JP6331985B2 - 形状測定装置及び方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明に係る形状測定装置の一実施形態を示す全体構成図である。
波長を一定の周期で掃引させた光を波長掃引光源12から出力させる。波長掃引光源12から出力された光は、第1の光ファイバーF1を経由してファイバーカプラ14に導かれ、ファイバーカプラ14によって測定光と参照光とに分岐される。
上記のように、測定は、測定光の走査によって、測定点を順次移動させながら連続的に行われる。本実施の形態の形状測定装置10では、測定点の切り替わりに連動して、測定光の焦点調節が行われる。この焦点合わせは、過去の測定データを利用して行われる。以下、この焦点調節の方法について説明する。
図3は、焦点調節の第1の方法の概念図である。
図5は、焦点調節の第2の方法の概念図である。
波長掃引光源を用いた干渉計測では、透明物体のように測定対象物Oが測定光を透過する場合、測定対象物Oの両面(表面及び裏面)の形状を測定することができる。
〈焦点調節部〉
上記実施の形態では、可変焦点レンズを用いて測定光の焦点調節を行う構成としているが、測定光の焦点調節を行う手段は、これに限定されるものではない。レンズを光軸方向に機械的に移動させて、焦点調節を行う構成とすることもできる。
上記実施の形態では、走査鏡を用いて測定光を走査させる構成としているが、測定光を走査させる手段は、これに限定されるものでない。この他、たとえば、ポリゴンミラーを用いて走査させる構成とすることもできる。また、MEMSミラー(MEMS : Micro Electro Mechanical System)を用いて、走査光を走査させることもできる。さらに、電気光学結晶による偏向装置によって測定光を走査させることもできる。
上記実施の形態では、コーナーキューブプリズムで参照面を構成しているが、ミラーで参照面を構成することもできる。
上記実施の形態では、分岐部及び干渉部をファイバーカプラで構成しているが、ビームスプリッターで構成することもできる。
上記実施の形態では、干渉計の構成として、マイケルソン型の干渉計の構成を採用しているが、干渉計の構成は、これに限定されるものではない。この他、たとえば、フィゾー型の干渉で構成することもできる。
測定対象物については、特に限定されるものではなく、金属やプラスチック等の種々の物体を測定対象物とすることができる。また、上記のように、測定光を透過可能な物体、たとえば、ガラスやポリマー等で構成される物体を測定対象物とすることもできる。
Claims (12)
- 波長掃引光源と、
前記波長掃引光源からの光を測定光と参照光とに分岐する分岐部と、
前記参照光を一定位置で反射する参照面と、
前記測定光の焦点位置を調節する焦点調節部と、
前記測定光を走査させて測定点を変更させる走査部と、
前記走査部を制御する走査制御部と、
測定対象面で反射した前記測定光と、前記参照面で反射した前記参照光との干渉光の強度を検出する検出部と、
前記検出部で検出される前記干渉光の強度に基づいて、前記測定光と前記参照光との光路長差を算出し、算出した前記光路長差を測長値として出力する測長部と、
前記測定点ごとに出力される前記測長値を記録する記録部と、
前記測定点ごとに出力される前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する焦点位置決定部と、
前記焦点調節部を制御して、前記焦点位置決定部で決定された焦点位置に前記測定光の焦点位置を設定する焦点位置制御部と、
を備えた形状測定装置。 - 前記焦点位置決定部は、直前の前記測定点での前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する、
請求項1に記載の形状測定装置。 - 前記焦点位置決定部は、直前の前記測定点までに取得された前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定し、推定した位置に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する、
請求項1に記載の形状測定装置。 - 前記焦点位置決定部は、直前の前記測定点までに取得された前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、線形予測法により次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定する、
請求項3に記載の形状測定装置。 - 前記焦点位置決定部は、直前の前記測定点までの前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、多項式回帰分析により次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定する、
請求項3に記載の形状測定装置。 - 測定対象物が前記測定光を透過する場合において、
前記走査制御部は、前記走査部を制御して、前記測定光を2回走査させ、
前記焦点位置決定部は、1回目の走査時は、前記測定点ごとに出力される第1の測定対象面の前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定し、2回目の走査時は、前記測定点ごとに出力される第2の測定対象面の前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定し、
前記記録部は、1回目の走査によって前記測定点ごとに出力される前記測長値を前記第1の測定対象面の前記測長値として記録し、かつ、2回目の走査によって前記測定点ごとに出力される前記測長値を前記第2の測定対象面の前記測長値として記録する、
請求項1から5のいずれか1項に記載の形状測定装置。 - 波長掃引光源からの光を測定光と参照光とに分岐し、前記測定光で測定対象面を走査し、前記測定対象面で反射した前記測定光と、参照面で反射した前記参照光との干渉光の強度を検出し、検出した前記干渉光の強度に基づいて、前記測定光と前記参照光との光路長差を算出し、算出した前記光路長差を各測定点の測長値として取得する形状測定方法において、
前記測定点ごとに取得される前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定し、決定した焦点位置に前記測定光の焦点位置を移動させた後、次の前記測定点での測定を実施する形状測定方法。 - 直前の前記測定点での前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する、
請求項7に記載の形状測定方法。 - 直前の前記測定点までに取得された前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定し、推定した位置に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する、
請求項7に記載の形状測定方法。 - 直前の前記測定点までに取得された前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、線形予測法により次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定する、
請求項9に記載の形状測定方法。 - 直前の前記測定点までの前記測定点ごとの前記測長値に基づいて、多項式回帰分析により次の前記測定点での前記測定対象面の位置を推定する、
請求項9に記載の形状測定方法。 - 測定対象物が前記測定光を透過する場合において、
前記測定光を2回走査させ、
1回目の走査時は、前記測定点ごとに出力される第1の測定対象面の前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定し、2回目の走査時は、前記測定点ごとに出力される第2の測定対象面の前記測長値に基づいて、次の前記測定点で測定する際に設定する前記測定光の焦点位置を決定する、
請求項7から11のいずれか1項に記載の形状測定方法。
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