置。
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により除去する放射性セシウム除去方法であって、
被処理物の光学的塩基度(光学的塩基度Λ=1−Σ(zi・ri/2)・(1−1/γi)、但し、γi=1.36(χi−0.26)、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度)と放射性セシウムの揮散率との正の相関関係に基づいて、予め組成分析により求めた被処理物の光学的塩基度が所定値以上となるように、被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整工程と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離工程と、
を含む放射性セシウム除去方法。 - 前記光学的塩基度調整工程において、前記分離工程後の被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、前記分離工程の加熱処理によって揮散する光学的塩基度調整助剤の量を勘案して被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する請求項14記載の放射性セシウム除去方法。
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により除去する放射性セシウム除去装置であって、
被処理物の光学的塩基度(光学的塩基度Λ=1−Σ(zi・ri/2)・(1−1/γi)、但し、γi=1.36(χi−0.26)、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度)と放射性セシウムの揮散率との正の相関関係に基づいて、予め組成分析により求めた被処理物の光学的塩基度が所定値以上となるように、被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整装置と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離装置と、
を備えている放射性セシウム除去装置。 - 前記光学的塩基度調整装置は、前記分離装置で加熱された被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、前記分離装置で揮散する光学的塩基度調整助剤の量を勘案して被処理物に必要量の光学的塩基度調整助剤を添加する請求項16記載の放射性セシウム除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013201894A JP6335463B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | 放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013201894A JP6335463B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | 放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015068692A JP2015068692A (ja) | 2015-04-13 |
JP6335463B2 true JP6335463B2 (ja) | 2018-05-30 |
Family
ID=52835507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013201894A Active JP6335463B2 (ja) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | 放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6335463B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5872093B1 (ja) * | 2015-06-23 | 2016-03-01 | 株式会社神鋼環境ソリューション | 放射性物質除去方法及び放射性物質除去システム |
JP6602822B2 (ja) * | 2017-07-14 | 2019-11-06 | 日立造船株式会社 | 放射性セシウムの除去方法および処理施設 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013036883A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Mitsubishi Materials Corp | 放射性セシウム処理方法 |
JP5896836B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2016-03-30 | 太平洋セメント株式会社 | 焼成物の製造方法 |
JP5767938B2 (ja) * | 2011-10-19 | 2015-08-26 | 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 | 低レベル放射性廃棄物の減容処理方法 |
JP2013088360A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Toshiba Corp | 放射性物質の除染システム及び除染方法 |
US20130123564A1 (en) * | 2011-11-16 | 2013-05-16 | J. Bradley Mason | Method and System for Stabilizing Volatile Radionuclides During Denitration at High Temperatures |
-
2013
- 2013-09-27 JP JP2013201894A patent/JP6335463B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015068692A (ja) | 2015-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6266201B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置 | |
JP5175995B1 (ja) | 土壌からの放射性セシウム除去方法 | |
JP6628282B2 (ja) | 放射性セシウムの除去方法、及び、焼成物の製造方法 | |
JP2013019734A (ja) | 汚染土壌の処理システム及び処理方法 | |
JP5772556B2 (ja) | 放射性セシウム含有無機物の処理方法 | |
Ajorloo et al. | Heavy metals removal/stabilization from municipal solid waste incineration fly ash: a review and recent trends | |
Yang et al. | Thermal treatment and vitrification of boiler ash from a municipal solid waste incinerator | |
Jimbo | Plasma melting and useful application of molten slag | |
JP6335463B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法、放射性セシウム分離濃縮装置、放射性セシウム除去方法、及び放射性セシウム除去装置 | |
JP6215390B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置 | |
JP2014132247A (ja) | セシウム除染法 | |
US5612008A (en) | Process for treating solid waste containing volatilizable inorganic contaminants | |
JP2014174090A (ja) | 焼却灰からの放射性セシウム除去方法 | |
JP6349167B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法 | |
JP2014014802A (ja) | 土壌からのセシウム除去方法 | |
JP5677608B1 (ja) | 放射性セシウムの除去方法 | |
JP5767194B2 (ja) | 放射性物質の処理システム及び処理方法 | |
JP6780084B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法 | |
JP6754341B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置 | |
JP2014174089A (ja) | 放射性セシウムを含有する可燃性廃棄物の焼却方法 | |
JP5758554B1 (ja) | 放射性セシウムの除去方法及び分離促進剤含有スラリー | |
JP6865091B2 (ja) | 放射性セシウム揮発促進方法 | |
JP5894550B2 (ja) | 土壌からの放射性セシウム除去方法 | |
JP7105104B2 (ja) | 加熱処理方法、及び加熱処理方法に用いられる無機系助剤 | |
JP6349166B2 (ja) | 放射性セシウム分離濃縮装置の運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171003 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6335463 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |