JP2015068692A - 放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置 - Google Patents
放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置 Download PDFInfo
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但し、γi=1.36(χi−0.26)
ここに、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度である。
被処理物の加熱処理後の光学的塩基度が0.53以上になるように光学的塩基度調整助剤を添加すれば、被処理物中の放射性セシウムの揮散率が非常に高くなる。
図1には、本発明による放射性セシウム分離濃縮装置が示されている。放射性セシウム分離濃縮装置1は、被処理物に含まれる放射性セシウムを分離濃縮する装置で、放射性セシウムを含有する被処理物を集積する受入部2と、被処理物を溶融して放射性セシウムを揮散分離(除去)する溶融炉6と、溶融炉6で被処理物から揮散分離(除去)された放射性セシウムを含む飛灰を捕集する第1集塵機11を備えている。
但し、γi=1.36(χi−0.26)
ここに、ziはi種カチオンの原子価であり、riは酸素1個あたりで表現したときのi種カチオンの数であり、χiはi種カチオンの電気陰性度である。
本実験では、試料の基材として模擬水田土壌を用いた。この模擬水田土壌は真砂土(砂成分)と腐葉土(腐植成分)の2mm以下粉砕物を重量比85:15で混合し、非放射性の炭酸セシウム(Cs2CO3)試薬を0.5%添加したものである。図3に基材の組成を示す。
溶流度(M値)=(L−L0)/L0×100
2:受入部
3:搬送機構
4:光学的塩基度調整装置
5:塩素系助剤添加装置
6:溶融炉
7:冷却水槽
8:排出機構
9:煙道
10:冷却装置
11:第1集塵機
12:中和剤添加装置
13:第2集塵機
Claims (13)
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により分離濃縮する放射性セシウム分離濃縮方法であって、
被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、被処理物に光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整工程と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離工程と、
前記分離工程で揮散分離された放射性セシウムを捕集する捕集工程と、
を含む放射性セシウム分離濃縮方法。 - 前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤は、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、マグネシウム化合物、ホウ素化合物、鉄化合物、鉛化合物の何れかから選択される単一または複数の物質である請求項1記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物に塩素系助剤を添加する塩素系助剤添加工程をさらに含み、
前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量に基づいて、前記塩素系助剤添加工程で添加される塩素系助剤の添加量が設定される請求項1または2記載の放射性セシウム分離濃縮方法。 - 前記塩素系助剤添加工程で被処理物に添加される塩素系助剤は、無機塩化物、塩酸、塩素系プラスチック、焼却飛灰、溶融飛灰の何れかから選択される単一または複数の物質である請求項3に記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物の加熱処理後の光学的塩基度が0.53以上になるように、前記光学的塩基度調整工程で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量が調整される請求項1から4の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 前記分離工程は、被処理物を1200℃から1400℃で溶融して溶融スラグから放射性セシウムを揮散分離する工程である請求項1から4の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 前記光学的塩基度調整工程で添加される光学塩基度調整助剤は、被処理物の溶融温度を降下させる融点降下剤としての機能を備えている請求項6記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物が、土壌、下水汚泥、浚渫汚泥、一般廃棄物、産業廃棄物、農業系バイオマス、木質系バイオマス、草本系バイオマス若しくはそれらの焼却残さから選択される単一または複数の物質である請求項1から7の何れかに記載の放射性セシウム分離濃縮方法。
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により分離濃縮する放射性セシウム分離濃縮装置であって、
被処理物の光学的塩基度が所定値以上になるように、被処理物に光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整装置と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を溶融して放射性セシウムを揮散分離する溶融炉と、
前記溶融炉で揮散分離された放射性セシウムを含む飛灰を捕集する集塵機と、
を備えている放射性セシウム分離濃縮装置。 - 被処理物に塩素系助剤を添加する塩素系助剤添加装置をさらに備え、
前記光学的塩基度調整装置で添加される光学的塩基度調整助剤の添加量に基づいて、前記塩素系助剤添加装置で添加される塩素系助剤の添加量が設定される請求項9記載の放射性セシウム分離濃縮装置。 - 被処理物が、土壌、下水汚泥、浚渫汚泥、一般廃棄物、産業廃棄物、農業系バイオマス、木質系バイオマス、草本系バイオマス若しくはそれらの焼却残さから選択される単一または複数の物質である請求項9または10記載の放射性セシウム分離濃縮装置。
- 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により除去する放射性セシウム除去方法であって、
被処理物の光学的塩基度が所定値以上となるように、被処理物に光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整工程と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離工程と、
を含む放射性セシウム除去方法。 - 被処理物に含まれる放射性セシウムを加熱処理により除去する放射性セシウム除去装置であって、
被処理物の光学的塩基度が所定値以上となるように、被処理物に光学的塩基度調整助剤を添加する光学的塩基度調整装置と、
光学的塩基度調整助剤が添加された被処理物を1200℃から1700℃に加熱して被処理物から放射性セシウムを揮散分離する分離装置と、
を備えている放射性セシウム除去装置。
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